公开(公告)号：CN112305872B

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202010737423.7

申请日：2020-07-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西川原朋史 ,  关美津留 ,  矢田裕纪 ,  远藤淳生

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。提供具备使到达光学元件的光被遮光的风险降低的气体供给机构的光学装置。该光学装置具备：第1光学元件及第2光学元件；保持部，保持第1光学元件及第2光学元件；气体供给部，朝向设置于保持部的流路供给控制温度后的气体；以及气体排出部，排出由气体供给部供给的气体，在该光学装置中，在第1光学元件和第2光学元件的排列方向上并排地配置气体排出部。

公开(公告)号：CN115857279A

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN202211024317.X

申请日：2022-08-25

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 白畑恭平 ,  羽切正人 ,  木村一贵 ,  关美津留 ,  由井友树 ,  西川友弘

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供保持装置、曝光装置以及物品制造方法。保持装置保持光学元件，其中，该保持装置具有基座、保持上述光学元件和上述基座的第1保持部、以及在与上述第1保持部保持上述光学元件的保持位置不同的位置保持上述光学元件和上述基座的第2保持部，构成为能够变更上述第1保持部以及上述第2保持部中的至少一方的刚性。

公开(公告)号：CN107003615A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201580064782.8

申请日：2015-11-17

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 佐佐木康人 ,  关美津留 ,  中岛猛

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/08 ,  G02B17/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/702 ,  G02B17/0605 ,  G02B17/0615 ,  G03B21/28 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/709

Abstract: 提供一种将物体的图像投影到像面上的投影光学系统。投影光学系统包括：包含第一凹面镜、凸面镜和第二凹面镜的成像光学系统；具有各自重新引导光路的第一反射表面和第二反射表面的光学部件；和支撑凸面镜的支撑部件。第一反射表面、第一凹面镜、凸面镜、第二凹面镜和第二反射表面在来自物面的光的行进方向上按顺序被设置。光学部件具有在面向凸面镜的一侧具有开口的通孔。支撑部件延伸贯穿通孔并且从开口延伸到凸面镜。

公开(公告)号：CN118584651A

公开(公告)日：2024-09-03

申请号：CN202410211359.7

申请日：2024-02-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西川友弘 ,  羽切正人 ,  木村一贵 ,  关美津留 ,  由井友树 ,  白畑恭平

IPC: G02B26/00 ,  G02B26/08 ,  G02B7/182 ,  G02B27/00 ,  G02B27/64 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种光学装置、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法。光学装置具备：第1凹面反射镜，具有第1反射面；第2凹面反射镜，与前述第1凹面反射镜分离地配置，所述第2凹面反射镜具有第2反射面；以及整流部，将沿着前述第2凹面反射镜的前述第2反射面流动的前述气流向前述第1凹面反射镜的前述第1反射面引导。

公开(公告)号：CN114815514A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202210076491.2

申请日：2022-01-24

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 由井友树 ,  羽切正人 ,  木村一贵 ,  西川原朋史 ,  关美津留 ,  白畑恭平

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光学系统、曝光装置以及物品制造方法。包括第1光学元件和第2光学元件的光学系统具备支承所述第1光学元件的多个第1支承部、支承所述第2光学元件的多个第2支承部、分别调整所述多个第1支承部的位置的多个第1线性调整机构以及分别调整所述多个第2支承部的位置的多个第2线性调整机构。通过由所述多个第1线性调整机构对所述多个第1支承部的位置进行的调整，所述第1光学元件至少关于第1轴被进行调整，通过由所述多个第2线性调整机构对所述多个第2支承部的位置进行的调整，所述第2光学元件至少关于与所述第1轴不同的第2轴被进行调整。

公开(公告)号：CN112305872A

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN202010737423.7

申请日：2020-07-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西川原朋史 ,  关美津留 ,  矢田裕纪 ,  远藤淳生

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。提供具备使到达光学元件的光被遮光的风险降低的气体供给机构的光学装置。该光学装置具备：第1光学元件及第2光学元件；保持部，保持第1光学元件及第2光学元件；气体供给部，朝向设置于保持部的流路供给控制温度后的气体；以及气体排出部，排出由气体供给部供给的气体，在该光学装置中，在第1光学元件和第2光学元件的排列方向上并排地配置气体排出部。

公开(公告)号：CN118818907A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202410451783.9

申请日：2024-04-16

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 由井友树 ,  羽切正人 ,  木村一贵 ,  关美津留 ,  白畑恭平 ,  西川友弘

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供保持机构、曝光装置以及物品制造方法。保持机构保持光学元件，其特征在于，具有：保持上述光学元件的保持构件；以及包括对入射到上述保持构件所保持的上述光学元件以外的部分的光进行反射的反射面的反射构件，上述反射面相对于与上述保持构件所保持的上述光学元件的光轴垂直的面倾斜地配置，上述反射面的反射率比上述保持构件的反射率高。

公开(公告)号：CN110412704B

公开(公告)日：2022-03-29

申请号：CN201910341356.4

申请日：2019-04-26

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 中岛猛 ,  户村聪 ,  羽切正人 ,  关美津留

IPC: G02B7/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光学装置、曝光装置、光学装置制造方法和物品制造方法。一种光学装置包括光学部件、被配置为支撑光学部件的支撑机构、操纵机构，该操纵机构被配置为在接触光学部件的同时操纵光学部件，使得光学部件的状态改变。通过操纵机构将光学部件从光学部件由支撑机构支撑的第一状态改变为光学部件由操纵机构支撑的第二状态。

公开(公告)号：CN110967935A

公开(公告)日：2020-04-07

申请号：CN201910902159.5

申请日：2019-09-24

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 中岛猛 ,  关美津留 ,  远藤淳生

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供一种能够通过简易的结构使投影光学系统的数值孔径变化的曝光装置以及物品的制造方法。在具有将掩模的图案投影于基板的投影光学系统的曝光装置中，在投影光学系统的曲面形状的光瞳面或者其近旁配置第一光阑和第二光阑，该第一光阑为规定第一尺寸的开口径的固定光阑，该第二光阑规定比第一尺寸小的第二尺寸的开口径。

公开(公告)号：CN110412704A

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201910341356.4

申请日：2019-04-26

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 中岛猛 ,  户村聪 ,  羽切正人 ,  关美津留

IPC: G02B7/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光学装置、曝光装置、光学装置制造方法和物品制造方法。一种光学装置包括光学部件、被配置为支撑光学部件的支撑机构、操纵机构，该操纵机构被配置为在接触光学部件的同时操纵光学部件，使得光学部件的状态改变。通过操纵机构将光学部件从光学部件由支撑机构支撑的第一状态改变为光学部件由操纵机构支撑的第二状态。