公开(公告)号：CN113253574B

公开(公告)日：2024-01-16

申请号：CN202110176119.4

申请日：2021-02-07

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 矢田裕纪

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/00

Abstract: 本发明涉及光学装置、曝光装置以及物品的制造方法。为了提供一种抑制光学性能的变化、提高镜筒的刚度、并且紧凑的光学装置，本发明的光学装置的特征在于，包括：光学元件(104a、104b)；以及镜筒(107)，具有外壁(201)、内壁(204)之间，并且与外壁(201)和内壁(204)中的至少一方结合，该镜筒用于收纳光学元件(104a、104b)，在镜筒(107)内，在外壁(201)与内壁(204)之间划定有从气体供给部件(205)供给的气体的流路(L)，并且在内壁(204)的内侧划定有收纳光学元件(104a、104b)的光学元件收纳空间(S)，气体通过流路(L)和光学元件收纳空间(S)。(204)以及肋(202)，该肋设于外壁(201)与内壁

公开(公告)号：CN112286002B

公开(公告)日：2024-08-13

申请号：CN202010704311.1

申请日：2020-07-21

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 矢田裕纪

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00

Abstract: 本发明提供光学装置、曝光装置以及物品制造方法。光学装置的特征在于，具有：镜筒，该镜筒形成有使光通过的开口；光学部件，该光学部件包括具有比上述开口的面积大的面积的表面，该光学部件以上述表面面向上述开口的方式被收容于上述镜筒；以及喷吹部，该喷吹部配置成包围上述开口，相对于上述表面喷吹具有比上述镜筒的外部的气体的清洁度高的清洁度的气体。

公开(公告)号：CN112286002A

公开(公告)日：2021-01-29

申请号：CN202010704311.1

申请日：2020-07-21

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 矢田裕纪

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00

Abstract: 本发明提供光学装置、曝光装置以及物品制造方法。光学装置的特征在于，具有：镜筒，该镜筒形成有使光通过的开口；光学部件，该光学部件包括具有比上述开口的面积大的面积的表面，该光学部件以上述表面面向上述开口的方式被收容于上述镜筒；以及喷吹部，该喷吹部配置成包围上述开口，相对于上述表面喷吹具有比上述镜筒的外部的气体的清洁度高的清洁度的气体。

公开(公告)号：CN107015341B

公开(公告)日：2020-08-21

申请号：CN201710059375.9

申请日：2017-01-24

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西川原朋史 ,  木村一贵 ,  矢田裕纪

IPC: G02B7/18 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光学设备、投影光学系统、曝光装置及物品制造方法。提供了一种用于使反射镜的反射面变形的可变形反射镜设备，该设备包括：音圈电机，其具有在与反射面相对的面上安装的磁体和在面对磁体的位置处布置的线圈；保持线圈的基准底座；传热杆，其连接到在基准底座中保持的线圈；以及收集来自传热杆的热量的流路。传热杆在与连接到线圈的端部相对的导热单元的端部处具有自由端。

公开(公告)号：CN112305872B

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202010737423.7

申请日：2020-07-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西川原朋史 ,  关美津留 ,  矢田裕纪 ,  远藤淳生

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。提供具备使到达光学元件的光被遮光的风险降低的气体供给机构的光学装置。该光学装置具备：第1光学元件及第2光学元件；保持部，保持第1光学元件及第2光学元件；气体供给部，朝向设置于保持部的流路供给控制温度后的气体；以及气体排出部，排出由气体供给部供给的气体，在该光学装置中，在第1光学元件和第2光学元件的排列方向上并排地配置气体排出部。

公开(公告)号：CN118550164A

公开(公告)日：2024-08-27

申请号：CN202410773083.1

申请日：2020-07-21

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 矢田裕纪

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00

Abstract: 本发明提供光学装置、曝光装置以及物品制造方法。光学装置的特征在于，具有：镜筒，该镜筒形成有使光通过的开口；光学部件，该光学部件包括具有比上述开口的面积大的面积的表面，该光学部件以上述表面面向上述开口的方式被收容于上述镜筒；以及喷吹部，该喷吹部配置成包围上述开口，相对于上述表面喷吹具有比上述镜筒的外部的气体的清洁度高的清洁度的气体。

公开(公告)号：CN107015341A

公开(公告)日：2017-08-04

申请号：CN201710059375.9

申请日：2017-01-24

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西川原朋史 ,  木村一贵 ,  矢田裕纪

IPC: G02B7/18 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B7/182 ,  G03F7/702

Abstract: 本发明涉及光学设备、投影光学系统、曝光装置及物品制造方法。提供了一种用于使反射镜的反射面变形的可变形反射镜设备，该设备包括：音圈电机，其具有在与反射面相对的面上安装的磁体和在面对磁体的位置处布置的线圈；保持线圈的基准底座；传热杆，其连接到在基准底座中保持的线圈；以及收集来自传热杆的热量的流路。传热杆在与连接到线圈的端部相对的导热单元的端部处具有自由端。

公开(公告)号：CN114137798A

公开(公告)日：2022-03-04

申请号：CN202111008083.5

申请日：2021-08-31

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 矢田裕纪 ,  昼间健太郎 ,  中山周吾

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光源装置、曝光装置以及物品的制造方法。降低反射镜内的温度梯度。光源装置具有：发光部；反射镜，反射来自所述发光部的光；保持部件，保持所述反射镜；以及基座，固定所述保持部件，所述保持部件与所述基座接触的接触面积小于所述保持部件与所述反射镜接触的接触面积。

公开(公告)号：CN113253574A

公开(公告)日：2021-08-13

申请号：CN202110176119.4

申请日：2021-02-07

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 矢田裕纪

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/00

Abstract: 本发明涉及光学装置、曝光装置以及物品的制造方法。为了提供一种抑制光学性能的变化、提高镜筒的刚度、并且紧凑的光学装置，本发明的光学装置的特征在于，包括：光学元件(104a、104b)；以及镜筒(107)，具有外壁(201)、内壁(204)以及肋(202)，该肋设于外壁(201)与内壁(204)之间，并且与外壁(201)和内壁(204)中的至少一方结合，该镜筒用于收纳光学元件(104a、104b)，在镜筒(107)内，在外壁(201)与内壁(204)之间划定有从气体供给部件(205)供给的气体的流路(L)，并且在内壁(204)的内侧划定有收纳光学元件(104a、104b)的光学元件收纳空间(S)，气体通过流路(L)和光学元件收纳空间(S)。

公开(公告)号：CN112305872A

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN202010737423.7

申请日：2020-07-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西川原朋史 ,  关美津留 ,  矢田裕纪 ,  远藤淳生

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。提供具备使到达光学元件的光被遮光的风险降低的气体供给机构的光学装置。该光学装置具备：第1光学元件及第2光学元件；保持部，保持第1光学元件及第2光学元件；气体供给部，朝向设置于保持部的流路供给控制温度后的气体；以及气体排出部，排出由气体供给部供给的气体，在该光学装置中，在第1光学元件和第2光学元件的排列方向上并排地配置气体排出部。