公开(公告)号：CN115857279A

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN202211024317.X

申请日：2022-08-25

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 白畑恭平 ,  羽切正人 ,  木村一贵 ,  关美津留 ,  由井友树 ,  西川友弘

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供保持装置、曝光装置以及物品制造方法。保持装置保持光学元件，其中，该保持装置具有基座、保持上述光学元件和上述基座的第1保持部、以及在与上述第1保持部保持上述光学元件的保持位置不同的位置保持上述光学元件和上述基座的第2保持部，构成为能够变更上述第1保持部以及上述第2保持部中的至少一方的刚性。

公开(公告)号：CN118818907A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202410451783.9

申请日：2024-04-16

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 由井友树 ,  羽切正人 ,  木村一贵 ,  关美津留 ,  白畑恭平 ,  西川友弘

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供保持机构、曝光装置以及物品制造方法。保持机构保持光学元件，其特征在于，具有：保持上述光学元件的保持构件；以及包括对入射到上述保持构件所保持的上述光学元件以外的部分的光进行反射的反射面的反射构件，上述反射面相对于与上述保持构件所保持的上述光学元件的光轴垂直的面倾斜地配置，上述反射面的反射率比上述保持构件的反射率高。

公开(公告)号：CN118584651A

公开(公告)日：2024-09-03

申请号：CN202410211359.7

申请日：2024-02-27

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西川友弘 ,  羽切正人 ,  木村一贵 ,  关美津留 ,  由井友树 ,  白畑恭平

IPC: G02B26/00 ,  G02B26/08 ,  G02B7/182 ,  G02B27/00 ,  G02B27/64 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种光学装置、投影光学系统、曝光装置和物品制造方法。光学装置具备：第1凹面反射镜，具有第1反射面；第2凹面反射镜，与前述第1凹面反射镜分离地配置，所述第2凹面反射镜具有第2反射面；以及整流部，将沿着前述第2凹面反射镜的前述第2反射面流动的前述气流向前述第1凹面反射镜的前述第1反射面引导。

公开(公告)号：CN114815514A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202210076491.2

申请日：2022-01-24

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 由井友树 ,  羽切正人 ,  木村一贵 ,  西川原朋史 ,  关美津留 ,  白畑恭平

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光学系统、曝光装置以及物品制造方法。包括第1光学元件和第2光学元件的光学系统具备支承所述第1光学元件的多个第1支承部、支承所述第2光学元件的多个第2支承部、分别调整所述多个第1支承部的位置的多个第1线性调整机构以及分别调整所述多个第2支承部的位置的多个第2线性调整机构。通过由所述多个第1线性调整机构对所述多个第1支承部的位置进行的调整，所述第1光学元件至少关于第1轴被进行调整，通过由所述多个第2线性调整机构对所述多个第2支承部的位置进行的调整，所述第2光学元件至少关于与所述第1轴不同的第2轴被进行调整。