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公开(公告)号：CN102804067A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201080027088.6
申请日：2010-05-28
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/032 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/10 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , G03F7/029 , G03F7/033 , Y10T428/24802
Abstract: 具有可成像层的阴图制版可成像元件，所述可成像层包含可自由基聚合组分；引发剂组合物，其一经暴露于成像辐射，能够产生足以引发可自由基聚合组分聚合的自由基；吸收辐射的化合物；一种或更多种聚合物粘合剂；以及至少5重量％的芯-壳颗粒，其包含疏水性聚合物芯和与该聚合物芯共价结合的亲水性聚合物壳。亲水性聚合物壳具有一种或更多种两性离子官能团。例如通过红外激光可使这些元件成像，以提供平版印刷印版。
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公开(公告)号：CN101861245A
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200880102901.4
申请日：2008-08-04
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/42 , Y10S430/145
Abstract: 正性工作可成像元件包含辐射吸收性化合物和在具有亲水性表面的基材上的内层和外层。所述内层包含由结构(I)表示的特定聚合物粘结剂：-(A)w-(B)x-(C)y-(D)z-(I)其中A表示衍生自一种或多种N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺或(烷基)丙烯酸烷氧基甲基酯的重复单元，B表示衍生自一种或多种含侧氰基的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，C表示衍生自一种或多种含一个或多个羧基、磺酸或磷酸酯基的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，D表示衍生自一种或多种除由A、B和C表示的那些以外的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，w是3-80wt％，x是10-85wt％，y是2-80wt％，z是10-85wt％。
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公开(公告)号：CN101835610A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200880112877.2
申请日：2008-10-16
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/08 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/26 , B41C2210/266 , B41M5/368
Abstract: 一种负性工作可成像组合物和元件，其包括引发剂组合物、红外辐射吸收性化合物、聚合粘结剂和稳定化组合物。所述成像元件可以在机显影，并且在高湿度条件下显示改善的保存期稳定性。所述稳定化组合物包含至少一个结构(ST-I)代表的化合物和至少一个结构(ST-II)代表的化合物：其中，m为1或2，n为1-50，m为1时R为氢，R1-R3独立地为氢或甲基，L为脂肪族、碳环、杂环、杂原子的二价连接基团，或其组合。
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公开(公告)号：CN101370660A
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN200780002943.6
申请日：2007-01-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
Abstract: 阳图制版可成像元件包含辐射吸收化合物和在具有亲水性表面的底材上的内层和外层。内层包含可使用碱性显影剂移除且包含主链和由以下结构(Q)表示的附接基团的聚合物材料，其中L1、L2和L3独立地表示连接基团，T1、T2和T3独立地表示端基，且a、b和c独立地为0或1。所述可成像元件具有改善的耐显影和印刷化学品和溶剂性。
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公开(公告)号：CN101528465B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN200780038955.4
申请日：2007-10-05
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2201/04 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/368 , Y10S430/165
Abstract: 本发明涉及正性可成像元件，所述元件包含辐射吸收化合物和具有亲水表面的基材上的内层和外层。所述内层包含两种不同的聚合物基料的组合，其中一种基料的酸值至少为30，所述聚合物组合提供改进的显影后可烘烤性(在更低的温度下更快地烘烤或固化)和理想的数字成像速度而无耐化学品性的损失。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102143843B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN200980134582.X
申请日：2009-08-21
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/04 , B41C2210/08 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , G03F7/3035 , Y10T428/24802
Abstract: 负性工作可成像元件可以经成像和冲洗而提供平版印刷板，特别是与硫酸阳极化的铝基材一起提供。这些元件具有可成像最外层，该可成像最外层含有两种不同的聚合物粘结剂，即任选作为离散颗粒存在的主聚合物粘结剂，和包含具有小于60mol%的水解度的聚（乙酸乙烯酯）的副聚合物粘结剂。这些可成像元件可以设计用于印刷机外或印刷机上显影。
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公开(公告)号：CN101548239B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200780044806.9
申请日：2007-11-27
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/033 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/08 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , Y10S430/115 , Y10S430/117 , Y10S522/904
Abstract: 辐射敏感性组合物和负性可成像元件包括聚合物粘结剂，该聚合物粘结剂具有疏水性主链和侧挂盐基，该侧挂盐基包含与该疏水性主链共价连接的阳离子和与该阳离子形成盐的含硼阴离子。这些特定聚合物的使用提供快速数字速度(高成像灵敏性)和良好的可印刷性(良好的储存期限)，甚至当省去常用于曝光和显影之间的预热步骤时仍如此。
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公开(公告)号：CN102143843A
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200980134582.X
申请日：2009-08-21
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/04 , B41C2210/08 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , G03F7/3035 , Y10T428/24802
Abstract: 负性工作可成像元件可以经成像和冲洗而提供平版印刷板，特别是与硫酸阳极化的铝基材一起提供。这些元件具有可成像最外层，该可成像最外层含有两种不同的聚合物粘结剂，即任选作为离散颗粒存在的主聚合物粘结剂，和包含具有小于60mol%的水解度的聚（乙酸乙烯酯）的副聚合物粘结剂。这些可成像元件可以设计用于印刷机外或印刷机上显影。
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公开(公告)号：CN101632041A
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200780031821.X
申请日：2007-08-20
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/322 , B41C1/1008 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/10 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41N3/06
Abstract: 负性工作的可成像元件可在成像后用pH值低的有机基的单相显影剂进行显影，该显影剂的毒性和腐蚀性较低，且在使用后可更方便地对其进行显影。该显影剂的pH值小于12，且包含a)含有含氮杂环的两性表面活性剂，b)具有两个或多个氮原子的两性表面活性剂，或者c)a)的两性表面活性剂和b)的两性表面活性剂。
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公开(公告)号：CN101384962A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200780005613.2
申请日：2007-02-06
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/033 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 负性工作辐射敏感性组合物包括聚合物粘结剂，该聚合物粘结剂包括聚合物主链和与该聚合物主链连接的由结构(I)表示的咔唑衍生物，其中Y是直接键或连接基，R1－R8独立地是氢，或烷基、烯基、芳基、卤素、氰基、烷氧基、酰基、酰氧基或羧酸酯基，或任何相邻的R1至R8基团可以一同形成碳环或杂环基团或稠合芳族环。该组合物能对最大波长为150－1500nm的辐射敏感，并且可以用来制备负性工作可成像元件，该可成像元件成像和显影为平版印刷板。
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