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公开(公告)号：CN101528465B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN200780038955.4
申请日：2007-10-05
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2201/04 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/368 , Y10S430/165
Abstract: 本发明涉及正性可成像元件，所述元件包含辐射吸收化合物和具有亲水表面的基材上的内层和外层。所述内层包含两种不同的聚合物基料的组合，其中一种基料的酸值至少为30，所述聚合物组合提供改进的显影后可烘烤性(在更低的温度下更快地烘烤或固化)和理想的数字成像速度而无耐化学品性的损失。
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公开(公告)号：CN102216079A
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200980146813.9
申请日：2009-11-12
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41C2210/266
Abstract: 对红外辐射敏感的阳图制版可成像元件具有衬底和单一可成像层，所述可成像层在其主链中包含具有氨基甲酸酯或脲部分的第一聚合物连接料。所述聚合物连接料还不溶于水中且可溶于弱碱性溶液中。可使这种可成像元件成像，并使用不含硅酸盐和偏硅酸盐的弱碱性处理溶液进行处理，所述处理溶液还可用于将成像且显影的印刷表面“上胶”。
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公开(公告)号：CN101528465A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780038955.4
申请日：2007-10-05
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2201/04 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/368 , Y10S430/165
Abstract: 本发明涉及正性可成像元件，所述元件包含辐射吸收化合物和具有亲水表面的基材上的内层和外层。所述内层包含两种不同的聚合物基料的组合，其中一种基料的酸值至少为30，所述聚合物组合提供改进的显影后可烘烤性(在更低的温度下更快地烘烤或固化)和理想的数字成像速度而无耐化学品性的损失。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101321632A
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：CN200680045164.X
申请日：2006-11-21
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/368 , G03F7/033 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
Abstract: 本发明涉及单层和多层的可成像元件，其具有基材和至少一层可成像层。这些元件可以用于制备负性或正性工作的成像元件，例如作为石印板。可成像元件还包含辐射吸收性化合物和耐溶剂聚合物，所述聚合物含有聚合物主链和磷酸侧基、金刚烷基侧基或这两种侧基。当此聚合物含有金刚烷基侧基时，这些侧基经由脲或氨酯连接基与所述聚合物的主链连接。由于存在独特的耐溶剂聚合物，可成像元件具有改进的耐化学品性和热烘烤性。
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公开(公告)号：CN101861245A
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200880102901.4
申请日：2008-08-04
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/42 , Y10S430/145
Abstract: 正性工作可成像元件包含辐射吸收性化合物和在具有亲水性表面的基材上的内层和外层。所述内层包含由结构(I)表示的特定聚合物粘结剂：-(A)w-(B)x-(C)y-(D)z-(I)其中A表示衍生自一种或多种N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺或(烷基)丙烯酸烷氧基甲基酯的重复单元，B表示衍生自一种或多种含侧氰基的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，C表示衍生自一种或多种含一个或多个羧基、磺酸或磷酸酯基的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，D表示衍生自一种或多种除由A、B和C表示的那些以外的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，w是3-80wt％，x是10-85wt％，y是2-80wt％，z是10-85wt％。
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公开(公告)号：CN101861245B
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：CN200880102901.4
申请日：2008-08-04
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/42 , Y10S430/145
Abstract: 正性工作可成像元件包含辐射吸收性化合物和在具有亲水性表面的基材上的内层和外层。所述内层包含由结构(I)表示的特定聚合物粘结剂：-(A)w-(B)x-(C)y-(D)z-(I)其中A表示衍生自一种或多种N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺或(烷基)丙烯酸烷氧基甲基酯的重复单元，B表示衍生自一种或多种含侧氰基的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，C表示衍生自一种或多种含一个或多个羧基、磺酸或磷酸酯基的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，D表示衍生自一种或多种除由A、B和C表示的那些以外的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，w是3-80wt％，x是10-85wt％，y是2-80wt％，z是10-85wt％。
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公开(公告)号：CN101035820A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200580034032.2
申请日：2005-09-21
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: C08F220/42 , C08F220/44 , B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , C08F212/10 , C08F220/44 , C08L83/04 , C09D125/14 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/165 , C08L2666/14
Abstract: 公开了可用作平版印版前体的多层热可成像元件。该可成像元件包括基材、基材之上的底层、基材之上的底层和底层之上的顶层。顶层含有亚烷基二醇侧链、聚亚烷基二醇侧链、具有用三个烷氧基和/或苯氧基取代的甲硅烷基的侧链和/或具有烷基铵侧链的侧链的共聚物。该可成像元件对印刷车间化学品具有优异的耐受性。
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公开(公告)号：CN102216079B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN200980146813.9
申请日：2009-11-12
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41C2210/266
Abstract: 对红外辐射敏感的阳图制版可成像元件具有衬底和单一可成像层，所述可成像层在其主链中包含具有氨基甲酸酯或脲部分的第一聚合物连接料。所述聚合物连接料还不溶于水中且可溶于弱碱性溶液中。可使这种可成像元件成像，并使用不含硅酸盐和偏硅酸盐的弱碱性处理溶液进行处理，所述处理溶液还可用于将成像且显影的印刷表面“上胶”。
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