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公开(公告)号：CN101370660A
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN200780002943.6
申请日：2007-01-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
Abstract: 阳图制版可成像元件包含辐射吸收化合物和在具有亲水性表面的底材上的内层和外层。内层包含可使用碱性显影剂移除且包含主链和由以下结构(Q)表示的附接基团的聚合物材料，其中L1、L2和L3独立地表示连接基团，T1、T2和T3独立地表示端基，且a、b和c独立地为0或1。所述可成像元件具有改善的耐显影和印刷化学品和溶剂性。
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公开(公告)号：CN101495920A
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200780028508.0
申请日：2007-07-23
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/033 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/08 , B41C2210/10 , B41C2210/12 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , C08F8/14 , C08F2810/30 , C09D4/06 , G03F7/0388 , Y10S430/111 , Y10S430/165 , C08F220/02
Abstract: 本发明涉及一种含聚合物基料的辐射敏感组合物和负性可成像元件，所述聚合物基料包含烯丙基酯侧基以提供耐溶剂性、优异的数字成像速度(敏感性)，并可无需预热步骤地成像和显影以提供平版印刷印版。所述聚合物基料可用含羧基侧基的前体聚合物制备，其中所述羧基侧基用含烯丙基的卤化物在碱的存在下转化为烯丙基酯基以避免凝胶化。
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公开(公告)号：CN101548239B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200780044806.9
申请日：2007-11-27
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/033 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/08 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , Y10S430/115 , Y10S430/117 , Y10S522/904
Abstract: 辐射敏感性组合物和负性可成像元件包括聚合物粘结剂，该聚合物粘结剂具有疏水性主链和侧挂盐基，该侧挂盐基包含与该疏水性主链共价连接的阳离子和与该阳离子形成盐的含硼阴离子。这些特定聚合物的使用提供快速数字速度(高成像灵敏性)和良好的可印刷性(良好的储存期限)，甚至当省去常用于曝光和显影之间的预热步骤时仍如此。
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公开(公告)号：CN101632041A
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200780031821.X
申请日：2007-08-20
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/322 , B41C1/1008 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/10 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41N3/06
Abstract: 负性工作的可成像元件可在成像后用pH值低的有机基的单相显影剂进行显影，该显影剂的毒性和腐蚀性较低，且在使用后可更方便地对其进行显影。该显影剂的pH值小于12，且包含a)含有含氮杂环的两性表面活性剂，b)具有两个或多个氮原子的两性表面活性剂，或者c)a)的两性表面活性剂和b)的两性表面活性剂。
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公开(公告)号：CN101384962A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200780005613.2
申请日：2007-02-06
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/033 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 负性工作辐射敏感性组合物包括聚合物粘结剂，该聚合物粘结剂包括聚合物主链和与该聚合物主链连接的由结构(I)表示的咔唑衍生物，其中Y是直接键或连接基，R1－R8独立地是氢，或烷基、烯基、芳基、卤素、氰基、烷氧基、酰基、酰氧基或羧酸酯基，或任何相邻的R1至R8基团可以一同形成碳环或杂环基团或稠合芳族环。该组合物能对最大波长为150－1500nm的辐射敏感，并且可以用来制备负性工作可成像元件，该可成像元件成像和显影为平版印刷板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100448669C
公开(公告)日：2009-01-07
申请号：CN200480019151.6
申请日：2004-06-29
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/04 , B41C2210/08 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/465 , B41N1/083 , B41N1/20 , Y10S430/145 , Y10S430/146 , Y10S430/165
Abstract: 本发明公开了硫酸化聚合物、含有这些聚合物的可成象元件以及由这些可成象元件制备用作平版印版的图象的方法。所述元件可热成象并在水或润版液中显影，不需要碱性显影剂。可使用润版液在印刷机上成象和显影，不必要安装在单独的曝光装置中。
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公开(公告)号：CN101454722B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200780019287.0
申请日：2007-05-14
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41M5/368 , G03F7/029 , G03F7/038 , Y10S430/107 , Y10S430/111 , Y10S430/115 , Y10S430/117 , Y10S430/126
Abstract: 一种辐射敏感组合物，包含可自由基聚合的组份和当曝光于成像辐射时能够产生足以引发可自由基聚合组份聚合的自由基的碘鎓硼酸盐引发剂组合物。该碘鎓硼酸盐引发剂组合物包含具有有机取代基的特定的二芳基碘鎓硼酸盐化合物，以在碘鎓阳离子苯环上提供总数至少为6个的碳原子。此组合物可以涂覆于合适的基材上以提供负性可成像元件，该元件具有提高的数字速度和良好的保存寿命，并可以被成像以提供平板印刷板。所述成像元件可使用碱性显影剂联机或脱机显影。
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公开(公告)号：CN101370660B
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN200780002943.6
申请日：2007-01-09
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/165
Abstract: 阳图制版可成像元件包含辐射吸收化合物和在具有亲水性表面的底材上的内层和外层。内层包含可使用碱性显影剂移除且包含主链和由以下结构(Q)表示的附接基团的聚合物材料，其中L1、L2和L3独立地表示连接基团，T1、T2和T3独立地表示端基，且a、b和c独立地为0或1。所述可成像元件具有改善的耐显影和印刷化学品和溶剂性。
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公开(公告)号：CN101548239A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200780044806.9
申请日：2007-11-27
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/033 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/08 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , Y10S430/115 , Y10S430/117 , Y10S522/904
Abstract: 辐射敏感性组合物和负性可成像元件包括聚合物粘结剂，该聚合物粘结剂具有疏水性主链和侧挂盐基，该侧挂盐基包含与该疏水性主链共价连接的阳离子和与该阳离子形成盐的含硼阴离子。这些特定聚合物的使用提供快速数字速度(高成像灵敏性)和良好的可印刷性(良好的储存期限)，甚至当省去常用于曝光和显影之间的预热步骤时仍如此。
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公开(公告)号：CN101035820A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200580034032.2
申请日：2005-09-21
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: C08F220/42 , C08F220/44 , B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , C08F212/10 , C08F220/44 , C08L83/04 , C09D125/14 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/165 , C08L2666/14
Abstract: 公开了可用作平版印版前体的多层热可成像元件。该可成像元件包括基材、基材之上的底层、基材之上的底层和底层之上的顶层。顶层含有亚烷基二醇侧链、聚亚烷基二醇侧链、具有用三个烷氧基和/或苯氧基取代的甲硅烷基的侧链和/或具有烷基铵侧链的侧链的共聚物。该可成像元件对印刷车间化学品具有优异的耐受性。
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