-
公开(公告)号：CN101861245A
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200880102901.4
申请日：2008-08-04
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/42 , Y10S430/145
Abstract: 正性工作可成像元件包含辐射吸收性化合物和在具有亲水性表面的基材上的内层和外层。所述内层包含由结构(I)表示的特定聚合物粘结剂：-(A)w-(B)x-(C)y-(D)z-(I)其中A表示衍生自一种或多种N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺或(烷基)丙烯酸烷氧基甲基酯的重复单元，B表示衍生自一种或多种含侧氰基的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，C表示衍生自一种或多种含一个或多个羧基、磺酸或磷酸酯基的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，D表示衍生自一种或多种除由A、B和C表示的那些以外的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，w是3-80wt％，x是10-85wt％，y是2-80wt％，z是10-85wt％。
-
公开(公告)号：CN101861245B
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：CN200880102901.4
申请日：2008-08-04
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41M5/42 , Y10S430/145
Abstract: 正性工作可成像元件包含辐射吸收性化合物和在具有亲水性表面的基材上的内层和外层。所述内层包含由结构(I)表示的特定聚合物粘结剂：-(A)w-(B)x-(C)y-(D)z-(I)其中A表示衍生自一种或多种N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺或(烷基)丙烯酸烷氧基甲基酯的重复单元，B表示衍生自一种或多种含侧氰基的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，C表示衍生自一种或多种含一个或多个羧基、磺酸或磷酸酯基的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，D表示衍生自一种或多种除由A、B和C表示的那些以外的烯属不饱和可聚合单体的重复单元，w是3-80wt％，x是10-85wt％，y是2-80wt％，z是10-85wt％。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102216079B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN200980146813.9
申请日：2009-11-12
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41C2210/266
Abstract: 对红外辐射敏感的阳图制版可成像元件具有衬底和单一可成像层，所述可成像层在其主链中包含具有氨基甲酸酯或脲部分的第一聚合物连接料。所述聚合物连接料还不溶于水中且可溶于弱碱性溶液中。可使这种可成像元件成像，并使用不含硅酸盐和偏硅酸盐的弱碱性处理溶液进行处理，所述处理溶液还可用于将成像且显影的印刷表面“上胶”。
-
公开(公告)号：CN102470664B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201080036041.6
申请日：2010-08-16
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , G03F7/092
Abstract: 已设计平版印版前体，使得它们可以在各前体之间无衬纸的情况下储存、运送和使用。这通过将平均直径为3至20μm的聚合物颗粒掺入到最外前体层例如可成像层或顶涂层中来实现。该聚合物颗粒包括交联聚合物芯，并具有接枝的亲水性聚合物表面基团，所述聚合物表面基团通过在交联聚合物颗粒存在下使亲水性单体聚合而接枝到所述颗粒表面上。该平版印版可以是阴图制版元件或阳图制版元件。
-
公开(公告)号：CN101479663A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200780024226.3
申请日：2007-06-13
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/027 , B41C1/1008 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/08 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41M5/368 , B41N1/083 , G03F7/033 , G03F7/085
Abstract: 辐射－敏感性组合物包括可自由基聚合组分和能够在曝光于成像辐射时产生足以引发可自由基聚合组分的聚合的自由基的引发剂组合物。该组合物还包括辐射吸收化合物、具有聚(亚烷基二醇)侧链的聚合物粘合剂、和分子量为至少250的非离子磷酸酯丙烯酸酯。该组合物可以用于制备负性工作可成像组件，其对适宜成像辐射敏感且可以以较低能量成像、显影为印刷机内或是印刷机外、并随后用于印刷，无需曝光后烘焙步骤。
-
公开(公告)号：CN102470664A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080036041.6
申请日：2010-08-16
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , G03F7/092
Abstract: 已设计平版印版前体，使得它们可以在各前体之间无衬纸的情况下储存、运送和使用。这通过将平均直径为3至20μm的聚合物颗粒掺入到最外前体层例如可成像层或顶涂层中来实现。该聚合物颗粒包括交联聚合物芯，并具有接枝的亲水性聚合物表面基团，所述聚合物表面基团通过在交联聚合物颗粒存在下使亲水性单体聚合而接枝到所述颗粒表面上。该平版印版可以是阴图制版元件或阳图制版元件。
-
公开(公告)号：CN102216079A
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200980146813.9
申请日：2009-11-12
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: B41C1/10
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41C2210/266
Abstract: 对红外辐射敏感的阳图制版可成像元件具有衬底和单一可成像层，所述可成像层在其主链中包含具有氨基甲酸酯或脲部分的第一聚合物连接料。所述聚合物连接料还不溶于水中且可溶于弱碱性溶液中。可使这种可成像元件成像，并使用不含硅酸盐和偏硅酸盐的弱碱性处理溶液进行处理，所述处理溶液还可用于将成像且显影的印刷表面“上胶”。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.021 seconds)
