公开(公告)号：CN101632041A

公开(公告)日：2010-01-20

申请号：CN200780031821.X

申请日：2007-08-20

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： T·陶 ,  K·B·雷 ,  S·A·贝克利 ,  P·R·韦斯特

IPC: G03F7/32 ,  B41C1/10

CPC classification number: G03F7/322 ,  B41C1/1008 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/10 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41N3/06

Abstract: 负性工作的可成像元件可在成像后用pH值低的有机基的单相显影剂进行显影，该显影剂的毒性和腐蚀性较低，且在使用后可更方便地对其进行显影。该显影剂的pH值小于12，且包含a)含有含氮杂环的两性表面活性剂，b)具有两个或多个氮原子的两性表面活性剂，或者c)a)的两性表面活性剂和b)的两性表面活性剂。

公开(公告)号：CN101479663A

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：CN200780024226.3

申请日：2007-06-13

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： H·M·蒙内利 ,  S·萨雷亚 ,  K·D·惠兰 ,  F·E·米克尔 ,  P·R·韦斯特

IPC: G03F7/033 ,  G03F7/085

CPC classification number: G03F7/027 ,  B41C1/1008 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/08 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41M5/368 ,  B41N1/083 ,  G03F7/033 ,  G03F7/085

Abstract: 辐射－敏感性组合物包括可自由基聚合组分和能够在曝光于成像辐射时产生足以引发可自由基聚合组分的聚合的自由基的引发剂组合物。该组合物还包括辐射吸收化合物、具有聚(亚烷基二醇)侧链的聚合物粘合剂、和分子量为至少250的非离子磷酸酯丙烯酸酯。该组合物可以用于制备负性工作可成像组件，其对适宜成像辐射敏感且可以以较低能量成像、显影为印刷机内或是印刷机外、并随后用于印刷，无需曝光后烘焙步骤。

公开(公告)号：CN101185029A

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：CN200680018432.9

申请日：2006-05-15

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： E·奈特 ,  P·R·韦斯特

IPC: G03F7/085 ,  G03F7/11 ,  B41C1/10 ,  B41M5/40 ,  G03F7/033

CPC classification number: G03F7/085 ,  B41C1/1008 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/08 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  B41C2210/264 ,  B41C2210/266 ,  G03F7/033 ,  G03F7/11 ,  Y10S430/145 ,  Y10S430/146

Abstract: 本发明提供一种包括平版印刷基底和布置在基底上的可成像层的可成像元件。该可成像层包括可自由基聚合的组分、引发剂体系和聚合物粘合剂。该可成像元件进一步包括四芳基硼酸盐。四芳基硼酸盐的存在可提供改善的成像速度，并由于可成像层和基底之间更好的粘结而可以提高印刷寿命。四芳基硼酸盐可存在于可成像层、中间层或基底和可成像层之间的隔离层中。该可成像元件可以不经单独的显影步骤成像和安装在印刷机上。