公开(公告)号：CN101384962A

公开(公告)日：2009-03-11

申请号：CN200780005613.2

申请日：2007-02-06

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： T·陶 ,  P·R·维斯特 ,  S·A·贝克利 ,  N·R·米勒

IPC: G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033

CPC classification number: G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 负性工作辐射敏感性组合物包括聚合物粘结剂，该聚合物粘结剂包括聚合物主链和与该聚合物主链连接的由结构(I)表示的咔唑衍生物，其中Y是直接键或连接基，R1－R8独立地是氢，或烷基、烯基、芳基、卤素、氰基、烷氧基、酰基、酰氧基或羧酸酯基，或任何相邻的R1至R8基团可以一同形成碳环或杂环基团或稠合芳族环。该组合物能对最大波长为150－1500nm的辐射敏感，并且可以用来制备负性工作可成像元件，该可成像元件成像和显影为平版印刷板。