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公开(公告)号:CN102272937B
公开(公告)日:2014-03-26
申请号:CN201080002210.4
申请日:2010-03-29
Applicant: 京瓷株式会社
IPC: H01L31/18 , H01L31/032
CPC classification number: H01L31/0322 , Y02E10/541 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种光电转换装置的制法,其包括:向含有包含I-B族元素、III-B族元素和硫属元素的单源前体的有机溶剂中,添加III-B族元素的硫属化物粉末,制作半导体形成用溶液的工序;使用所述半导体形成用溶液来形成含有I-III-VI族化合物的半导体的工序。
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公开(公告)号:CN115461574A
公开(公告)日:2022-12-09
申请号:CN202180030663.6
申请日:2021-04-23
Applicant: 京瓷株式会社
IPC: F21V19/00 , F21S41/19 , F21W102/00 , F21Y115/10
Abstract: 基板支承体(A1、B1、C1、D1)具有支承板(1)、包围构件(3)以及接合件(5),包围构件(3)配置于支承板(1),接合件(5)配置于包围构件(3)的内侧区域(3a)的整个面,并与支承板(1)接合。
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公开(公告)号:CN102362339B
公开(公告)日:2014-03-26
申请号:CN201080012699.3
申请日:2010-07-27
Applicant: 京瓷株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L31/032 , H01L27/142
CPC classification number: H01L31/0322 , H01L21/02491 , H01L21/02568 , H01L21/02628 , H01L31/046 , Y02E10/541 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种化合物半导体的制造方法、光电转换装置的制造方法以及半导体形成用溶液。化合物半导体层的制造方法具备如下步骤:使包含I-B族元素及III-B族元素中至少一方的金属原料以金属状态溶解于包含含有硫属元素的有机化合物及路易斯碱性有机化合物的混合溶剂中以制作半导体形成用溶液的步骤;使用该半导体形成用溶液制作皮膜的步骤;以及对该皮膜进行热处理的步骤。
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公开(公告)号:CN114223066A
公开(公告)日:2022-03-22
申请号:CN202080057047.5
申请日:2020-08-26
Applicant: 京瓷株式会社
Abstract: 具有基板(1)、绝缘层(3)以及金属层(5),绝缘层(3)具有在厚度方向上贯通的贯通孔(7)且设置于基板(1)上,金属层(5)配置在基板(1)上的至少贯通孔(7)内,且具有从基板(1)上沿着贯通孔(7)的内壁(9)延伸的突出部(11)。突出部(11)呈连结了金属粒子(13)的连结体的形状。绝缘层(3)的内壁(9)在接近基板(1)的一侧具有贯通孔(7)的宽度变宽的倾斜面(9a),突出部(11)与倾斜面(9a)相接。
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公开(公告)号:CN102362339A
公开(公告)日:2012-02-22
申请号:CN201080012699.3
申请日:2010-07-27
Applicant: 京瓷株式会社
IPC: H01L21/368 , H01L31/04
CPC classification number: H01L31/0322 , H01L21/02491 , H01L21/02568 , H01L21/02628 , H01L31/046 , Y02E10/541 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种化合物半导体的制造方法、光电转换装置的制造方法以及半导体形成用溶液。化合物半导体层的制造方法具备如下步骤:使包含I-B族元素及III-B族元素中至少一方的金属原料以金属状态溶解于包含含有硫属元素的有机化合物及路易斯碱性有机化合物的混合溶剂中以制作半导体形成用溶液的步骤;使用该半导体形成用溶液制作皮膜的步骤;以及对该皮膜进行热处理的步骤。
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