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发明公开
蓝宝石图形衬底的制备方法无效

公开(公告)号：CN103219437A

公开(公告)日：2013-07-24

申请号：CN201310141878.2

申请日：2013-04-22

Applicant: 中国科学院半导体研究所

Inventor： 段瑞飞 , 季安 , 伊晓燕 , 王莉 , 樊中朝 , 郭金霞 , 潘岭峰 , 黄亚军 , 赵冀 , 李镇

IPC: H01L33/00

Abstract: 本发明公开了一种蓝宝石图形衬底的制备方法，其包括如下步骤：步骤1：在蓝宝石衬底表面形成掩膜层；步骤2：将掩膜层图形化，形成掩膜图形；步骤3：利用干法刻蚀具有掩膜图形的蓝宝石衬底，并形成与所述掩膜图形对应的原始凸起；步骤4：利用湿法修饰所述原始凸起的表面，使其表面粗化形成最终的凸起图形。该制备方法利用干法刻蚀技术制备出图形形貌可控，均匀性、稳定性好的图形衬底中间产品，后续使用湿法腐蚀去除物理损伤改善表面反射率，进一步提高LED出光效率。

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