一种平面型红外探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN119907332A

    公开(公告)日:2025-04-29

    申请号:CN202411973631.1

    申请日:2024-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种平面型红外探测器及其制备方法,所述红外探测器包括衬底以及衬底上依次生长的缓冲层、N型掺杂接触层、超晶格吸收层和本征接触层,由此形成叠层结构;还包括第一电极和第二电极,所述第一电极位于本征接触层上形成的扩散区域内,所述第二电极位于N型掺杂接触层上形成的凹陷区域内。本发明通过在本征接触层中进行P型扩散形成光电响应通道,由此形成平面型PN结,能够消除探测器的侧壁漏电流,并提高光子注入效率。此外,相较于传统的台面型探测器,本发明减少了钝化处理工艺,有效降低了生产成本,提高了产品良品率。

    双极势垒短波红外探测器及制备方法

    公开(公告)号:CN116936659A

    公开(公告)日:2023-10-24

    申请号:CN202311016794.6

    申请日:2023-08-14

    Abstract: 一种双极势垒短波红外探测器及制备方法,该双极势垒短波红外探测器包括:衬底;缓冲层,形成于衬底上;第一接触层,形成于缓冲层上,叠层结构,形成于第一接触层上,且与第一接触层形成台面,叠层结构包括:空穴势垒层,形成于第一接触层上;光吸收层,形成于空穴势垒层上,光吸收层适用于吸收外部的短波红外光,并产生电子和空穴;电子势垒层,形成于光吸收层上;第二接触层,形成于电子势垒层上;第一电极,形成于第一接触层上,且位于叠层结构的两侧,第一电极和第一接触层形成欧姆接触;第二电极,形成于第二接触层上,且位于第二接触层的两端,第二电极和第二接触层形成欧姆接触。

    一种红外探测器的制备方法、红外探测器

    公开(公告)号:CN117637908A

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN202311528094.5

    申请日:2023-11-16

    Abstract: 一种红外探测器的制备方法、红外探测器,该制备方法包括:在衬底上依次生长缓冲层、N型掺杂接触层、吸收层、P型掺杂接触层和P型盖层,得到第一器件;对第一器件的叠层结构的两端进行刻蚀以在刻蚀后的N型掺杂接触层上形成沿第一方向突出的台面结构,得到第二器件;在第二器件远离衬底的表面制备电极窗口掩膜,得到第三器件;在第三器件远离衬底的表面沉积增透钝化层;去除第一电极窗口掩膜以及第一电极窗口掩膜上的增透钝化层,得到第一电极窗口,去除第二电极窗口掩膜以及第二电极窗口掩膜上的增透钝化层,得到第二电极窗口;在第一电极窗口上制备第一电极,在第二电极窗口上制备第二电极,得到红外探测器。

    一种红外探测器及其制备方法

    公开(公告)号:CN113488558A

    公开(公告)日:2021-10-08

    申请号:CN202110764262.5

    申请日:2021-07-06

    Abstract: 本发明涉及一种红外探测器及其制备方法,属于探测器技术领域,该探测器包括:衬底,所述衬底包括光子晶体阵列,所述光子晶体阵列位于所述衬底的底部,所述光子晶体阵列包括n组四色探测单元,一组所述四色探测单元包括四个光子晶体组,每个所述光子晶体组包括四个不同波段的光子晶体;外延层,在所述衬底表面外延得到,所述外延层包括焦平面阵列台面,所述焦平面阵列台面位于所述外延层的顶部,所述焦平面阵列台面的凸出部分为像元;所述光子晶体阵列与所述焦平面阵列台面相对设置,其中所述光子晶体组与所述像元相对设置;其中,n为大于或等于1的整数。

    在GaSb衬底上生长InAs层的生长速度测定方法

    公开(公告)号:CN113358677A

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN202110628108.5

    申请日:2021-06-06

    Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,公开了一种在GaSb衬底上生长InAs层的生长速度测定方法,采用分子束外延法生长InAs层,该方法包括步骤:S1:打开Ga源炉快门和Sb源炉快门在GaSb衬底上生长GaSb缓冲层,之后关闭Ga源炉快门和Sb源炉快门;S2:同时打开In源炉快门和As源炉快门在GaSb缓冲层上生长InAs层;S3:生长一段时间后,保持As源炉快门打开,关闭In源炉快门,以形成InAs平滑层,预定时间段后再次打开In源炉快门生长InAs层,再次生长InAs层的过程中利用反射式高能电子衍射强度振荡曲线测得InAs层生长速度。本发明的方法在InAs平滑层基础上生长在InAs层时测定生长速度,更容易得到振荡周期较多且较光滑的RHEED强度振荡曲线,使得InAs层生长速度测定结果更准确。

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