-
公开(公告)号：CN116839873A
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202310872401.5
申请日：2023-07-17
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种用于高分辨力光学成像系统的波像差标定装置及方法，所述装置包括发出平行光光源、随机球、波前传感器和可调光阑，其中随机球包括透明的小球及其支撑装置。沿所述装置光源输出光方向依次为可调光阑、随机球和波前传感器，其中波前传感器在被测光学系统聚焦焦点之后，结合随机平均法以及相同光路下随机球与被测光学系统替换可以实现被测光学系统波像差的高精度测量。
-
公开(公告)号：CN115469555B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211417846.6
申请日：2022-11-14
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G05B13/04
Abstract: 本发明公开一种用于传感芯片投影光刻机的空间像预测及像质优化方法，是禁忌搜索‑遗传算法的混合方法。光刻系统空间像成像模型以Abbe成像方法为基础，通过提取掩模有效衍射频谱信息完成空间像强度分布的计算。光源S由四个对称的子区域组成，提取子区域有效单元作为光源优化的变量。掩模M由对称规则图形组成，提取子区域图形边缘附近单元作为掩模优化的变量。将图形误差及边缘放置误差作为目标函数F1和F2，将优化后的光源进行高斯滤波操作，通过阈值方法对优化后的灰度掩模进行二值处理。本发明为光刻系统空间像成像模型提供方法，并提出一种快速光源掩模优化方法，为传感芯片投影光刻机工作效率的提高提供有效的帮助。
-
公开(公告)号：CN115657425A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202211346045.5
申请日：2022-10-31
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻物镜畸变检测调整误差分离装置及方法，该装置包括照明系统、掩模、掩模台、温度与压强传感器、光刻物镜、夏克‑哈特曼传感器、传感器运动台、干涉仪和环境控制系统。沿所述照明系统激光照明方向依次是安装在掩模台上的掩模、带有温度与压强传感器的光刻物镜、检测波前信号的夏克‑哈特曼传感器、传感器运动台和干涉仪组成的测量系统和环境控制系统。安装在传感器运动台上的夏克‑哈特曼传感器对准测试波前后，由干涉仪返回理想球面波经掩模11×11个方孔和光刻物镜后测试波前的三维坐标，得到测试波前的坐标信息，通过坐标转换分离出调整误差引起的畸变，将分离了调整误差的数据添加进计算模型得到光刻物镜实际的畸变。
-
公开(公告)号：CN115524941A
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202211182405.2
申请日：2022-09-27
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于物镜像质检测的光束扫描台，是基于哈特曼波前测量原理的物镜像质检测台的子模块。所述光束扫描台包括XYZ电动移动台，光束反射镜组以及聚光镜。XYZ电动平移台可以实现聚光镜三自由度的高精度定位运动，使聚光镜可以沿着包含针孔阵列的掩模板做XY方向的扫描运动；光束反射镜组由两块反射镜组成，分别安装在电动移动台的X运动层和Y运动层，分别跟随电动移动台沿X和Y方向移动，可将物镜像质检测光源引入聚光镜组。聚光镜安装在XYZ电动移动台上，将物镜像质检测光源汇聚成点光源，照射至掩模板上。
-
公开(公告)号：CN115469555A
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN202211417846.6
申请日：2022-11-14
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G05B13/04
Abstract: 本发明公开一种用于传感芯片投影光刻机的空间像预测及像质优化方法，是禁忌搜索‑遗传算法的混合方法。光刻系统空间像成像模型以Abbe成像方法为基础，通过提取掩模有效衍射频谱信息完成空间像强度分布的计算。光源S由四个对称的子区域组成，提取子区域有效单元作为光源优化的变量。掩模M由对称规则图形组成，提取子区域图形边缘附近单元作为掩模优化的变量。将图形误差及边缘放置误差作为目标函数F1和F2，将优化后的光源进行高斯滤波操作，通过阈值方法对优化后的灰度掩模进行二值处理。本发明为光刻系统空间像成像模型提供方法，并提出一种快速光源掩模优化方法，为传感芯片投影光刻机工作效率的提高提供有效的帮助。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109490313B
公开(公告)日：2022-08-23
申请号：CN201811330664.9
申请日：2018-11-09
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01N21/88
Abstract: 本发明涉及一种大口径曲面光学元件表面缺陷自动检测装置及方法，属于光电技术检测领域。该装置包括测量头、旋转工件台、自动取样装置和喷淋装置。测量头包括传感器系统、照明系统和成像系统，照明系统为被测样品表面提供高均匀性和高亮度照明，旋转工件台和成像系统用于对光学表面区域的缺陷进行环带扫描和高分辨率散射成像。自动取样装置用作自动化生产中机械手自动夹取光学元件；喷淋设备一旦检测到表面上有灰尘、杂质等异物就被激活，用于准确去除被测件表面的灰尘、杂质等伪缺陷。本发明有效解决了大口径光学元件表面缺陷检测困难、效率低下的问题，可以快速测量大口径平面、球面和非球面光学元件的表面缺陷。
-
公开(公告)号：CN111397505B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202010282978.7
申请日：2020-04-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种相移干涉仪大口径参考平面镜绝对标定装置及方法，用于测量相移干涉仪大口径参考平面特定区域内参考误差，包括：大口径相移干涉仪、参考平面镜、轴向位移台、倾斜调整台、升降装置、电动旋转台、平面平晶、计算机系统和隔振基座。大口径相移干涉仪以及具有升降、轴向平移功能的测量平台安装在隔振基座上，计算机系统与大口径相移干涉仪相连，收集n次等旋转角度以及平移后的平面平晶干涉图样分离出参考平面对应子孔径区域面形误差信息；通过调整平移台获得参考平面下一子孔径面形信息，最后由拼接数据处理软件，获得参考平面特定区域面形误差。本发明为相移干涉仪大口径参考平面镜绝对标定提供了一种有效的低成本检测手段。
-
公开(公告)号：CN109358068B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201811342863.1
申请日：2018-11-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01N21/896 , G01M11/00
Abstract: 本发明公开了一种基于线扫描和环带拼接的大口径平面镜的瑕疵检测装置和方法，该装置包括线扫描探测器，环形照明光源，被测平面镜，绕Z轴的旋转台，沿X轴的平移台，计算机。通过将被测平面镜通过平移和旋转，使得整个被测平面镜的表面能被扫描探测器检测完，并通过环带拼接方法获得整个被测平面镜的瑕疵情况。其中线扫描和环带拼接的方式减小了成像畸变、中间数据量、畸变的校正难度和拼接难度，提高了检测速度和检测质量。
-
公开(公告)号：CN110045477B
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201910304374.5
申请日：2019-04-16
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于相位解析的光学元件自动对心方法，该方法包括以下步骤：1)初始化光学元件对心装置，将光学元件放置于检测平台；2)调节成像相机和检测平台，使成像区域覆盖光学元件边缘且成像清晰；3)旋转检测平台，使用成像相机采集光学元件表面数据；4)使用相位解析方法处理采集数据，根据解算结果调整待测光学元件与检测平台的相对位置，从而将光学元件中心与检测平台旋转中心对准，在此基础上通过迭代操作实现成像相机的位置修正，进而完成光学元件的自动对心。本发明通过相位解析方法，实现了光学元件的自动对心。
-
公开(公告)号：CN107255456B
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201710532268.3
申请日：2017-07-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种计算全息基底刻蚀误差在位标定方法。该方法可在计算全息检测非球面的光路条件下，保持计算全息光路位置不变，实现计算全息基底刻蚀误差的在位标定。具体光路结构为将待测的非球面替换成球面镜，并在计算全息与球面镜加入补偿器，对系统球差进行补偿。在计算全息进行刻蚀加工之前，将该平行平板基底放入光路中进行第一次检测；在计算全息基板完成全息刻蚀加工之后，再将计算全息放入光路中进行第二次检测，两次检测结果之差即为标定得到的计算全息基底刻蚀误差。该方法突破了现有在位标定技术中非球面的F数限制问题，且标定精度并不受限于补偿器的制作精度水平和待测球面的面形质量，无需对补偿器和待测球面面形误差进行标定。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
34
records
(took 0.033 seconds)
