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公开(公告)号：CN114740608B
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN202210282522.X
申请日：2022-03-22
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种大视场高数值孔径投影光刻物镜，包括：第一透镜组，具有正光焦度；第二透镜组，具有负光焦度；第三透镜组，具有正光焦度；第四透镜组，具有负光焦度；第五透镜组，具有正光焦度；第六透镜组的具有正光焦度；所述第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组的光焦度的和为0；大视场高数值孔径投影光刻物镜共包含5个非球面透镜，每个非球面透镜包含一个非球面表面及一个球面表面；大视场高数值孔径投影光刻物镜最大像方数值孔径为0.82。本发明提供一种大视场高数值孔径投影光刻物镜，采用非球面以在实现系统高性能的同时降低结构复杂度，缩短光学系统结构长度，提高系统性能。
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公开(公告)号：CN108398761A
公开(公告)日：2018-08-14
申请号：CN201810262320.2
申请日：2018-03-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种三维动态调节及锁紧机构，该机构利用3点均布的弹性调节机构实现光学元件的轴向位移调节和倾斜调节。该机构在光学元件底部均匀分布3个弹性调节机构，利用弹性机构变形实现光学元件的高精度动态调节：3点弹性机构Z1/Z2/Z3变形量相同时，可实现光学元件光轴Z向调节；Z3保持不变，Z1和Z2相反变形时即可实现X向倾斜调节；当Z1和Z2变形量相同而Z3变形量存在差异时可实现Y向调节。每个弹性机构配备相应的杠杆机构，可将机构的垂直调节转换为水平调节；同时利用杠杆的缩放比例提高机构的调节精度。
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公开(公告)号：CN104950427B
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201510382003.0
申请日：2015-07-02
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜，其像方有效视场为132×132mm，像方数值孔径可达0.17。物镜采用物方、像方双远心结构，共使用了21片透镜，所有透镜表面都为纯球面。本发明以对称、简单的结构实现所需的微米级的分辨率，保证了曝光所需足够的光强，能很好地解决国内现有大面积平板光刻设备的分辨率低、图像传递能力差的问题，同时，本发明实现了对系统研制的短周期、低成本的控制。
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公开(公告)号：CN115435677B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202210988547.1
申请日：2022-08-17
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G01B9/02055 , G01B9/02056
Abstract: 本发明公开了一种通用于双通道干涉仪的系统误差标定装置和标定方法，标定装置包括双通道干涉仪、球透镜、球面反射镜，沿所述的双通道干涉仪输出空间非相干光方向依次是球透镜、球面反射镜，所述的双通道干涉仪和球透镜不处于共焦的位置，球透镜与球面反射镜处于共焦的状态，结合随机平均法可以实现双通道干涉仪系统误差的高精度标定。
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公开(公告)号：CN116125643B
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202310095873.4
申请日：2023-02-10
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种超广角仿生机器视觉远心镜头，其作用是以光学系统代替人眼进行相关测量与判断。所述远心镜头包括光阑及沿光轴顺次排列的第一透镜组、第二透镜组；所述第一透镜组具有负光焦度，由第一透镜、第二透镜、第三透镜及第四透镜组成；所述第二透镜组具有正光焦度，由第五透镜、第六透镜、第七透镜、第八透镜及第九透镜组成；所述超广角仿生机器视觉远心镜头共包含3个非球面透镜，所述每个非球面透镜包含一个非球面表面及一个球面表面；所述超广角机器视觉远心镜头最大视场角不小于130度。本发明通过采用非球面以在实现系统高性能的同时降低结构复杂度，使得系统在保持结构简单的同时对于大角度视场处的物体具有良好的成像质量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115657424A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202211329033.1
申请日：2022-10-27
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种大数值孔径光刻投影物镜波像差拼接缝合装置及方法，包括：沿照明系统照明方向依次是掩模、掩模台、大数值孔径光刻投影物镜、用于对准掩模图形经大数值孔径光刻投影物镜倍率缩放后在成像面的实际像点的夏克‑哈特曼传感器、承载夏克‑哈特曼传感器可六维运动的传感器运动台和用于测量对准位置坐标信息并返回对准位置三维坐标的干涉仪测量系统。通过传感器运动台使得夏克‑哈特曼传感器对准实际像点并沿工字形以哈达玛测量矩阵编码形式扫描大数值孔径光刻投影物镜波前信息，使用差分测量分离出由平移、倾斜调整误差引起的测量误差，通过小波变换提高信号稀疏度并以压缩感知算法重构实际波前实现大数值孔径波像差拼接缝合技术。
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公开(公告)号：CN114967368A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210615885.0
申请日：2022-06-01
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种用于成像系统波像差高精度在线测量装置和测量方法，该成像系统波像差高精度检测装置包括光源及照明系统、滤波系统、被测成像系统、球透镜、准直系统、波前传感器和可拆卸的滤波系统。结合可以拆卸的滤波系统和随机平均法达到在线标定系统误差的目的，在线检测的方式可以减少整个测量系统调整误差，从波像差相对测量结果中分离出已标定的系统误差，实现成像系统的波前高精度测量。
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公开(公告)号：CN108761830A
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201810262324.0
申请日：2018-03-28
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种水平精密调节及锁紧机构，可用于精密光学系统中光学元件的在线微调和锁紧固定。本发明设计一种双边对称的平行四边形铰链机构，利用平行四边形在驱动力作用下变形实现被调元件的调节。在同一推动调节板上设计两圈相同的调节机构，实现水平方向X和Y独立调节的同时简化调节机构。该调节机构一端利用螺纹副调节平行四边形铰链，利用螺纹副的推动力和铰链的反作用力实现调节机构的调节和自锁。
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公开(公告)号：CN104238284B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201410500277.0
申请日：2014-09-25
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
CPC classification number: G03F9/7026 , G01B9/02097 , G02B7/28
Abstract: 本发明涉及一种基于光栅泰伯效应的检焦方法，其作用是实时检测光刻机系统的硅片位置，完成硅片的高精度调平和调焦。检测系统利用硅片离焦引起的光栅泰伯效应的“自成像”位相变化，完成光刻机硅片的高精度检焦：硅片位于焦面位置时，光栅成像波前为平面波前；硅片离焦时，其成像波前为球面波前。该检测系统结构简单，具有较高的抗干扰能力和较好的工艺适应性。
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公开(公告)号：CN104199258B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201410479923.X
申请日：2014-09-19
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于二维双频光栅剪切干涉的纳米级检焦方法，其作用是实时检测光刻机系统的硅片位置，完成硅片的高精度调平和调焦。检测系统通过二维光栅在子午面和弧矢面由两类不同频率的光栅剪切干涉，根据测量子午和弧矢面内4个区域的干涉条纹位相差异，计算相应区域的高度差，从而完成光刻机硅片的高精度检焦。该检测系统具有剪切干涉系统共光路特性，系统结构简单，具有较高的抗干扰能力和较好的工艺适应性；利用相应探测器同时完成硅片曝光区域边缘4个位置高度差测量，同步完成硅片的检焦和调平测量，适用于大面积曝光系统的高精度、实时性测量。
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