一种超高真空束源炉坩埚除气装置

    公开(公告)号:CN111534797A

    公开(公告)日:2020-08-14

    申请号:CN202010448802.4

    申请日:2020-05-25

    Abstract: 本发明公开了一种超高真空束源炉坩埚除气装置,该装置包括:在真空腔室上通过第一刀口法兰与真空规管上的第五刀口法兰连接,通过第二刀口法兰与闸板阀上的第六刀口法兰连接,通过第三和第四刀口法兰分别安装2台束源炉上的第九刀口法兰连接。在闸板阀上通过第七刀口法兰与真空泵上的第八刀口法兰连接。该装置结构简单,在暴露大气后能快速恢复到超高真空度,束源炉装卸简单,极大地提高了束源炉坩埚除气的工作效率。

    一种含有高效率衍射光栅的单模太赫兹量子级联激光器

    公开(公告)号:CN110690647A

    公开(公告)日:2020-01-14

    申请号:CN201910850362.2

    申请日:2019-09-10

    Abstract: 本发明公开了一种含有高效率衍射光栅的单模太赫兹量子级联激光器。其特征在于:所述的含有高效率衍射光栅的太赫兹量子级联激光器整体采用金属-金属波导结构,包括种子激光区、锥形放大区、光栅耦合器。种子激光区采用掩埋式一级分布反馈式光栅结构,锥形放大区采用金属-金属波导结构,光栅耦合器采用高效率衍射光栅结构。种子激光区产生太赫兹种子光源,锥形放大区放大太赫兹光并耦合进高效率衍射光栅耦合器中,高效率衍射光栅耦合器使太赫兹光在其中传播时强度不衰减,稳定持续地使太赫兹光倾斜出射,获得高功率、高效率、窄线宽、准直性好、高边模抑制比的太赫兹激光。

    一种红外焦平面芯片的铟柱制备方法

    公开(公告)号:CN106024982A

    公开(公告)日:2016-10-12

    申请号:CN201610538918.0

    申请日:2016-07-11

    CPC classification number: H01L31/18 H01L21/7688 H01L21/76895 H01L2221/1068

    Abstract: 本发明公开了一种红外焦平面芯片的铟柱制备方法,使用负性光刻胶光刻获得塔形铟孔,热蒸发生长铟膜,湿法剥离得到铟柱。本发明的优点是铟柱制备工艺简单,极易湿法剥离,重复性好;适用于大规模红外焦平面的铟柱阵列制备,能获得高度一致性好,顶部一致性平整的塔形铟柱阵列,占空比小,可避免在倒焊互连时像元由于铟柱形变而短路,进而降低红外焦平面探测器芯片盲元率和非均匀性;本发明适用于碲镉汞红外焦平面探测器平面结的铟柱制备,也适用于III‑V族红外焦平面探测器台面结的铟柱制备,对与探测器芯片配套的集成电路也适用,普适性好。

    一种集成有源布拉格反射器的单模太赫兹量子级联激光器

    公开(公告)号:CN110707528A

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201910850364.1

    申请日:2019-09-10

    Abstract: 本发明公开了一种集成有源布拉格反射器的单模太赫兹量子级联激光器。本发明中,由解理形成的腔面和一阶光子晶体形成的布拉格反射器构成了一个谐振腔,靠近解理腔面一侧有若干个空气狭缝构成的耦合光栅。当解理腔面与布拉格反射器构成的谐振腔与有源光子晶体产生共振时,形成耦合腔,并且反射器对于该耦合模式提供一定的相位补偿以满足谐振腔的相位条件,该耦合模式通过光栅耦合器向自由空间辐射。通过调节耦合光栅的几何结构,可以控制激光器的辐射效率。该器件最大的优点是:该谐振腔结构能独立控制模式选择与辐射效率,器件的尺寸不再受到模式选择的限制。所获得的输出功率高,功率效率高,温度性能好,远场光斑发散角小。

    一种超高真空束源炉坩埚除气装置

    公开(公告)号:CN111534797B

    公开(公告)日:2023-11-07

    申请号:CN202010448802.4

    申请日:2020-05-25

    Abstract: 本发明公开了一种超高真空束源炉坩埚除气装置,该装置包括:在真空腔室上通过第一刀口法兰与真空规管上的第五刀口法兰连接,通过第二刀口法兰与闸板阀上的第六刀口法兰连接,通过第三和第四刀口法兰分别安装2台束源炉上的第九刀口法兰连接。在闸板阀上通过第七刀口法兰与真空泵上的第八刀口法兰连接。该装置结构简单,在暴露大气后能快速恢复到超高真空度,束源炉装卸简单,极大地提高了束源炉坩埚除气的工作效率。

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