细长管件的真空镀膜设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119243111A

    公开(公告)日:2025-01-03

    申请号:CN202411376207.9

    申请日:2024-09-30

    Abstract: 本发明涉及一种细长管件的真空镀膜设备,采用了在腔体结构的一侧固定若干个分子泵控制装置;在腔体结构的圆周上设置若干个弧源;弧源在腔体结构的圆周表面上螺旋上升布置;在腔体结构的外部设置电机传动装置;电机传动装置带动转架驱动装置旋转;在转架驱动装置上连接三维转架装置;在三维转架装置上放置细长管件;转架驱动装置上带动三维转架装置,使得细长管件在腔体结构转动的同时,细长管件在弧源的作用下进行镀膜。在弧源重新设计排列以及改变内部的结构以后,实现了对细长管件完全镀膜,解决了在现有的真空镀膜设备中,由于受限于弧源分布以及细长管件较长的尺寸,无法完全镀膜均匀,造成镀膜质量很差的技术问题。

    一种手动可同步调节高度和角度的圆靶挡板结构

    公开(公告)号:CN107338413B

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN201710793854.3

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本发明公开了一种手动可同步调节高度和角度的圆靶挡板结构,其特征在于,包括圆靶、圆靶转向夹持机构、法兰、焊接波纹管组件、支撑管、密封结构、挡板;挡板调节机构;挡板设置在圆靶的上方,在圆靶的下方设置圆靶转向夹持机构;圆靶转向夹持机构的中间连接一焊接波纹管组件;焊接波纹管组件的下端连接支撑管;支撑管伸入设置在法兰上的密封结构;圆靶转向夹持机构的右侧夹持挡板调节机构;挡板调节机构随圆靶、圆靶转向夹持机构一起角度和高度同步调节;实现了在圆靶挡板结构中的挡板结构在高度和角度可以同步进行调节,进一步提升了圆靶镀膜的工艺连续性。

    一种等离子体增强化学气相沉积设备的射频信号引入结构

    公开(公告)号:CN107326344B

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN201710793917.5

    申请日:2017-09-06

    Abstract: 本发明公开了一种等离子体增强化学气相沉积设备的射频信号引入结构,包括双层水冷腔体、同轴电缆接头、屏蔽罩,屏蔽罩设置在双层水冷腔体的上方;同轴电缆接头设置在屏蔽罩上,在屏蔽罩与双层水冷腔体之间设置一焊接法兰;焊接法兰的上方设置第一绝缘法兰;第一绝缘法兰上方设置一接线法兰,接线法兰上中心设置一中心圆孔,在其的上方开设一凹槽,设置一进气管;在其两侧各设置一电刷;设置在凹槽内;电刷的一端抵住进气管的外侧;电刷的另一端抵住凹槽的两侧;进气管向下依次穿过第一绝缘法兰、焊接法兰和双层水冷腔体;在进气管与第一绝缘法兰、焊接法兰和双层水冷腔体之间设置一绝缘套;解决了射频信号引入失效的问题。

    一种手动可同步调节高度和角度的圆靶挡板结构

    公开(公告)号:CN107338413A

    公开(公告)日:2017-11-10

    申请号:CN201710793854.3

    申请日:2017-09-06

    CPC classification number: C23C14/3407

    Abstract: 本发明公开了一种手动可同步调节高度和角度的圆靶挡板结构,其特征在于,包括圆靶、圆靶转向夹持机构、法兰、焊接波纹管组件、支撑管、密封结构、挡板;挡板调节机构;挡板设置在圆靶的上方,在圆靶的下方设置圆靶转向夹持机构;圆靶转向夹持机构的中间连接一焊接波纹管组件;焊接波纹管组件的下端连接支撑管;支撑管伸入设置在法兰上的密封结构;圆靶转向夹持机构的右侧夹持挡板调节机构;挡板调节机构随圆靶、圆靶转向夹持机构一起角度和高度同步调节;实现了在圆靶挡板结构中的挡板结构在高度和角度可以同步进行调节,进一步提升了圆靶镀膜的工艺连续性。

    一种等离子体增强化学气相沉积设备的射频信号引入结构

    公开(公告)号:CN107326344A

    公开(公告)日:2017-11-07

    申请号:CN201710793917.5

    申请日:2017-09-06

    CPC classification number: C23C16/505

    Abstract: 本发明公开了一种等离子体增强化学气相沉积设备的射频信号引入结构,包括双层水冷腔体、同轴电缆接头、屏蔽罩,屏蔽罩设置在双层水冷腔体的上方;同轴电缆接头设置在屏蔽罩上,在屏蔽罩与双层水冷腔体之间设置一焊接法兰;焊接法兰的上方设置第一绝缘法兰;第一绝缘法兰上方设置一接线法兰,接线法兰上中心设置一中心圆孔,在其的上方开设一凹槽,设置一进气管;在其两侧各设置一电刷;设置在凹槽内;电刷的一端抵住进气管的外侧;电刷的另一端抵住凹槽的两侧;进气管向下依次穿过第一绝缘法兰、焊接法兰和双层水冷腔体;在进气管与第一绝缘法兰、焊接法兰和双层水冷腔体之间设置一绝缘套;解决了射频信号引入失效的问题。

    反应堆用大长径比管材真空镀膜机的工件架及其镀膜机

    公开(公告)号:CN112899636A

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN202110117962.5

    申请日:2021-01-28

    Abstract: 本发明公开了反应堆用大长径比管材真空镀膜机的工件架及其镀膜机,解决了现有的核反应堆用的大长径比的锆管镀膜所用的镀膜机的加热均匀性、电弧均匀性不好以及密封性不好,从而导致镀层要么结合力不足,要么均匀性不足,要么稳定性不足的技术问题。本发明包括公转组件和自转组件,所述公转组件包括大转盘和大齿轮,所述大转盘和大齿轮通过轴连接,所述大转盘位于所述大齿轮的下方,所述自转组件包括小齿轮和自转轴,所述小齿轮与所述大齿轮啮合,所述自转轴与所述大转盘连接,所述自转轴上安装工件。本发明具有镀膜均匀、结合力好等优点。

    反应堆用大长径比管材真空镀膜机的工件架及其镀膜机

    公开(公告)号:CN112899636B

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN202110117962.5

    申请日:2021-01-28

    Abstract: 本发明公开了反应堆用大长径比管材真空镀膜机的工件架及其镀膜机,解决了现有的核反应堆用的大长径比的锆管镀膜所用的镀膜机的加热均匀性、电弧均匀性不好以及密封性不好,从而导致镀层要么结合力不足,要么均匀性不足,要么稳定性不足的技术问题。本发明包括公转组件和自转组件,所述公转组件包括大转盘和大齿轮,所述大转盘和大齿轮通过轴连接,所述大转盘位于所述大齿轮的下方,所述自转组件包括小齿轮和自转轴,所述小齿轮与所述大齿轮啮合,所述自转轴与所述大转盘连接,所述自转轴上安装工件。本发明具有镀膜均匀、结合力好等优点。

    一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构

    公开(公告)号:CN220665426U

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN202322365124.7

    申请日:2023-09-01

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于真空镀膜设备平面靶的挡板机构,包括:支撑底板,所述支撑底板的上表面设置有挡板组件和镀膜组件,所述镀膜组件包括真空炉体和平面靶主体;所述挡板组件包括定位支撑台,所述定位支撑台的顶端设置有驱动构件,所述驱动构件的顶端连接有移动挡板,且所述驱动构件传动连接有伺服电机;所述驱动构件包括驱动转轴,所述驱动转轴的两端均固定安装有转动连杆二,所述转动连杆二的一侧转动连接有转动限位臂,所述转动限位臂的一端转动连接有转动连杆一。本实用新型通过伺服电机控制驱动构件带动移动挡板进行移动,移动挡板的位移距离小,便于对靶基距离较小的工件进行溅射镀膜,操作简单,实用更加方便。

    一种扭力限制自转轴工件传动装置

    公开(公告)号:CN220646556U

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202322365161.8

    申请日:2023-09-01

    Abstract: 本实用新型公开了一种扭力限制自转轴工件传动装置,包括:中心阶梯轴,所述中心阶梯轴的外壁套接有主体套筒,所述主体套筒的正面固定连接有连接套筒,所述连接套筒的正面转动安装有驱动齿轮,所述驱动齿轮的正面设置有摩擦片,所述摩擦片的正面设置有连接压板,所述连接压板的正面设置有蝶形弹簧,所述蝶形弹簧的正面设置有防松垫片,所述防松垫片的正面设置有调节螺母。本实用新型通过驱动齿轮与摩擦片和摩擦环的摩擦,将动力传递到中心阶梯轴上,中心阶梯轴产生转动,驱动齿轮以与中心阶梯轴产生相对滑动的方式来限制传动系统所传递的转矩,在转动过程中因震动、超载或机械故障而产生的转矩超过初设定值时起到保护作用。

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