公开(公告)号：CN119243111A

公开(公告)日：2025-01-03

申请号：CN202411376207.9

申请日：2024-09-30

Applicant: 中国核动力研究设计院 ,  上海福宜真空设备有限公司

Inventor： 张瑞谦 ,  陈寰 ,  伍晓勇 ,  褚家宝 ,  熊凯 ,  孙金伟 ,  李紫祎 ,  王晓敏 ,  徐祺 ,  杜沛南

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/32 ,  C23C14/50

Abstract: 本发明涉及一种细长管件的真空镀膜设备，采用了在腔体结构的一侧固定若干个分子泵控制装置；在腔体结构的圆周上设置若干个弧源；弧源在腔体结构的圆周表面上螺旋上升布置；在腔体结构的外部设置电机传动装置；电机传动装置带动转架驱动装置旋转；在转架驱动装置上连接三维转架装置；在三维转架装置上放置细长管件；转架驱动装置上带动三维转架装置，使得细长管件在腔体结构转动的同时，细长管件在弧源的作用下进行镀膜。在弧源重新设计排列以及改变内部的结构以后，实现了对细长管件完全镀膜，解决了在现有的真空镀膜设备中，由于受限于弧源分布以及细长管件较长的尺寸，无法完全镀膜均匀，造成镀膜质量很差的技术问题。

公开(公告)号：CN119265523A

公开(公告)日：2025-01-07

申请号：CN202411376092.3

申请日：2024-09-30

Applicant: 中国核动力研究设计院 ,  上海福宜真空设备有限公司

Inventor： 陈寰 ,  张瑞谦 ,  杨元才 ,  伍晓勇 ,  褚家宝 ,  孙金伟 ,  李紫祎 ,  王晓敏 ,  徐祺 ,  杜沛南

IPC: C23C14/32 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明涉及一种用于离子镀膜的弧源，采用了在安装组件内固定靶材组件；在靶材组件的下方固定绝缘法兰；在绝缘法兰下方用绝缘紧固组件，将水冷组件固定在安装组件上；在水冷组件的下方通过在水冷组件上的螺纹连接结构，将磁场组件与水冷组件固定连接；在安装组件的一侧固定连接引弧装置；引弧装置通过翻转引弧针，进行引弧；在本发明中改变了安装组件、水冷组件，磁场组件，引弧装置等装置的结构，避免了引弧针接触靶面的污染问题，解决了引弧的方式也导致离子镀膜的弧源体积较大的技术问题，减小了离子镀膜机的体积，降低了耗能等一系列的问题。解决了现有技术中的由于引弧的方式导致的问题。