细长管件的真空镀膜设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119243111A

    公开(公告)日:2025-01-03

    申请号:CN202411376207.9

    申请日:2024-09-30

    Abstract: 本发明涉及一种细长管件的真空镀膜设备,采用了在腔体结构的一侧固定若干个分子泵控制装置;在腔体结构的圆周上设置若干个弧源;弧源在腔体结构的圆周表面上螺旋上升布置;在腔体结构的外部设置电机传动装置;电机传动装置带动转架驱动装置旋转;在转架驱动装置上连接三维转架装置;在三维转架装置上放置细长管件;转架驱动装置上带动三维转架装置,使得细长管件在腔体结构转动的同时,细长管件在弧源的作用下进行镀膜。在弧源重新设计排列以及改变内部的结构以后,实现了对细长管件完全镀膜,解决了在现有的真空镀膜设备中,由于受限于弧源分布以及细长管件较长的尺寸,无法完全镀膜均匀,造成镀膜质量很差的技术问题。

    用于离子镀膜的弧源
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119265523A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411376092.3

    申请日:2024-09-30

    Abstract: 本发明涉及一种用于离子镀膜的弧源,采用了在安装组件内固定靶材组件;在靶材组件的下方固定绝缘法兰;在绝缘法兰下方用绝缘紧固组件,将水冷组件固定在安装组件上;在水冷组件的下方通过在水冷组件上的螺纹连接结构,将磁场组件与水冷组件固定连接;在安装组件的一侧固定连接引弧装置;引弧装置通过翻转引弧针,进行引弧;在本发明中改变了安装组件、水冷组件,磁场组件,引弧装置等装置的结构,避免了引弧针接触靶面的污染问题,解决了引弧的方式也导致离子镀膜的弧源体积较大的技术问题,减小了离子镀膜机的体积,降低了耗能等一系列的问题。解决了现有技术中的由于引弧的方式导致的问题。

    核燃料包壳管双轴蠕变稳压单元
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115493086A

    公开(公告)日:2022-12-20

    申请号:CN202211166616.7

    申请日:2022-09-23

    Abstract: 本发明公开一种核燃料包壳管双轴蠕变稳压单元,包括供气源、增压组件、稳压组件;所述供气源用于向包壳管提供增压用的气体介质;所述稳压组件与供气源连接,稳压组件用于调节供气源提供的气体介质的压力;所述增压组件连接于稳压组件与包壳管之间,增压组件用于对气体介质进行增压,并将增压后的气体介质输出至包壳管内。本发明采用PWM高频无泄漏电磁阀进行泄压控压,消除充压过程中,因高温真空炉的温度变化而带来的压力波动问题,同时,采用恒温缓冲器消除环境温度变化对压力波动的影响,可实现输出压力可调、升压速率可调、长周期内输出高精度稳定的压力等功能,同时,可减少空气压缩机工作时间和启动频率,达到节能的目的。

    一种两步法PVD技术制备超厚Ti-Al-C三元涂层的方法

    公开(公告)号:CN109957757B

    公开(公告)日:2021-06-08

    申请号:CN201910270621.4

    申请日:2019-04-04

    Abstract: 本发明公开了一种两步法PVD技术制备超厚Ti‑Al‑C三元涂层的方法,对锆包壳基体样件进行表面洁净,冷风吹干样件后,装夹在真空腔室内的三维转架上,并对基体样件进行加热;充入Ar气,施加高偏压,对基体样件进行辉光溅射清洗或者电子枪加热清洗刻蚀;用引弧针开启TixAl弧靶,高偏压溅射清洗TixAl靶材,同时在基体表面生成基础层;低偏压沉积TixAl涂层,生成过渡涂层;调整合适的弧电流、偏压,开启中频磁控石墨靶,沉积Ti‑Al‑C超厚涂层;进行高温退火。本发明的制备工艺下得到的材料更能适用于核领域,使用更加安全,得到的材料的性能更好。

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