公开(公告)号：CN109153889B

公开(公告)日：2021-10-29

申请号：CN201780030849.5

申请日：2017-05-17

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 朴惠贞 ,  金宰贤 ,  朴锺大 ,  李敏键 ,  申宗哲 ,  陈成勋

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/321 ,  H01L21/304 ,  B01J23/74

Abstract: 公开了一种用于化学机械抛光的浆料组合物，该组合物表现出在酸性气氛下pH随时间的变化小，从而可易于长期储存。用于化学机械抛光的浆料组合物包含磨料、0.000006重量％至0.01重量％的铝、和水。优选的是，磨料的表面上的硅烷醇基团的数量和铝含量满足以下数学式的要求。[数学式1]0.0005≤(S*C)*100≤4.5，其中S是1nm2的磨料表面上存在的硅烷醇基团的数量(单位：个/nm2)，以及C是浆料组合物中的铝含量(重量％)。

公开(公告)号：CN109153889A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201780030849.5

申请日：2017-05-17

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 朴惠贞 ,  金宰贤 ,  朴锺大 ,  李敏键 ,  申宗哲 ,  陈成勋

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/321 ,  H01L21/304 ,  B01J23/74

Abstract: 公开了一种用于化学机械抛光的浆料组合物，该组合物表现出在酸性气氛下pH随时间的变化小，从而可易于长期储存。用于化学机械抛光的浆料组合物包含磨料、0.000006重量％至0.01重量％的铝、和水。优选的是，磨料的表面上的硅烷醇基团的数量和铝含量满足以下数学式的要求。[数学式1]0.0005≤(S*C)*100≤4.5，其中S是1nm2的磨料表面上存在的硅烷醇基团的数量(单位：个/nm2)，以及C是浆料组合物中的铝含量(重量％)。