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公开(公告)号：CN102781628B
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201180011425.7
申请日：2011-03-22
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: B24B37/24 , H01L21/304
CPC classification number: C08G18/4845 , B24B37/24 , C08G18/4277 , C08G18/4812 , C08G18/797 , C08G2101/00 , C08G2101/0025
Abstract: 本发明提供能够减小在研磨对象物的表面上产生的微小起伏的研磨垫及其制造方法、以及半导体器件的制造方法。所述研磨垫，具有由热固性聚氨酯发泡体构成的研磨层，通过使用含有含活性氢化合物和异氰酸酯成分作为原料成分的热固性聚氨酯发泡体，从研磨面侧测定的所述研磨层的A型显微橡胶硬度的面内偏差为12以下，其中，所述含活性氢化合物100重量份中，含有末端羟基的至少一个为仲羟基、并且羟值为150~1000mgKOH/g的三官能多元醇10~50重量份。
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公开(公告)号：CN101583464B
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN200780049906.0
申请日：2007-11-27
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: B24B37/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明目的在于提供耐久性优良、并且研磨层与基材层的粘合性良好的研磨垫。本发明的第一发明是在基材层上设置研磨层的研磨垫，其特征在于，所述研磨层包含具有平均气泡直径20～300μm的近似球状的连续气泡的热固性聚氨酯发泡体，所述聚氨酯发泡体含有异氰酸酯成分和含活性氢化合物作为原料成分，所述含活性氢化合物含有30～85重量％官能团数2～4、羟值20～100mg KOH/g的高分子量多元醇。
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公开(公告)号：CN101511536A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200780033122.9
申请日：2007-04-23
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: B24B37/00 , C08G18/00 , H01L21/304
CPC classification number: C08G18/4277 , B24B37/24 , B24D3/26 , B24D11/001 , C08G18/4072 , C08G18/632 , C08G18/6607 , C08G2101/00 , C08G2101/0008
Abstract: 本发明的目的在于提供能廉价且容易地制造耐久性优异的抛光垫的方法。本发明的抛光垫的制造方法包括：利用机械发泡法制备气泡分散聚氨酯组合物的工序；在基材层上涂布气泡分散聚氨酯组合物的工序；使气泡分散聚氨酯组合物固化而形成具有近似球状的连续气泡的聚氨酯发泡层的工序；以及将聚氨酯发泡层的厚度调节至均匀的工序。
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公开(公告)号：CN101115779A
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN200680004397.5
申请日：2006-02-27
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: C08G18/00 , C08G18/48 , B24B37/00 , C08J5/14 , C08G18/10 , H01L21/304 , C08G18/32 , C08G101/00
CPC classification number: B24B37/24 , B24D3/28 , C08G18/10 , C08G2101/00 , C08G18/3237 , C08G18/3215
Abstract: 本发明提供一种具有由聚氨酯树脂发泡体形成的研磨层的研磨垫及其制造方法中，所述聚氨酯树脂发泡体是异氰酸酯末端预聚物和增链剂的反应固化物，其中，(1)使用熔点70℃以下的芳香族多胺作为增链剂，(2)使用含有异氰酸酯成分和高分子量多元醇的异氰酸酯末端预聚物和作为增链剂的芳香族二醇的EO/PO加成体，或(3)使用脂肪族/脂环族异氰酸酯末端预聚物和作为增链剂的非卤素类芳香族胺。此外，所述聚氨酯树脂发泡体也可以使用多聚化二异氰酸酯和芳香族二异氰酸酯作为异氰酸酯成分。由此能够得到具有极其均匀的微细气泡，研磨特性(平坦化特性)优异，修整性提高的研磨垫。
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公开(公告)号：CN102672630B
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201210073229.9
申请日：2007-04-19
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
CPC classification number: B24D11/003 , B24B37/205 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24B37/26 , B24D3/32 , B24D18/00 , B29C44/24 , B29C44/308 , B29C44/32 , B29C44/322 , B29C44/326 , B29C44/5654 , C08J9/30 , C08J2375/08 , Y10T156/1052 , Y10T156/1059
Abstract: 本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良的抛光垫制造方法。另外，本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良、抛光层和缓冲层之间不产生剥离的层压抛光垫制造方法。本发明的抛光垫制造方法，包括：通过机械发泡法制备气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在送出面材的同时向其上连续地排出气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在该气泡分散的氨基甲酸酯组合物上层压另一面材的工序；通过在将厚度调节均匀的同时使气泡分散的氨基甲酸酯组合物固化而形成由聚氨酯发泡体构成的抛光层的工序；通过与面平行地将该抛光层一切为二而同时制造两片由抛光层和面材构成的长抛光层的工序；和切割长抛光层的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102781627A
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN201180011398.3
申请日：2011-03-17
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: B24B37/24 , C08G18/30 , H01L21/304 , C08G101/00
CPC classification number: C08G18/797 , C08G18/2835 , C08G18/4277 , C08G18/4854 , C08G2101/0025
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够减小在研磨对象物的表面上产生的微小起伏的研磨垫及其制造方法、以及半导体器件的制造方法。为了实现该目的，在具有由热固性聚氨酯发泡体构成的研磨层的研磨垫中，使用含有异氰酸酯成分和含活性氢化合物作为原料成分的热固性聚氨酯发泡体，作为含活性氢化合物，使用含有官能团数为2以上的多元醇化合物、和官能团数为1的一元醇化合物的含活性氢化合物。
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公开(公告)号：CN101115779B
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN200680004397.5
申请日：2006-02-27
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: C08G18/66 , C08G18/48 , C08G18/32 , C08G18/12 , B24B37/24 , H01L21/304 , C08G101/00
CPC classification number: B24B37/24 , B24D3/28 , C08G18/10 , C08G2101/00 , C08G18/3237 , C08G18/3215
Abstract: 本发明提供一种具有由聚氨酯树脂发泡体形成的研磨层的研磨垫及其制造方法中，所述聚氨酯树脂发泡体是异氰酸酯末端预聚物和增链剂的反应固化物，其中，(1)使用熔点70℃以下的芳香族多胺作为增链剂，(2)使用含有异氰酸酯成分和高分子量多元醇的异氰酸酯末端预聚物和作为增链剂的芳香族二醇的EO/PO加成体，或(3)使用脂肪族/脂环族异氰酸酯末端预聚物和作为增链剂的非卤素类芳香族胺。此外，所述聚氨酯树脂发泡体也可以使用多聚化二异氰酸酯和芳香族二异氰酸酯作为异氰酸酯成分。由此能够得到具有极其均匀的微细气泡，研磨特性(平坦化特性)优异，修整性提高的研磨垫。
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公开(公告)号：CN101426618A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200780014189.8
申请日：2007-04-19
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: B24B37/00 , C08J5/14 , H01L21/304
CPC classification number: B24D11/003 , B24B37/205 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24B37/26 , B24D3/32 , B24D18/00 , B29C44/24 , B29C44/308 , B29C44/32 , B29C44/322 , B29C44/326 , B29C44/5654 , C08J9/30 , C08J2375/08 , Y10T156/1052 , Y10T156/1059
Abstract: 本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良的抛光垫制造方法。另外，本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良、抛光层和缓冲层之间不产生剥离的层压抛光垫制造方法。本发明的抛光垫制造方法，包括：通过机械发泡法制备气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在送出面材的同时向其上连续地排出气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在该气泡分散的氨基甲酸酯组合物上层压另一面材的工序；通过在将厚度调节均匀的同时使气泡分散的氨基甲酸酯组合物固化而形成由聚氨酯发泡体构成的抛光层的工序；通过与面平行地将该抛光层一切为二而同时制造两片由抛光层和面材构成的长抛光层的工序；和切割长抛光层的工序。
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公开(公告)号：CN101966697B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201010209209.0
申请日：2007-04-19
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
CPC classification number: B24D11/003 , B24B37/205 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24B37/26 , B24D3/32 , B24D18/00 , B29C44/24 , B29C44/308 , B29C44/32 , B29C44/322 , B29C44/326 , B29C44/5654 , C08J9/30 , C08J2375/08 , Y10T156/1052 , Y10T156/1059
Abstract: 本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良的抛光垫制造方法。另外，本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良、抛光层和缓冲层之间不产生剥离的层压抛光垫制造方法。本发明的抛光垫制造方法，包括：通过机械发泡法制备气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在送出面材的同时向其上连续地排出气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在该气泡分散的氨基甲酸酯组合物上层压另一面材的工序；通过在将厚度调节均匀的同时使气泡分散的氨基甲酸酯组合物固化而形成由聚氨酯发泡体构成的抛光层的工序；通过与面平行地将该抛光层一切为二而同时制造两片由抛光层和面材构成的长抛光层的工序；和切割长抛光层的工序。
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公开(公告)号：CN102781627B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201180011398.3
申请日：2011-03-17
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: B24B37/24 , C08G18/30 , H01L21/304 , C08G101/00
CPC classification number: C08G18/797 , C08G18/2835 , C08G18/4277 , C08G18/4854 , C08G2101/0025
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够减小在研磨对象物的表面上产生的微小起伏的研磨垫及其制造方法、以及半导体器件的制造方法。为了实现该目的，在具有由热固性聚氨酯发泡体构成的研磨层的研磨垫中，使用含有异氰酸酯成分和含活性氢化合物作为原料成分的热固性聚氨酯发泡体，作为含活性氢化合物，使用含有官能团数为2以上的多元醇化合物、和官能团数为1的一元醇化合物的含活性氢化合物。
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