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公开(公告)号：CN111906003A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN202010348387.5
申请日：2020-04-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 池田文彦
Abstract: 本发明提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。该涂敷膜形成方法在基片形成含有液晶性材料的涂敷膜，该方法包括：一边使保持基片的保持部与涂敷部相对地移动，一边从上述涂敷部释放含有上述液晶性材料的涂敷液，在基片涂敷上述涂敷液而形成涂敷膜的步骤；以及之后在使上述液晶性材料的分子取向的拉伸取向区域与调节上述涂敷膜的温度的调温区域的边界，从供气部对上述涂敷膜的表面供给调温气体的步骤。本发明能够在基片涂敷含有液晶性材料的涂敷液，使液晶性材料的分子适当地取向而形成涂敷膜。
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公开(公告)号：CN102012643B
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201010277683.7
申请日：2010-09-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/38
Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置和减压干燥方法，能够在对被处理基板上的涂敷膜迅速地进行减压干燥处理的工艺和缓慢地进行减压干燥处理的工艺之间有选择性地进行切换。在该减压干燥单元(214)中，气流控制部(260)包括：位于下部腔室(224)的沿Y方向相对的侧壁224(2)、224(4)的内侧、并配置在载置台(230)的两侧的第一分隔板(262A、262B)；使该第一分隔板(262A、262B)在第一高度位置和第二高度位置之间升降移动的第一升降机构(264)。而且，气流控制部(260)包括：配置在载置台(230)的周围或旁边的、横截面呈コ字状的第二分隔板(276)；使该第二分隔板(276)在第三高度位置和第四高度位置之间升降移动的第二升降机构(278)。
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公开(公告)号：CN102074456A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN201010516316.8
申请日：2010-10-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/027 , G03F7/38
Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置，通过滚轮搬送高效、安全且顺畅地进行基板的搬入、搬出，在减压干燥处理中通过任意粗度的销对基板进行支承，并尽可能抑制在基板上的涂敷膜附着基板接触部的转印痕迹。该减压干燥单元(12)将进行被处理基板(G)的平流搬送的滚轮搬送路径(38B)引入到腔室(40)内，利用基板升降机构(60)在腔室(40)内使基板(G)通过升降销(62)进行上下。而且，在比升降销(62)的销前部稍低(通常10mm以下)的位置上水平设置有遮蔽板(100)，能够通过遮蔽板升降机构(102)使该遮蔽板(100)的高度位置可变。
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公开(公告)号：CN101495244A
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200780028398.8
申请日：2007-07-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/6715
Abstract: 在上浮输送方式中有效地降低或抑制在形成于被处理基板上的处理液的涂敷膜上产生条纹状的涂敷不均。在涂敷区域中，沿X方向延伸的多条喷出线(C1、C3、C5、...)和沿X方向延伸的多条吸引线(C2、C4、C6、...)在Y方向上以一定的间距(W)交替地排列，在各喷出线(C2n－1)上隔开一定间隔(3D)地配置喷出口(88)，并且，在各吸引线(C2n)上隔开一定间隔(3D)地配置吸引口(90)，在相邻的喷出线(C2n－1)和吸引线(C2n)之间，喷出口(88)和吸引口(90)在X方向上偏移一定距离(D)。进而，长槽(88a、90a)从喷出口(88)、吸引口(90)的上端部向顺着输送方向(X方向)的方向和与其相反的方向笔直地延伸成两路。
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公开(公告)号：CN109416425B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201780040038.3
申请日：2017-06-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 池田文彦
IPC: G02B5/30
Abstract: 一种能够对基片涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理装置，其包括：用于保持基片的保持部；对保持于保持部的基片排出涂敷液的涂敷嘴；和使保持部与涂敷嘴在正交方向相对地移动的移动机构，能够以任意的角度恰当且高效地对基片涂敷涂敷液。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109416425A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780040038.3
申请日：2017-06-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 池田文彦
IPC: G02B5/30
Abstract: 一种能够对基片涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理装置，其包括：用于保持基片的保持部；对保持于保持部的基片排出涂敷液的涂敷嘴；和使保持部与涂敷嘴在正交方向相对地移动的移动机构，能够以任意的角度恰当且高效地对基片涂敷涂敷液。
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公开(公告)号：CN102074456B
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201010516316.8
申请日：2010-10-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/027 , G03F7/38
Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置，通过滚轮搬送高效、安全且顺畅地进行基板的搬入、搬出，在减压干燥处理中通过任意粗度的销对基板进行支承，并尽可能抑制在基板上的涂敷膜附着基板接触部的转印痕迹。该减压干燥单元(12)将进行被处理基板(G)的平流搬送的滚轮搬送路径(38B)引入到腔室(40)内，利用基板升降机构(60)在腔室(40)内使基板(G)通过升降销(62)进行上下。而且，在比升降销(62)的销前部稍低(通常10mm以下)的位置上水平设置有遮蔽板(100)，能够通过遮蔽板升降机构(102)使该遮蔽板(100)的高度位置可变。
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公开(公告)号：CN1949079B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200610136356.3
申请日：2006-10-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/16
Abstract: 本发明提供一种涂敷装置及涂敷方法，当基板G的前端部到达抗蚀剂喷嘴(78)的正下方附近的设定位置即涂敷开始位置时，停止基板搬送，进行二次测定检查，由光学式距离传感器(162)测定至基板G上面及下面的距离Ld、Le。然后，将基板G的厚度测定值D及浮起高度测定值Hb分别与各自的设定值或基准值「D」、「Hb」进行比较，若比较误差|「D」—D|和|「Hb」—Hb|均在规定容许范围内，则判定「正常」，否则判定「异常」。由此，缩短通过浮起搬送方式的非旋转涂敷法将涂敷液涂敷在被处理基板上的整体涂敷处理时间并且合适地管理浮起台与基板以及喷嘴之间的高度位置关系，使基板上处理液的涂敷膜形成均匀的膜厚。
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公开(公告)号：CN1939603B
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：CN200610151489.8
申请日：2006-09-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 平田机工株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂敷方法及涂敷装置，在非旋转方式中以稳定的动作再现性良好地进行涂敷膜的膜厚控制，特别是涂敷扫描终端部的膜厚均匀化。在抗蚀剂喷嘴(78)经过通过点(X1)的时刻(t1)停止抗蚀剂泵，在经过一定延迟时间之后的时刻点(ta)，抗蚀剂喷嘴(78)的吐出压力开始衰减。另一方面，在时间上与此接近，相对基板(G)的抗蚀剂喷嘴(78)的上升移动与扫描速度的减速分别在规定时刻(t2、t3)开始。这样，抗蚀剂喷嘴(78)的吐出压力正在衰减时，抗蚀剂喷嘴(78)上升移动，且扫描速度减速。
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公开(公告)号：CN100594584C
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200710160567.5
申请日：2007-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , B65G49/00 , B65G49/06
Abstract: 本发明提供一种浮起搬送式的基板处理装置。从搬送方向(X方向)看，在台(80)的左右两侧沿搬送方向分别以成一列的方式以一定间距配置有多个滚轮或侧面滚轮(110)。在台(80)上，基板(G)利用从正下方(台上面)的喷出口(100)获得的气体的压力浮在空中，同时其左右两侧端部搭载在台两侧的侧面滚轮(110)的上面。通过侧面滚轮(110)的旋转运动，在台(80)上浮起的基板(G)在侧面滚轮(110)上辗转传送并向搬送方向(X方向)平流移动。
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