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发明公开
等离子体处理装置审中-实审

公开(公告)号：CN114807908A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202210038157.8

申请日：2022-01-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 加藤寿 , 菊地宏之 , 浅利伸二 , 泽田雄司

IPC: C23C16/50 , C23C16/40 , C23C16/458 , H01Q1/22

Abstract: 本发明提供一种能够调整由等离子体产生的离子的供给量的等离子体处理装置。其具有：处理室；旋转台，其设于所述处理室内，并能够将基板沿着周向载置；处理气体供给喷嘴，其能够向所述旋转台供给处理气体；等离子体天线，其位于所述处理室上的、覆盖所述处理气体供给喷嘴的至少局部的位置；以及离子捕捉板，其设于比所述处理气体供给喷嘴靠上方的、所述处理室内的与所述等离子体天线的至少局部重叠的位置。

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