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公开(公告)号：CN113275193A
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN202110182809.0
申请日：2021-02-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基片液处理装置和液体释放评价方法。控制部控制液体供给部，使第一液体释放喷嘴移动并从第一液体释放喷嘴向基片的表面释放液体，使基片的表面上的液体的着落位置持续地变化。并且，控制部通过比较第一温度信息和第二温度信息，来导出液体供给部的释放位置偏移信息，其中第一温度信息使基于在使第一液体释放喷嘴沿第一喷嘴路径移动的情况下由温度测量部测量出的点温度的信息，第二温度信息是基于在使第一液体释放喷嘴沿与第一喷嘴路径不同的第二喷嘴路径移动的情况下由温度测量部测量出的点温度的信息。根据本发明，能够获得关于在对基片供给液体的液体供给部可能产生的释放位置偏移的信息。
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公开(公告)号：CN113275193B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202110182809.0
申请日：2021-02-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基片液处理装置和液体释放评价方法。控制部控制液体供给部，使第一液体释放喷嘴移动并从第一液体释放喷嘴向基片的表面释放液体，使基片的表面上的液体的着落位置持续地变化。并且，控制部通过比较第一温度信息和第二温度信息，来导出液体供给部的释放位置偏移信息，其中第一温度信息使基于在使第一液体释放喷嘴沿第一喷嘴路径移动的情况下由温度测量部测量出的点温度的信息，第二温度信息是基于在使第一液体释放喷嘴沿与第一喷嘴路径不同的第二喷嘴路径移动的情况下由温度测量部测量出的点温度的信息。根据本发明，能够获得关于在对基片供给液体的液体供给部可能产生的释放位置偏移的信息。
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公开(公告)号：CN114141655A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202110981153.9
申请日：2021-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供基片处理装置和基片处理方法，其能够简化对在排出管线中流动的流体中的干燥液的浓度进行测量的浓度测量部的结构。基片处理装置通过将形成于基片的干燥液的液膜置换为超临界流体，来使上述基片干燥。基片处理装置包括压力容器、排出管线、减压阀和浓度测量部。上述压力容器在内部收纳形成有上述液膜的上述基片。上述排出管线将上述压力容器的内部的流体排出。上述减压阀设置在上述排出管线的中途。上述浓度测量部测量在上述排出管线中流动的流体中的上述干燥液的浓度。上述浓度测量部设置在比上述排出管线的上述减压阀靠下游处，测量由上述减压阀减压了的流体中的上述干燥液的浓度。
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