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公开(公告)号：CN110643956A
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201910547442.0
申请日：2019-06-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供一种能够容易地改变开口部的形状的技术。本发明的一个方式的溅射装置包括：收纳基片的处理容器；和缝隙板，其将上述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置上述基片的第二空间，上述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部；和设置在上述内侧部件的周围的外侧部件，上述内侧部件相对于上述外侧部件是可拆装的。
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公开(公告)号：CN114628307A
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202111482379.0
申请日：2021-12-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种提高维护性的载置台和基板处理装置。载置台包括：电介质板，其在外周部形成有贯通孔，该电介质板具有用于载置基板的基板载置部；支承构件；第1绝热构件，其配置于所述电介质板与所述支承构件之间；第1施力构件，其配置于所述第1绝热构件与所述支承构件之间；以及紧固构件，其贯穿所述电介质板的贯通孔、所述第1绝热构件、所述第1施力构件，而将所述电介质板以能够装卸的方式固定于所述支承构件。
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公开(公告)号：CN111106036A
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201911013080.3
申请日：2019-10-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , C23C14/56
Abstract: 本发明提供一种能够在将所载置的基板冷却成极低温的状态下使该基板旋转且冷却性能较高的载置台装置和处理装置。载置台装置具备：载置台，其在真空容器内保持被处理基板；冷冻机，其具有被保持在极低温的冷头部；冷冻传导体，其以与冷头部接触了的状态固定配置，与载置台隔着间隙地设置到载置台的背面侧；绝热构造部，其以覆盖至少冷头部和冷冻传导体的与冷头部之间的连接部的方式设置，具有真空绝热构造；冷却流体，其向间隙供给，用于将冷冻传导体的冷能向所述载置台传导；以及载置台支承部，其被驱动机构驱动而旋转，将所述载置台支承成能够旋转。
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公开(公告)号：CN111101109A
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201911012343.9
申请日：2019-10-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够在将所载置的基板冷却成极低温的状态下使该基板旋转且冷却性能较高的载置台装置和处理装置。载置台装置具备：载置台，其在真空容器内保持被处理基板；冷冻传导体，其以与载置台隔着间隙的方式固定配置于载置台的背面侧，被冷冻机冷却成极低温；冷却流体，其向间隙供给，用于将冷冻传导体的冷能向载置台传导；载置台支承部，其将载置台支承成能够旋转，呈覆盖冷冻传导体的上部的圆筒状，并且具有真空绝热构造；以及旋转部，其支承载置台支承部，在被磁性流体密封着的状态下被驱动机构驱动而旋转。
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公开(公告)号：CN110643956B
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN201910547442.0
申请日：2019-06-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供一种能够容易地改变开口部的形状的技术。本发明的一个方式的溅射装置包括：收纳基片的处理容器；和缝隙板，其将上述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置上述基片的第二空间，上述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部；和设置在上述内侧部件的周围的外侧部件，上述内侧部件相对于上述外侧部件是可拆装的。
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公开(公告)号：CN113363199A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110205233.5
申请日：2021-02-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/687 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够高效地进行构成基片处理装置的载置台与制冷装置之间的热交换的、基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括：处理容器，其在内部具有载置基片的载置台和保持靶材的靶材保持件；制冷装置，以在其与上述载置台的下表面之间具有间隙的方式配置，具有制冷机和与上述制冷机层叠的制冷载热体；使上述载置台旋转的旋转装置；使上述载置台升降的第一升降装置；致冷剂流路，其设置在上述制冷装置的内部，对上述间隙供给致冷剂；和冷量传递材料，其配置在上述间隙，与上述载置台和上述制冷载热体这两者可热传导地接触。
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公开(公告)号：CN111710623A
公开(公告)日：2020-09-25
申请号：CN202010165216.9
申请日：2020-03-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种能够以高精度稳定地测定旋转的载物台的温度的温度测定机构、温度测定方法以及载物台装置。一种温度测定机构，其用于测定载物台的温度，该载物台载置被处理基板，并设置成能够旋转，该温度测定机构具有：温度检测用接触部，其设置于载物台的不成为被处理基板的载置的障碍的位置；和温度检测部，其具有温度传感器，在温度测定时以外设置于与所述温度检测用接触部分离开的位置，在测定载物台的温度之际，在载物台未旋转的状态下，使温度检测用接触部与温度检测部接触。
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公开(公告)号：CN309203607S
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202430432083.6
申请日：2024-07-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 1.本外观设计产品的名称：带温度测定功能基板台的载置部。
2.本外观设计产品的用途：本产品用于在半导体制造装置的处理室内经由静电吸盘部载置诸如半导体晶片等的基板，具有测定温度的功能。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状与图案的结合。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
5.其他需要说明的情形其他说明：用实线表示的部分是作为局部外观设计要求保护的部分。
点划线表示要求保护部分与不要求保护部分的分界线。
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