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公开(公告)号:CN113390526A
公开(公告)日:2021-09-14
申请号:CN202110239155.0
申请日:2021-03-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor: 中川西学
Abstract: 本发明提供这样的温度传感器和温度测量装置及温度测量方法,即,在利用温度传感器测量极低温的被测量体的温度时,能够抑制将构成温度传感器的电阻体和热锚部连接起来的引线断线。一种温度传感器,其安装于极低温的被测量体,借助引线将测量温度数据向测量温度输出部发送,该温度传感器具有:收纳体;电阻体,其位于所述收纳体的内部;以及热锚部,其位于所述收纳体的内部或外部,利用所述引线连接,从所述热锚部延伸配置的所述引线与所述测量温度输出部相连接。
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公开(公告)号:CN113363199A
公开(公告)日:2021-09-07
申请号:CN202110205233.5
申请日:2021-02-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/687 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够高效地进行构成基片处理装置的载置台与制冷装置之间的热交换的、基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括:处理容器,其在内部具有载置基片的载置台和保持靶材的靶材保持件;制冷装置,以在其与上述载置台的下表面之间具有间隙的方式配置,具有制冷机和与上述制冷机层叠的制冷载热体;使上述载置台旋转的旋转装置;使上述载置台升降的第一升降装置;致冷剂流路,其设置在上述制冷装置的内部,对上述间隙供给致冷剂;和冷量传递材料,其配置在上述间隙,与上述载置台和上述制冷载热体这两者可热传导地接触。
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公开(公告)号:CN111710623A
公开(公告)日:2020-09-25
申请号:CN202010165216.9
申请日:2020-03-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种能够以高精度稳定地测定旋转的载物台的温度的温度测定机构、温度测定方法以及载物台装置。一种温度测定机构,其用于测定载物台的温度,该载物台载置被处理基板,并设置成能够旋转,该温度测定机构具有:温度检测用接触部,其设置于载物台的不成为被处理基板的载置的障碍的位置;和温度检测部,其具有温度传感器,在温度测定时以外设置于与所述温度检测用接触部分离开的位置,在测定载物台的温度之际,在载物台未旋转的状态下,使温度检测用接触部与温度检测部接触。
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公开(公告)号:CN114657519A
公开(公告)日:2022-06-24
申请号:CN202111533236.8
申请日:2021-12-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、其温度控制方法、程序以及存储介质,能够在恢复常温时的升温序列中优化温度控制。本公开提供的基板处理装置具有:载置台,其在真空处理容器内保持被处理基板;传热气体容器,其以与所述载置台隔着间隙的方式配置于所述载置台的背面侧,通过冷冻机使该传热气体容器冷却;以及控制装置,其在基于设置于所述冷冻机的附近的第一控制点的温度进行加热控制以使所述冷冻机达到第一温度附近之后,进行控制以使对所述冷冻机的加热控制在开启与关闭之间进行切换。
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公开(公告)号:CN113394129A
公开(公告)日:2021-09-14
申请号:CN202110224018.X
申请日:2021-03-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供在制冷装置升降时,能够抑制压缩装置与致冷剂输送管的连接固定部的破损的基片处理装置及其制造方法。基片处理装置包括:内部有载置基片的载置台和靶材保持件的处理容器;在其与载置台的下表面之间具有间隙地配置,具有制冷机和与制冷机层叠的制冷载热体的制冷装置;使制冷装置升降的第一升降装置;制冷装置的内部的对间隙供给致冷剂的致冷剂流路;对供给到致冷剂流路的致冷剂进行压缩的压缩装置;以及与作为致冷剂流路口的第一连接固定部和跟压缩装置连通的第二连接固定部连接固定的致冷剂输送管,致冷剂输送管在第一连接固定部与第二连接固定部之间以至少一部分弯曲的状态延伸设置,在第二连接固定部中致冷剂输送管载置于支承部件上。
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公开(公告)号:CN111106036A
公开(公告)日:2020-05-05
申请号:CN201911013080.3
申请日:2019-10-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , C23C14/56
Abstract: 本发明提供一种能够在将所载置的基板冷却成极低温的状态下使该基板旋转且冷却性能较高的载置台装置和处理装置。载置台装置具备:载置台,其在真空容器内保持被处理基板;冷冻机,其具有被保持在极低温的冷头部;冷冻传导体,其以与冷头部接触了的状态固定配置,与载置台隔着间隙地设置到载置台的背面侧;绝热构造部,其以覆盖至少冷头部和冷冻传导体的与冷头部之间的连接部的方式设置,具有真空绝热构造;冷却流体,其向间隙供给,用于将冷冻传导体的冷能向所述载置台传导;以及载置台支承部,其被驱动机构驱动而旋转,将所述载置台支承成能够旋转。
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公开(公告)号:CN111101109A
公开(公告)日:2020-05-05
申请号:CN201911012343.9
申请日:2019-10-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够在将所载置的基板冷却成极低温的状态下使该基板旋转且冷却性能较高的载置台装置和处理装置。载置台装置具备:载置台,其在真空容器内保持被处理基板;冷冻传导体,其以与载置台隔着间隙的方式固定配置于载置台的背面侧,被冷冻机冷却成极低温;冷却流体,其向间隙供给,用于将冷冻传导体的冷能向载置台传导;载置台支承部,其将载置台支承成能够旋转,呈覆盖冷冻传导体的上部的圆筒状,并且具有真空绝热构造;以及旋转部,其支承载置台支承部,在被磁性流体密封着的状态下被驱动机构驱动而旋转。
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