公开(公告)号：CN110643956B

公开(公告)日：2022-01-07

申请号：CN201910547442.0

申请日：2019-06-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 武井纯一 ,  曾根浩 ,  铃木直行 ,  居本伸二

IPC: C23C14/34

Abstract: 本发明提供一种能够容易地改变开口部的形状的技术。本发明的一个方式的溅射装置包括：收纳基片的处理容器；和缝隙板，其将上述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置上述基片的第二空间，上述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部；和设置在上述内侧部件的周围的外侧部件，上述内侧部件相对于上述外侧部件是可拆装的。

公开(公告)号：CN111549323A

公开(公告)日：2020-08-18

申请号：CN202010079656.2

申请日：2020-02-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 武井纯一 ,  曽根浩

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/56

Abstract: 本发明提供一种溅射装置。提供一种能够抑制膜在处理容器的内壁的沉积的技术。本公开的一技术方案的溅射装置具有：靶材，其配置于能够减压的处理容器的顶部；气体导入部，其向所述处理容器内导入溅射气体；第1屏蔽构件，其配置于所述靶材的周围，用于防止膜在所述靶材的周围的沉积；以及第2屏蔽构件，其以在所述处理容器内与所述顶部空开间隔地覆盖所述顶部的内壁的方式配置，且在与所述靶材相对应的部分具有开口。

公开(公告)号：CN111549323B

公开(公告)日：2022-06-24

申请号：CN202010079656.2

申请日：2020-02-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 武井纯一 ,  曽根浩

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/56

Abstract: 本发明提供一种溅射装置。提供一种能够抑制膜在处理容器的内壁的沉积的技术。本公开的一技术方案的溅射装置具有：靶材，其配置于能够减压的处理容器的顶部；气体导入部，其向所述处理容器内导入溅射气体；第1屏蔽构件，其配置于所述靶材的周围，用于防止膜在所述靶材的周围的沉积；以及第2屏蔽构件，其以在所述处理容器内与所述顶部空开间隔地覆盖所述顶部的内壁的方式配置，且在与所述靶材相对应的部分具有开口。

公开(公告)号：CN112313361A

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN201980041218.2

申请日：2019-06-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 武井纯一 ,  渡边直树 ,  曽根浩 ,  铃木直行

IPC: C23C14/34

Abstract: 本公开的一形态的溅射装置具有：处理容器，其收容基板；狭缝板，其在所述处理容器内的所述基板的上方与所述基板的表面平行地配置，并具有在板厚方向上贯通的开口部；以及受热用板，其在相对于所述狭缝板倾斜设置的靶材的下方载置于所述狭缝板之上，由耐热性比所述狭缝板的耐热性高的材料形成。

公开(公告)号：CN110643956A

公开(公告)日：2020-01-03

申请号：CN201910547442.0

申请日：2019-06-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 武井纯一 ,  曾根浩 ,  铃木直行 ,  居本伸二

IPC: C23C14/34

Abstract: 本发明提供一种能够容易地改变开口部的形状的技术。本发明的一个方式的溅射装置包括：收纳基片的处理容器；和缝隙板，其将上述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置上述基片的第二空间，上述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部；和设置在上述内侧部件的周围的外侧部件，上述内侧部件相对于上述外侧部件是可拆装的。