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公开(公告)号：CN114071076A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202111214841.9
申请日：2017-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
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公开(公告)号：CN112147854A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010545970.5
申请日：2020-06-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种光照射装置，其包括：收纳基片的处理室；收纳能量射线的射线源的线源室；将处理室与线源室分隔开的分隔壁；多个窗部，其设置在分隔壁，能够使从射线源向处理室内的基片出射的能量射线透射；和多个气体释放部，其分别设置在处理室内的多个窗部的周围，沿多个窗部的表面释放非活性气体。根据本发明，能够有效提高光照射处理的稳定性。
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公开(公告)号：CN115202154A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210305450.6
申请日：2022-03-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/16
Abstract: 本公开涉及一种基板处理装置和基板处理方法，使利用了适于EUV光刻的抗蚀剂材料的基板中的曝光时的感光度在面内均匀。基板处理装置(1)具有：光源(42)，在对利用EUV光刻用抗蚀剂材料形成了抗蚀剂膜的基板进行曝光处理前该光源(42)向该基板照射包括真空紫外光的光；以及作为光量抑制构件的有孔板(52)，其设置于来自所述光源的光的光路上，用于将到达所述基板表面的光的光量在照射区域中整体性地抑制为微弱光，其中，包括真空紫外光的光包括10nm～200nm波长中所包含的至少一部分波长带的连续的光谱成分。
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公开(公告)号：CN114070977A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202111215335.1
申请日：2017-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
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公开(公告)号：CN111492314A
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201880081427.5
申请日：2018-12-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种光照射装置，其包括：多个氘灯，其向晶片W照射波长在200nm以下的、具有以光源为顶点的圆锥状的光路的真空紫外光；和多边形筒，其以遮挡从多个氘灯照射的真空紫外光的照射范围的重叠部分的方式与各氘灯对应地设置，多边形筒从真空紫外光的行进方向观察时形成为多边形。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107104064A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201710068654.1
申请日：2017-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H04N7/183 , G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N2021/8812 , G06T7/0004 , G06T2207/30148 , H04N5/2256 , H01L21/67288
Abstract: 本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
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公开(公告)号：CN1266741C
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN02817255.8
申请日：2002-07-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: H01L21/67253 , B05C5/0216 , B05C5/0291 , B05D1/005 , G03F7/162 , H01L21/6715
Abstract: 预先对与制品用基板相同的基板以喷嘴边进行扫描边供给涂布液以形成涂布液的线，对其例如以CCD摄像头进行摄像以求取涂布液的接触角，依据该接触角利用几何模型求取进行实际涂布时的扫描速度下的涂布液喷嘴的喷吐流量与间距容许范围二者的关系数据。并且，预先针对每种目标膜厚制作出涂布液喷嘴的喷吐流量与间距二者的关系数据，依据两者的关系数据确定间距。
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公开(公告)号：CN1421281A
公开(公告)日：2003-06-04
申请号：CN02154348.8
申请日：2002-11-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/6715 , B05B13/041 , B05C5/0208 , B05C11/1013
Abstract: 一种基片由可沿Y方向自由移动的基片固定部分(23)水平固定，在基片上方设有对着基片的喷嘴部分(5)，喷嘴部分(5)可沿对应于基片上涂层液体供给区域的X方向移动。排出口设在喷嘴部分(5)的下端，在排出口内设有将排出口(54)与连接到喷嘴部分上端的涂层液体输送管(61)相连的管道。在所述管道的中游设有直径大于排出口的液池部分，其内部设有由阻塞所述管道的多孔体构成的过滤件(71)。所述过滤件(71)形成压降部分，使涂层液体输送管中产生的脉动在到达排出口之前被吸收。
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公开(公告)号：CN114070977B
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202111215335.1
申请日：2017-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H04N23/55 , H04N23/54 , H04N23/56 , H01L21/67 , G01N21/88 , G01N21/95 , G06T7/00 , H04N23/74 , H04N23/90
Abstract: 本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
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公开(公告)号：CN110517952B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN201910413531.6
申请日：2019-05-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 古闲法久
IPC: H01L21/027 , H01L21/67 , G03F7/20
Abstract: 本发明说明一种能够抑制臭氧的产生并且有效地处理基片的基片处理装置。基片处理装置包括：能够进行基片的处理的处理室；包含光源的光源室，其中该光源能够对基片的表面照射真空紫外光；能够对光源室内供给非活性气体的气体供给部；和控制部，其执行控制气体供给部以使得将光源室内维持为非活性气体气氛的处理。
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