公开(公告)号：CN1266741C

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：CN02817255.8

申请日：2002-07-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小林真二 ,  北野高广 ,  森川祐晃 ,  石坂信和 ,  古闲法久 ,  南朋秀 ,  杉本伸一 ,  大仓淳 ,  栗岛启聪

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67253 ,  B05C5/0216 ,  B05C5/0291 ,  B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: 预先对与制品用基板相同的基板以喷嘴边进行扫描边供给涂布液以形成涂布液的线，对其例如以CCD摄像头进行摄像以求取涂布液的接触角，依据该接触角利用几何模型求取进行实际涂布时的扫描速度下的涂布液喷嘴的喷吐流量与间距容许范围二者的关系数据。并且，预先针对每种目标膜厚制作出涂布液喷嘴的喷吐流量与间距二者的关系数据，依据两者的关系数据确定间距。

公开(公告)号：CN1573568A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410048415.2

申请日：2004-06-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 伊藤和彦 ,  石丸和俊 ,  大仓淳 ,  木下道生 ,  道木裕一

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/68 ,  B65G49/07

Abstract: 一种将基板送入送出对基板进行规定的处理的处理单元的基板输送单元，在预先取得基板对基板保持部的交接位置的数据的情况下，以高精度而且在短时间内进行基板的对位。例如在使基板保持部旋转180度时的前后，分别拍摄由基板输送单元交给了基板保持部的对位用的基板表面上形成的标记的位置，根据该标记的位置数据，对基板的中心与基板保持部的旋转中心的位置偏移量进行了运算后，判断由该单元求得的位置偏移量的有无。然后，在断定了有位置偏移量时，将基板重新放置在基板输送单元上，以便基板的中心与基板保持部的旋转中心一致。

公开(公告)号：CN1296985C

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：CN200410048415.2

申请日：2004-06-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 伊藤和彦 ,  石丸和俊 ,  大仓淳 ,  木下道生 ,  道木裕一

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/02 ,  B65G49/07

Abstract: 一种将基板送入送出对基板进行规定的处理的处理单元的基板输送单元，在预先取得基板对基板保持部的交接位置的数据的情况下，以高精度而且在短时间内进行基板的对位。例如在使基板保持部旋转180度时的前后，分别拍摄由基板输送单元交给了基板保持部的对位用的基板表面上形成的标记的位置，根据该标记的位置数据，对基板的中心与基板保持部的旋转中心的位置偏移量进行了运算后，判断由该单元求得的位置偏移量的有无。然后，在断定了有位置偏移量时，将基板重新放置在基板输送单元上，以便基板的中心与基板保持部的旋转中心一致。

公开(公告)号：CN1552091A

公开(公告)日：2004-12-01

申请号：CN02817255.8

申请日：2002-07-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小林真二 ,  北野高广 ,  森川祐晃 ,  石坂信和 ,  古闲法久 ,  南朋秀 ,  杉本伸一 ,  大仓淳 ,  栗岛启聪

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67253 ,  B05C5/0216 ,  B05C5/0291 ,  B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: 预先对与制品用基板相同的基板以喷嘴边进行扫描边供给涂布液以形成涂布液的线，对其例如以CCD摄像头进行摄像以求取涂布液的接触角，依据该接触角利用几何模型求取进行实际涂布时的扫描速度下的涂布液喷嘴的喷吐流量与间距容许范围二者的关系数据。并且，预先针对每种目标膜厚制作出涂布液喷嘴的喷吐流量与间距二者的关系数据，依据两者的关系数据确定间距。