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公开(公告)号：CN111149057A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201880062816.3
申请日：2018-09-21
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明采用一种抗蚀剂组合物，含有：基材成分(A)，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；以通式(b1)表示的化合物(B1)。[化1]式中，Rb1表示具有类固醇骨架的碳数为17～50的1价烃基。其中，所述烃基可以包含杂原子。Yb1表示包含选自由羧酸酯基、醚基、碳酸酯基、羰基以及酰胺基构成的组中的至少一种官能团的2价连接基团或单键。Vb1表示亚烷基、氟代亚烷基或单键。Rf1以及Rf2的一方为氢原子，另一方为氟原子。m为1以上的整数，Mm+表示m价的有机阳离子。
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公开(公告)号：CN107844031B
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN201710838817.X
申请日：2017-09-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 含有高分子化合物和由以式(b1‑1)表示的化合物形成的产酸剂的抗蚀剂组合物，其中，该高分子化合物具有以式(a0‑1)表示的结构单元(a0)；式中，Ra00为以式(a0‑r1‑1)表示的酸解离性基团，Ra01、Ra02、Ra031、Ra032和Ra033为烃基，Ya0为季碳原子，R101为作为取代基具有至少1个羟基的烃基，Y101为单键或含氧原子的2价连接基团，V101为单键、亚烷基、或氟代亚烷基。[化1]
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公开(公告)号：CN107844030B
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN201710831056.5
申请日：2017-09-15
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，其特征在于，包含高分子化合物(A1)和由以通式(b1‑1)表示的化合物构成的产酸剂(B1)，该高分子化合物(A1)具有0～20摩尔％包含含极性基团的脂肪族烃基的结构单元(a3)。式(b1‑1)中，R101为具有至少1个羟基作为取代基的烃基。Y101为单键或含氧原子的2价连接基团。V101为单键、亚烷基或氟代亚烷基。R102为氟原子或碳数1～5的氟代烷基。M'm+为m价的有机阳离子。[化1]
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公开(公告)号：CN109791359A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780061520.5
申请日：2017-10-04
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，包含具有以通式(a0－1)表示的结构单元的高分子化合物。式(a0－1)中，R为氢原子、烷基或卤代烷基。Va0为2价烃基。na0为0～2。Ra00为以通式(a0－r1－1)表示的酸解离性基团。Ra01和Ra02为烃基。Ra01与Ra02可以相互键合而形成环结构。Ya0为季碳原子。Ra031、Ra032和Ra033为烃基，这些之中的1个以上为至少具有极性基团的烃基。[化1]
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公开(公告)号：CN107844031A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201710838817.X
申请日：2017-09-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/32 , G03F7/40 , G03F7/004
Abstract: 含有高分子化合物和由以式(b1-1)表示的化合物形成的产酸剂的抗蚀剂组合物，其中，该高分子化合物具有以式(a0-1)表示的结构单元(a0)；式中，Ra00为以式(a0-r1-1)表示的酸解离性基团，Ra01、Ra02、Ra031、Ra032和Ra033为烃基，Ya0为季碳原子，R101为作为取代基具有至少1个羟基的烃基，Y101为单键或含氧原子的2价连接基团，V101为单键、亚烷基、或氟代亚烷基。[化1]
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108693711B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN201810271130.7
申请日：2018-03-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , C07D285/01 , C07D513/04
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，它是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其中，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)和以通式(d1)表示的化合物(D1)。通式(d1)中，Rd01和Rd02分别独立为可具有取代基的环式基、可具有取代基的链状烷基、或可具有取代基的链状烯基。或者，Rd01与Rd02可相互结合而形成稠环。m为1以上的整数，Mm+表示m价的有机阳离子。[化1]
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公开(公告)号：CN108693711A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810271130.7
申请日：2018-03-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , C07D285/01 , C07D513/04
Abstract: 一种抗蚀剂组合物，它是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其中，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)和以通式(d1)表示的化合物(D1)。通式(d1)中，Rd01和Rd02分别独立为可具有取代基的环式基、可具有取代基的链状烷基、或可具有取代基的链状烯基。或者，Rd01与Rd02可相互结合而形成稠环。m为1以上的整数，Mm+表示m价的有机阳离子。[化1]
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公开(公告)号：CN106980232A
公开(公告)日：2017-07-25
申请号：CN201611184485.X
申请日：2016-12-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C07D313/10
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C211/05 , C07C211/63 , C07C321/28 , C07C323/20 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D493/08 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , G03F7/004 , C07D313/10 , G03F7/0035
Abstract: 通过曝光产生酸、且对显影液的溶解性因酸的作用而发生变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，含有对显影液的溶解性因酸的作用而发生变化的基材成分(A)、和通过曝光产生酸的产酸剂成分(B)，产酸剂成分(B)包含通式(b1)所示的化合物(B1)。通式(b1)中，Rb1表示包含极性基团的碳原子数7～30的带桥键的脂环式基团。Yb1表示可具有取代基(其中，排除选自芳香族烃基和乙烯基的取代基)的碳原子数9以上的直链状烃基。Vb1表示氟代亚烷基。m为1以上的整数，Mm+表示m价的有机阳离子。[化1]
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公开(公告)号：CN111149057B
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN201880062816.3
申请日：2018-09-21
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明采用一种抗蚀剂组合物，含有：基材成分(A)，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；以通式(b1)表示的化合物(B1)。[化1]式中，Rb1表示具有类固醇骨架的碳数为17～50的1价烃基。其中，所述烃基可以包含杂原子。Yb1表示包含选自由羧酸酯基、醚基、碳酸酯基、羰基以及酰胺基构成的组中的至少一种官能团的2价连接基团或单键。Vb1表示亚烷基、氟代亚烷基或单键。Rf1以及Rf2的一方为氢原子，另一方为氟原子。m为1以上的整数，Mm+表示m价的有机阳离子。
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公开(公告)号：CN109791359B
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN201780061520.5
申请日：2017-10-04
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，包含具有以通式(a0－1)表示的结构单元的高分子化合物。式(a0－1)中，R为氢原子、烷基或卤代烷基。Va0为2价烃基。na0为0～2。Ra00为以通式(a0－r1－1)表示的酸解离性基团。Ra01和Ra02为烃基。Ra01与Ra02可以相互键合而形成环结构。Ya0为季碳原子。Ra031、Ra032和Ra033为烃基，这些之中的1个以上为至少具有极性基团的烃基。[化1]
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