公开(公告)号：CN116745699B

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN202180083350.7

申请日：2021-11-19

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 高木大地 ,  中村刚 ,  板垣友祐

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039

Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有基材成分(A)、产酸剂成分(B)、可光降解的碱(D0)，可光降解的碱(D0)包含以通式(d0‑1)表示的化合物(D01)及以通式(d0‑2)表示的化合物(D02)。式中，Rd01为可具有取代基的链状或环状的脂肪族烃基。n01为1～10的整数。Rd02为具有氧原子(＝O)的环状的脂肪族烃基。m为1以上的整数，Mm+为m价的有机阳离子。#imgabs0#

公开(公告)号：CN110192151A

公开(公告)日：2019-08-30

申请号：CN201880006892.2

申请日：2018-01-12

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 生川智启 ,  藤崎真史 ,  长峰高志 ,  高木大地

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

Abstract: 一种抗蚀剂组合物，通过曝光产生酸，并且对显影液的溶解性因酸的作用而变化，其特征在于，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)与通过曝光产生酸的产酸剂成分(B)，所述产酸剂成分(B)含有2种化合物。

公开(公告)号：CN108693711B

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN201810271130.7

申请日：2018-03-29

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 长峰高志 ,  高木大地 ,  畠山響

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  C07D285/01 ,  C07D513/04

Abstract: 一种抗蚀剂组合物，它是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其中，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)和以通式(d1)表示的化合物(D1)。通式(d1)中，Rd01和Rd02分别独立为可具有取代基的环式基、可具有取代基的链状烷基、或可具有取代基的链状烯基。或者，Rd01与Rd02可相互结合而形成稠环。m为1以上的整数，Mm+表示m价的有机阳离子。[化1]

公开(公告)号：CN108693711A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810271130.7

申请日：2018-03-29

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 长峰高志 ,  高木大地 ,  畠山響

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  C07D285/01 ,  C07D513/04

Abstract: 一种抗蚀剂组合物，它是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其中，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)和以通式(d1)表示的化合物(D1)。通式(d1)中，Rd01和Rd02分别独立为可具有取代基的环式基、可具有取代基的链状烷基、或可具有取代基的链状烯基。或者，Rd01与Rd02可相互结合而形成稠环。m为1以上的整数，Mm+表示m价的有机阳离子。[化1]

公开(公告)号：CN116745699A

公开(公告)日：2023-09-12

申请号：CN202180083350.7

申请日：2021-11-19

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 高木大地 ,  中村刚 ,  板垣友祐

IPC: G03F7/039

Abstract: 一种抗蚀剂组合物，含有基材成分(A)、产酸剂成分(B)、可光降解的碱(D0)，可光降解的碱(D0)包含以通式(d0‑1)表示的化合物(D01)及以通式(d0‑2)表示的化合物(D02)。式中，Rd01为可具有取代基的链状或环状的脂肪族烃基。n01为1～10的整数。Rd02为具有氧原子(＝O)的环状的脂肪族烃基。m为1以上的整数，Mm+为m价的有机阳离子。#imgabs0#