公开(公告)号：CN109791359A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201780061520.5

申请日：2017-10-04

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 长峰高志 ,  仁藤豪人 ,  藤崎真史 ,  藤井达也 ,  福村友贵 ,  小岛孝裕 ,  铃木一生 ,  池田卓也 ,  阮庆信

IPC: G03F7/038 ,  C08F20/26 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，包含具有以通式(a0－1)表示的结构单元的高分子化合物。式(a0－1)中，R为氢原子、烷基或卤代烷基。Va0为2价烃基。na0为0～2。Ra00为以通式(a0－r1－1)表示的酸解离性基团。Ra01和Ra02为烃基。Ra01与Ra02可以相互键合而形成环结构。Ya0为季碳原子。Ra031、Ra032和Ra033为烃基，这些之中的1个以上为至少具有极性基团的烃基。[化1]

公开(公告)号：CN109791359B

公开(公告)日：2022-10-11

申请号：CN201780061520.5

申请日：2017-10-04

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 长峰高志 ,  仁藤豪人 ,  藤崎真史 ,  藤井达也 ,  福村友贵 ,  小岛孝裕 ,  铃木一生 ,  池田卓也 ,  阮庆信

IPC: G03F7/038 ,  C08F20/26 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，包含具有以通式(a0－1)表示的结构单元的高分子化合物。式(a0－1)中，R为氢原子、烷基或卤代烷基。Va0为2价烃基。na0为0～2。Ra00为以通式(a0－r1－1)表示的酸解离性基团。Ra01和Ra02为烃基。Ra01与Ra02可以相互键合而形成环结构。Ya0为季碳原子。Ra031、Ra032和Ra033为烃基，这些之中的1个以上为至少具有极性基团的烃基。[化1]