公开(公告)号：CN1754125A

公开(公告)日：2006-03-29

申请号：CN200480004937.0

申请日：2004-02-25

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 平山拓 ,  藤村悟史 ,  远藤浩太朗 ,  石塚启太

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，包括树脂成分(A)、产酸剂成分(B)、有机溶剂(C)、和用下述通式(1)表示的含氮有机化合物(D)；[式中，X、Y、Z相互独立，是可以在末端结合芳基的烷基(该X、Y和Z中的两个末端可以结合形成环状结构)，而且X、Y、Z中的至少一个含有极性基团，进而化合物(D)的分子量为200以上]。由此，本发明的光致抗蚀剂组合物可以使用于线缘粗糙度小、抗蚀图案轮廓形状出色的、包括浸润光刻技术的抗蚀图案的形成方法。

公开(公告)号：CN108693703B

公开(公告)日：2022-09-23

申请号：CN201810271129.4

申请日：2018-03-29

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 藤崎真史 ,  土屋纯一 ,  远藤浩太朗

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 一种抗蚀剂组合物，它是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，包含对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)，所述基材成分(A)包含高分子化合物(A1)，所述高分子化合物(A1)具有以下述通式(a0‑1)表示的结构单元(a01)、以下述通式(a0‑2)表示的结构单元(a02)、以及以下述通式(a0‑3)表示且具有与结构单元(a02)不同结构的结构单元(a03)。[化1]

公开(公告)号：CN106980232A

公开(公告)日：2017-07-25

申请号：CN201611184485.X

申请日：2016-12-20

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 长峰高志 ,  远藤浩太朗 ,  生川智启

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  C07D313/10

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C211/05 ,  C07C211/63 ,  C07C321/28 ,  C07C323/20 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D493/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  G03F7/004 ,  C07D313/10 ,  G03F7/0035

Abstract: 通过曝光产生酸、且对显影液的溶解性因酸的作用而发生变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，含有对显影液的溶解性因酸的作用而发生变化的基材成分(A)、和通过曝光产生酸的产酸剂成分(B)，产酸剂成分(B)包含通式(b1)所示的化合物(B1)。通式(b1)中，Rb1表示包含极性基团的碳原子数7～30的带桥键的脂环式基团。Yb1表示可具有取代基(其中，排除选自芳香族烃基和乙烯基的取代基)的碳原子数9以上的直链状烃基。Vb1表示氟代亚烷基。m为1以上的整数，Mm+表示m价的有机阳离子。[化1]

公开(公告)号：CN101088047A

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN200580044399.2

申请日：2005-12-22

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 石塚启太 ,  远藤浩太朗

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027 ,  C08F220/22

CPC classification number: G03F7/11 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

Abstract: 在液浸曝光处理中，能同时防止使用以水为代表的各种液浸曝光用液体的液浸曝光中抗蚀剂膜的桥等变质以及液浸曝光用液体的变质，并且能不增加处理工序数地进一步提高抗蚀剂膜的储藏稳定性，能使用液浸曝光形成高析像度的抗蚀剂图案。作为抗蚀剂保护膜形成用材料，使用特征在于用于形成抗蚀剂膜的上层保护膜、含有可溶于碱的聚合物成分、所述聚合物成分与水的接触角为90°以上的抗蚀剂保护膜形成用材料。作为上述聚合物，优选至少含有(甲基)丙烯酸构成单元与特定的丙烯酸酯构成单元的丙烯酸类聚合物。

公开(公告)号：CN108693703A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810271129.4

申请日：2018-03-29

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 藤崎真史 ,  土屋纯一 ,  远藤浩太朗

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 一种抗蚀剂组合物，它是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，包含对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)，所述基材成分(A)包含高分子化合物(A1)，所述高分子化合物(A1)具有以下述通式(a0‑1)表示的结构单元(a01)、以下述通式(a0‑2)表示的结构单元(a02)、以及以下述通式(a0‑3)表示且具有与结构单元(a02)不同结构的结构单元(a03)。[化1]。