公开(公告)号：CN103381327B

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201210137983.4

申请日：2012-05-04

Applicant: 上海微电子装备有限公司

Inventor： 张洪博 ,  赵建军 ,  李淼 ,  商飞祥 ,  龚辉

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提出一种过滤器装置，适用于向半导体制造领域的光刻机提供洁净的气浴气体。该过滤器装置包括风道外壁、于所述风道外壁内侧并排设置的多个过滤器以及多个分流板；所述过滤器平行于入风方向安装；所述分流板安装于过滤器的端部；且分流板与过滤器交替布置连接成封闭所述风道外壁内侧的结构，实现气体在过滤器装置入口的分流，经过过滤器之后，在过滤器装置出口的汇流。采用上述设计，此滤器装置在保证气浴气体洁净度的同时可以做到整体尺寸小、质量轻，可以安装在风道内部，适用于小型光刻机。

公开(公告)号：CN103381327A

公开(公告)日：2013-11-06

申请号：CN201210137983.4

申请日：2012-05-04

Applicant: 上海微电子装备有限公司

Inventor： 张洪博 ,  赵建军 ,  李淼 ,  商飞祥 ,  龚辉

IPC: B01D46/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提出一种过滤器装置，适用于向半导体制造领域的光刻机提供洁净的气浴气体。该过滤器装置包括风道外壁、于所述风道外壁内侧并排设置的多个过滤器以及多个分流板；所述过滤器平行于入风方向安装；所述分流板安装于过滤器的端部；且分流板与过滤器交替布置连接成封闭所述风道外壁内侧的结构，实现气体在过滤器装置入口的分流，经过过滤器之后，在过滤器装置出口的汇流。采用上述设计，此滤器装置在保证气浴气体洁净度的同时可以做到整体尺寸小、质量轻，可以安装在风道内部，适用于小型光刻机。