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公开(公告)号：CN103777476B
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201210402248.1
申请日：2012-10-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F9/7046 , G03F9/7069 , G03F9/7088
Abstract: 本发明涉及一种离轴对准系统及方法，该系统包括照明模块、干涉模块及探测模块，照明模块包括光源、多波长入射光纤及分光元件；干涉模块包括偏振分束器，偏振分束器与照明模块和探测模块所在的一侧相对的一侧设有第一1/4波片和第一反射镜，偏振分束器的另外两侧分别设有第二1/4波片、角锥棱镜和第三1/4波片、第二反射镜及透镜，第二反射镜位于透镜的后焦面上，角锥棱镜的底面中心位于透镜的光轴上；探测模块包括探测透镜组、偏振装置、探测光纤及光电探测器。采用离轴对准系统的光栅二次衍射技术，入射光束先后两次经过对准标记，且第二次衍射光束方向与原入射方向完全相反，以确保对准标记倾斜和/或离焦时，探测结果不会受到影响。
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公开(公告)号：CN103293884B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201210042665.X
申请日：2012-02-24
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的离轴对准系统，用于测量一对准标记的对准位置信息，包括：照明模块、偏振调节器、参考标记、包括偏振分光器的成像模块、探测模块，本发明主要是透过偏振调节器及偏振分光强调整参考光及探测光的能量比，并探测参考光及探测光在参考光栅处二次衍射产生的各级次衍射光的干涉光束，之后根据探测结果确定对准标记位置。
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公开(公告)号：CN105809652A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201410828168.1
申请日：2014-12-29
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种线阵相机姿态标定装置，包括：一光源，用于提供光束照射标记板；一对准标记，所述对准标记位于所述标记板表面，所述对准标记至少为2个；一线阵相机，所述线阵相机根据光照所述对准标记的成像，确定所述线阵相机相对于所述标记板的安装偏差，其特征在于，所述对准标记的几何外形的横向尺寸X与纵向尺寸Y具有唯一线性关系。
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公开(公告)号：CN104849964A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201410052179.5
申请日：2014-02-14
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种焦面测量装置及其测量方法，该装置包括投影单元和探测单元；所述投影单元包括波长选择单元及偏振调制单元，波长选择单元对投影光束的波长或波段进行选择，偏振调制单元对波长选择单元输出的投影光束的偏振态进行调制；所述探测单元包括偏振解调单元，用于对控制从硅片上表面反射的探测光束透过；以及参数设置单元，用于根据硅片的工艺特性对波长选择单元、偏振调制单元及偏振解调单元的参数进行配置。本发明通过设置波长选择单元、偏振调制单元以及偏振解调单元对光束进行偏振控制，实现硅片上表面反射的探测光束通过，底层图案的反射光束被抑制，降低底层图案对测量光斑的影响，从光学上解决硅片反射率不均匀的问题，且容易实现。
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公开(公告)号：CN104345577A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201310347666.X
申请日：2013-08-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供了一种对准装置，包括照明模块、干涉模块和探测模块，所述干涉模块至少包括一组科斯特（Koster）棱镜，多个波长的光源发出的光束通过所述照明模块输出照明光束，所述照明光束通过所述干涉模块入射到对准标记，所述干涉模块还通过所述科斯特（Koster）棱镜将所述对准标记衍射得到的对称的正负极衍射光进行重合形成探测光，所述探测光被所述探测模块转化为干涉信号并进行收集，从而通过收集得到的干涉信号的信息可以得到所述对准标记的位置信息。本发明在干涉模块中使用了科斯特（Koster）棱镜（Koester棱镜），相比于空间多面体结构的屋脊棱镜，可有效的降低加工制造、装调难度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106323163A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201510406138.6
申请日：2015-07-10
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明涉及一种表面3D检测装置及检测方法，该装置依次包括照明单元、偏振分束单元、多路光分束单元、多个相移板及探测器；照明单元产生的光束经偏振分束单元形成探测光束和参考光束；重合后的探测光束和参考光束分别经多路光分束单元分离为多路分支，每路分支对应一个相移板，使偏振方向相互垂直的探测光束和参考光束产生额外的相位差，之后再经过偏振合束器，使探测光束和参考光束具有相同偏振方向，从而在探测器表面产生干涉信号；每路分支中的相移板产生的额外的相位差不同。本发明不需要进行垂向扫描，可瞬间获取测量点的多个干涉信号，从而计算出视场内待测样品表面的高度信息，配合运动台的扫描，可快速实现大尺寸待测样品的表面3D检测。
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公开(公告)号：CN104950584A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201410114010.8
申请日：2014-03-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 张鹏黎
Abstract: 本发明公开了一种成像对准系统，包括：光源、波长选择单元、偏振调节单元、探测器，以及信号处理与控制单元；光源提供照明光束，所述照明光束依次通过用于选择特定波长的光束的波长选择单元、用于实现照明光束偏振方向的调节的偏振调节单元，再经基片上方的第一透镜后投射到基片的对准标记上，产生反射光或衍射光再经第一透镜收集后，由探测器接收；所述信号处理与控制单元用于图像的采集和处理，并进行所述波长选择单元、偏振调节单元的状态控制。本发明增加了波长选择单元，可针对不同工艺特性的测试对象，实现波长、偏振的最优配置，增加标记图像的对比度，提高对准系统的对准成功率和测量精度。
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公开(公告)号：CN104279978A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201310294767.5
申请日：2013-07-12
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种三维图形检测装置及测量方法，该装置包括：照明投影模块，用于产生探测光束及参考光束，并将探测光束投影到所述待测样品表面；参考成像模块，包括一参考平面，所述参考成像模块用于收集投射到所述参考平面处的所述参考光束，以产生参考光光强分布信号；探测成像模块，用于收集待测样品表面的反射及衍射光，以产生探测光光强分布信号；以及控制处理模块，用于将所述探测光光强分布信号与参考光光强分布信号进行强度关联运算，获取待测样品表面形貌参数。本发明采用传统的成像探测方式，收集待测硅片的零级反射光和各级衍射光，不需空间滤光，提高光能利用效率；实现大视场的照明，探测光斑能覆盖多个表面形貌，提高检测效率。
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公开(公告)号：CN103777476A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201210402248.1
申请日：2012-10-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
CPC classification number: G03F7/70141 , G03F9/7046 , G03F9/7069 , G03F9/7088
Abstract: 本发明涉及一种离轴对准系统及方法，该系统包括照明模块、干涉模块及探测模块，照明模块包括光源、多波长入射光纤及分光元件；干涉模块包括偏振分束器，偏振分束器与照明模块和探测模块所在的一侧相对的一侧设有第一1/4波片和第一反射镜，偏振分束器的另外两侧分别设有第二1/4波片、角锥棱镜和第三1/4波片、第二反射镜及透镜，第二反射镜位于透镜的后焦面上，角锥棱镜的底面中心位于透镜的光轴上；探测模块包括探测透镜组、偏振装置、探测光纤及光电探测器。采用离轴对准系统的光栅二次衍射技术，入射光束先后两次经过对准标记，且第二次衍射光束方向与原入射方向完全相反，以确保对准标记倾斜和/或离焦时，探测结果不会受到影响。
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公开(公告)号：CN103293884A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201210042665.X
申请日：2012-02-24
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的离轴对准系统，用于测量一对准标记的对准位置信息，包括：照明模块、偏振调节器、参考标记、包括偏振分光器的成像模块、探测模块，本发明主要是透过偏振调节器及偏振分光强调整参考光及探测光的能量比，并探测参考光及探测光在参考光栅处二次衍射产生的各级次衍射光的干涉光束，之后根据探测结果确定对准标记位置。
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