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公开(公告)号：CN102200785A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN201010133808.9
申请日：2010-03-26
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G05D3/12
Abstract: 本发明公开了一种基于FPGA的孔径光阑控制装置，用于将孔径光阑调整至目标位置，其包括：孔径光阑；驱动电机，连接所述孔径光阑，其用于改变所述孔径光阑的位置；传感器，连接所述孔径光阑，其传感所述孔径光阑的当前位置信息以得到当前位置模拟信号；模数转换器，连接所述传感器，其将所述当前位置模拟信号转换成当前位置数字信号；目标位置设定模块，用于设定所述孔径光阑的目标位置信息并得到目标位置数字信号；FPGA，连接所述模数转换器和所述目标位置设定模块，其根据所述目标位置数字信号和所述当前位置数字信号的差值通过PID算法得到数字控制信号；数模转换器，连接所述FPGA，其将所述数字控制信号转换成模拟控制信号，并输出所述模拟控制信号给所述驱动电机。
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公开(公告)号：CN101561636B
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN200910051547.3
申请日：2009-05-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种光刻曝光剂量控制装置与方法。光刻曝光剂量控制装置包括：测量单元；控制单元以及承载单元。测量单元，用于实时测量光强分布，并输出实测信号。控制单元，耦接测量单元，接收实测实测信号，进行运算并输出控制信号。狭缝刀片组，耦接控制单元，接收控制信号，并依据控制信号调整曝光区域大小。本发明的光刻曝光剂量控制装置与方法可以提高曝光区域内硅片表面的光刻剂量精度和重复性，克服由于非扫描方向光强分布不均造成的系统偏差，并且能极大地抑制由于设备老化造成的系统偏差。
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公开(公告)号：CN101561636A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200910051547.3
申请日：2009-05-19
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种光刻曝光剂量控制装置与方法。光刻曝光剂量控制装置包括：测量单元；控制单元以及承载单元。测量单元，用于实时测量光强分布，并输出实测信号。控制单元，耦接测量单元，接收实测实测信号，进行运算并输出控制信号。狭缝刀片组，耦接控制单元，接收控制信号，并依据控制信号调整曝光区域大小。本发明的光刻曝光剂量控制装置与方法可以提高曝光区域内硅片表面的光刻剂量精度和重复性，克服由于非扫描方向光强分布不均造成的系统偏差，并且能极大地抑制由于设备老化造成的系统偏差。
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公开(公告)号：CN102200785B
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201010133808.9
申请日：2010-03-26
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G05D3/12
Abstract: 本发明公开了一种基于FPGA的孔径光阑控制装置，用于将孔径光阑调整至目标位置，其包括：孔径光阑；驱动电机，连接所述孔径光阑，其用于改变所述孔径光阑的位置；传感器，连接所述孔径光阑，其传感所述孔径光阑的当前位置信息以得到当前位置模拟信号；模数转换器，连接所述传感器，其将所述当前位置模拟信号转换成当前位置数字信号；目标位置设定模块，用于设定所述孔径光阑的目标位置信息并得到目标位置数字信号；FPGA，连接所述模数转换器和所述目标位置设定模块，其根据所述目标位置数字信号和所述当前位置数字信号的差值通过PID算法得到数字控制信号；数模转换器，连接所述FPGA，其将所述数字控制信号转换成模拟控制信号，并输出所述模拟控制信号给所述驱动电机。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101566801A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200910052185.X
申请日：2009-05-27
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种防止镜片碰撞的方法及装置，通过判断镜片的运动方向，合理安排镜片的运动顺序，从而达到防止镜片发生碰撞的效果。另外，所述防止镜片碰撞的装置还可增设探测模块来加以保障，结构简单可靠，不需要严格的机械安装条件的限制，并且不会出现误判的情况，即使在断电装调过程中也不会出现误操作导致可动镜片损毁，同时能够降低维护和修理成本。
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公开(公告)号：CN101566801B
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN200910052185.X
申请日：2009-05-27
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种防止镜片碰撞的方法及装置，通过判断镜片的运动方向，合理安排镜片的运动顺序，从而达到防止镜片发生碰撞的效果。另外，所述防止镜片碰撞的装置还可增设探测模块来加以保障，结构简单可靠，不需要严格的机械安装条件的限制，并且不会出现误判的情况，即使在断电装调过程中也不会出现误操作导致可动镜片损毁，同时能够降低维护和修理成本。
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公开(公告)号：CN101308332A
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200810039958.6
申请日：2008-07-01
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种控制光刻曝光剂量的方法及其系统。本发明所提供的控制光刻曝光剂量的方法是利用多个脉冲的平均波动性低于曝光精度要求的特性，通过选择曝光的激光脉冲的个数来控制光刻曝光剂量精度，并进一步决定衰减率，最后进行曝光。使用该方法的控制光刻曝光剂量的系统主要包括激光器、衰减器、控制器以及能量传感器，系统具有结构相对简单的优点，并且结合其控制光刻曝光剂量的方法使用能大大提高光刻曝光剂量精度。
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公开(公告)号：CN101308332B
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200810039958.6
申请日：2008-07-01
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种控制光刻曝光剂量的方法及其系统。本发明所提供的控制光刻曝光剂量的方法是利用多个脉冲的平均波动性低于曝光精度要求的特性，通过选择曝光的激光脉冲的个数来控制光刻曝光剂量精度，并进一步决定衰减率，最后进行曝光。使用该方法的控制光刻曝光剂量的系统主要包括激光器、衰减器、控制器以及能量传感器，系统具有结构相对简单的优点，并且结合其控制光刻曝光剂量的方法使用能大大提高光刻曝光剂量精度。
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公开(公告)号：CN201436605U
公开(公告)日：2010-04-07
申请号：CN200920073090.1
申请日：2009-05-27
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本实用新型提供了一种防止镜片碰撞的装置，通过安装在可移动镜片上的探测模块探测镜片间的距离，并根据探测结果，在镜片将要发生碰撞前控制驱动模块，从而阻止镜片进一步移动，达到防止发生碰撞的效果。另外，还可通过控制模块设置照明模式，判断移动镜片的移动方向，合理安排镜片的移动顺序。整个装置结构简单可靠，不需要严格的机械安装条件的限制，并且不会出现误判的情况，即使在断电装调过程中也不会出现误操作导致可动镜片损毁。同时能够在不影响光学性能的前提下，提高光刻设备的可靠性并且同时降低维护和修理成本。
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