一种三元高温陶瓷材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN117209286A

    公开(公告)日:2023-12-12

    申请号:CN202311174773.7

    申请日:2023-09-12

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明提供了一种三元高温陶瓷材料,化学成分按质量百分比计包括:TiB243~60%、TiN 36~52%和SiC 1~15%。本发明中TiN是一种高熔点,具有高介电损耗,独特电磁行为的电磁波吸收材料,能够进一步提高TiB2的吸波性能,同时TiB2能够弥补TiN有效吸收带宽不足和吸收能力较弱的缺陷;SiC和TiN能够与TiB2复合形成介电损耗型微波吸收材料,从而提升了TiB2的微波吸收性能。

    利用煤矸石制备活性炭-4A型分子筛复合材料的方法

    公开(公告)号:CN104028219A

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN201410265829.4

    申请日:2014-06-16

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明涉及一种利用煤矸石制备活性炭-4A型分子筛复合材料的方法。本发明的要点是:以富含石英煤矸石为主要原料,配入氧化铝或氢氧化铝,外加NaOH做为活化剂,惰性气体气氛下,分别经高温活化、陈化和晶化后制得活性炭-4A型分子筛复合材料,该复合材料所用原料成本低廉,并且同时充分利用了煤矸石中的硅、铝、碳元素。本发明制备的活性炭-4A型分子筛复合材料不仅具有微孔和中孔的复合孔结构特征,而且同时具有亲水性和亲油性以及离子交换性质。根据QB/T1768-2003的方法,测定活性炭-4A型分子筛复合材料的Ca2+交换量为:285~310mgCaCO3/g干基。

    一种用于计算机硬盘基片抛光的多孔纳米氧化铝抛光液

    公开(公告)号:CN102220087A

    公开(公告)日:2011-10-19

    申请号:CN201110114788.5

    申请日:2011-05-05

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明涉及一种用于计算机硬盘基片的抛光液,特别是一种可用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光,属于计算机存储器硬盘制造及表面抛光技术领域。本发明的抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料、氧化剂、分散剂、表面活性剂和水,其特点在于该抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料。本发明的多孔纳米氧化铝抛光液组成及其重量百分比如下:多孔纳米氧化铝磨料1~10%;氧化剂1~6%;分散剂0.2~1.0%;表面活性剂0.1~1%;余重为水。采用本发明提供的抛光液对硬盘基片进行抛光,可降低基片表面的粗糙度。多孔纳米氧化铝的粒径为50~500nm,孔径为1~20nm;氧化剂为双氧水,分散剂为六偏磷酸钠,表面活性剂为十二烷基聚氧乙烯醚,水采用去离子水。

    一种超高温陶瓷基复合材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN115716755B

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN202211444486.9

    申请日:2022-11-18

    Abstract: 本发明涉及超高温陶瓷技术领域,公开了一种超高温陶瓷基复合材料及其制备方法,该方法包括如下步骤:S1:原料粉球磨混合及稀土金属元素引入,S2:粉体氢气还原,S3:粉体烧结。本发明通过在超高温陶瓷原料粉中加入稀土元素金属粉进行球磨混合,并对混合粉体进行氢气还原,使复合陶瓷的氧含量低于0.1%,显著促进烧结致密化,同时稀土金属粉的引入导致复合陶瓷中产生稀土掺杂相和晶界析出相,阻碍晶粒长大并降低了晶界的元素扩散速率,提高了材料的强韧性;在高温烧蚀过程中稀土元素与SiO2结合形成Re‑Si‑O相,提高玻璃相的稳定性,使得超高温陶瓷基复合材料的抗烧蚀性能得到了提高。

    一种纳米氧化铋抗辐射陶瓷涂层、制备方法及应用

    公开(公告)号:CN113683909B

    公开(公告)日:2022-07-12

    申请号:CN202111025389.1

    申请日:2021-09-02

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明公开了一种纳米氧化铋抗辐射陶瓷涂层、制备方法及应用,所述的陶瓷涂层是由如下质量百分比的组分制备的特征涂料的浆料固化而成:纳米氧化铋10~25%;硅烷20~30%;酸2~5%;溶剂45~60%;助剂1~5%;所述特征涂料的浆料固化后形成陶瓷涂层,该陶瓷涂层中氧化铋的含量最高可达到80wt%。本发明还公开了该陶瓷涂层的制备方法,先制得特征涂料,涂覆在管壳基底材料表面,制备特征涂层,固化后得到陶瓷涂层。本发明还公开了该陶瓷涂层的应用,将其用于提升电子元器件基体的抗辐射性能,可有效降低电子元器件基体被γ或X射线等高能辐射的损害。

    一种纳米氧化铋抗辐射陶瓷涂层、制备方法及应用

    公开(公告)号:CN113683909A

    公开(公告)日:2021-11-23

    申请号:CN202111025389.1

    申请日:2021-09-02

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明公开了一种纳米氧化铋抗辐射陶瓷涂层、制备方法及应用,所述的陶瓷涂层是由如下质量百分比的组分制备的特征涂料的浆料固化而成:纳米氧化铋10~25%;硅烷20~30%;酸2~5%;溶剂45~60%;助剂1~5%;所述特征涂料的浆料固化后形成陶瓷涂层,该陶瓷涂层中氧化铋的含量最高可达到80wt%。本发明还公开了该陶瓷涂层的制备方法,先制得特征涂料,涂覆在管壳基底材料表面,制备特征涂层,固化后得到陶瓷涂层。本发明还公开了该陶瓷涂层的应用,将其用于提升电子元器件基体的抗辐射性能,可有效降低电子元器件基体被γ或X射线等高能辐射的损害。

    氧化铝/氧化铁复合磨粒及其制备方法

    公开(公告)号:CN101368012A

    公开(公告)日:2009-02-18

    申请号:CN200810200283.9

    申请日:2008-09-24

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明涉及一种氧化铝/氧化铁复合磨粒及其制备方法。该复合磨粒的内核为α-Al2O3,而包覆层为氧化铁,其中氧化铁的质量为α-Al2O3的含量为2~40%。本发明方法制得的氧化铝/氧化铁复合磨料其内核为α-Al2O3,外壳的氧化铁包覆层,由于外壳硬度较低,从而降低了在加压、加速抛光条件下,抛光微区内无机α-Al2O3磨粒对工件表现的“硬冲击”,从而改善抛光划痕和表面损伤、改善抛光后表面的微观状况,并降低粗糙度。并且由于氧化铁具有较强的化学作用,该复合磨粒同时具有较高的抛光速率。

    一种多元金属硼化物超高温陶瓷材料的设计方法及系统

    公开(公告)号:CN117669262A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202311833319.8

    申请日:2023-12-28

    Abstract: 本发明公开一种多元金属硼化物超高温陶瓷材料的设计方法及系统,涉及超高温陶瓷材料技术领域,该设计方法通过评估单组元金属硼化物超高温陶瓷材料的力学性能,并综合考虑其高温稳定性,从而选择三种单组元金属硼化物超高温陶瓷材料;基于这三种单组元金属硼化物优化设计多元超高温陶瓷材料固溶体的组元成分及组分配比,构建固溶体结构模型,并采用模拟软件模拟不同固溶体结构模型的应变程度,从而确定结构最稳定的多元金属硼化物超高温陶瓷材料。相较于试错法的高实验成本、长研制周期的特点,本发明实现了高效快速、低成本设计多元金属硼化物超高温陶瓷材料。

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