-
公开(公告)号：CN102220087A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN201110114788.5
申请日：2011-05-05
Applicant: 上海大学
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明涉及一种用于计算机硬盘基片的抛光液，特别是一种可用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光，属于计算机存储器硬盘制造及表面抛光技术领域。本发明的抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料、氧化剂、分散剂、表面活性剂和水，其特点在于该抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料。本发明的多孔纳米氧化铝抛光液组成及其重量百分比如下：多孔纳米氧化铝磨料1~10%；氧化剂1~6%；分散剂0.2~1.0%；表面活性剂0.1~1%；余重为水。采用本发明提供的抛光液对硬盘基片进行抛光，可降低基片表面的粗糙度。多孔纳米氧化铝的粒径为50~500nm，孔径为1~20nm；氧化剂为双氧水，分散剂为六偏磷酸钠，表面活性剂为十二烷基聚氧乙烯醚，水采用去离子水。
Search Results
1
records
(took 0.016 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
