公开(公告)号：CN101735895B

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN201010023075.3

申请日：2010-01-21

Applicant: 上海大学

Inventor： 雷红 ,  陈入领 ,  布乃敬 ,  郝萍 ,  李虎 ,  吴鑫 ,  蒋磊

IPC: C11D1/74 ,  C11D1/72 ,  C11D1/29 ,  C11D1/06 ,  C11D3/60 ,  C11D3/33 ,  C11D3/34 ,  C11D3/28 ,  C11D3/04

Abstract: 本发明涉及一种用于抛光后计算机硬盘基片的酸洗液组合物，特别是一种可用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光后表面的酸性清洗液组合物。本发明酸洗液组合物的组成及其重量百分如下：酸1～8％，缓蚀剂0.1～2.0％，表面活性剂0.05～1.0％，去离子水余量。采用本发明提供的酸洗液组合物对抛光后的计算机硬盘基片进行清洗，可有效降低表面纳米级微粗糙峰个数，减轻表面抛光微缺陷状况，减少表面残留颗粒，因而可提高表面光洁度和清洁度。

公开(公告)号：CN101735895A

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN201010023075.3

申请日：2010-01-21

Applicant: 上海大学

Inventor： 雷红 ,  陈入领 ,  布乃敬 ,  郝萍 ,  李虎 ,  吴鑫 ,  蒋磊

IPC: C11D1/74 ,  C11D1/72 ,  C11D1/29 ,  C11D1/06 ,  C11D3/60 ,  C11D3/33 ,  C11D3/34 ,  C11D3/28 ,  C11D3/04

Abstract: 本发明涉及一种用于抛光后计算机硬盘基片的酸洗液组合物，特别是一种可用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光后表面的酸性清洗液组合物。本发明酸洗液组合物的组成及其重量百分如下：酸1～8％，缓蚀剂0.1～2.0％，表面活性剂0.05～1.0％，去离子水余量。采用本发明提供的酸洗液组合物对抛光后的计算机硬盘基片进行清洗，可有效降低表面纳米级微粗糙峰个数，减轻表面抛光微缺陷状况，减少表面残留颗粒，因而可提高表面光洁度和清洁度。

公开(公告)号：CN102408871A

公开(公告)日：2012-04-11

申请号：CN201110298605.X

申请日：2011-09-28

Applicant: 上海大学

Inventor： 雷红 ,  陈入领 ,  蒋磊 ,  李虎 ,  陈思思 ,  王志军 ,  江冉冉

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明涉及一种含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法。该复合磨粒为：a.由氧化硅与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化硅磨粒；b.由氧化铝与与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化铝磨粒。该复合磨粒为纳米级孔道结构，可降低磨料硬度，减小无机致密磨粒对基片的过度碰撞，以降低抛光损伤；该磨粒的化学组成上含有铁或铜、铈、镍、钛、银等抛光活性元素，可提高磨粒的化学作用，同时磨粒的多孔结构可吸附储存抛光液成分，提高磨粒的化学活性。化学作用的提高可提高磨粒的抛光速度，这样设计的磨粒可同时达到“高速率、高精度”抛光的目的。采用本发明提供的抛光液对电子器件如硬盘基片进行抛光，可以有效降低存储器硬盘基片表面的粗糙度，并具有高的抛光速度。

公开(公告)号：CN102220087A

公开(公告)日：2011-10-19

申请号：CN201110114788.5

申请日：2011-05-05

Applicant: 上海大学

Inventor： 雷红 ,  陈入领 ,  吴鑫 ,  布乃敬 ,  李虎 ,  蒋磊 ,  梁敏

IPC: C09G1/02

Abstract: 本发明涉及一种用于计算机硬盘基片的抛光液，特别是一种可用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光，属于计算机存储器硬盘制造及表面抛光技术领域。本发明的抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料、氧化剂、分散剂、表面活性剂和水，其特点在于该抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料。本发明的多孔纳米氧化铝抛光液组成及其重量百分比如下：多孔纳米氧化铝磨料1~10%；氧化剂1~6%；分散剂0.2~1.0%；表面活性剂0.1~1%；余重为水。采用本发明提供的抛光液对硬盘基片进行抛光，可降低基片表面的粗糙度。多孔纳米氧化铝的粒径为50~500nm，孔径为1~20nm；氧化剂为双氧水，分散剂为六偏磷酸钠，表面活性剂为十二烷基聚氧乙烯醚，水采用去离子水。

公开(公告)号：CN102408871B

公开(公告)日：2013-11-20

申请号：CN201110298605.X

申请日：2011-09-28

Applicant: 上海大学

Inventor： 雷红 ,  陈入领 ,  蒋磊 ,  李虎 ,  陈思思 ,  王志军 ,  江冉冉

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明涉及一种含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法。该复合磨粒为：a.由氧化硅与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化硅磨粒；b.由氧化铝与与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化铝磨粒。该复合磨粒为纳米级孔道结构，可降低磨料硬度，减小无机致密磨粒对基片的过度碰撞，以降低抛光损伤；该磨粒的化学组成上含有铁或铜、铈、镍、钛、银等抛光活性元素，可提高磨粒的化学作用，同时磨粒的多孔结构可吸附储存抛光液成分，提高磨粒的化学活性。化学作用的提高可提高磨粒的抛光速度，这样设计的磨粒可同时达到“高速率、高精度”抛光的目的。采用本发明提供的抛光液对电子器件如硬盘基片进行抛光，可以有效降低存储器硬盘基片表面的粗糙度，并具有高的抛光速度。