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公开(公告)号：CN101672245B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200910197133.1
申请日：2009-10-14
Applicant: 上海大学
CPC classification number: Y02E10/721
Abstract: 本发明涉及一种桨叶前缘带旋转圆柱的水平轴风力机。它包括竖直安装的塔架、安装在塔架顶端的水平轴机箱、位于机箱前端的桨叶和轮毂或导流罩。每个桨叶前缘装有一根可控的绕自身轴线正向或反向旋转的圆柱体，而且该旋转圆柱与桨叶一起随机箱中的转子公转。通过调节旋转圆柱体的旋转转速和方向，控制气流在桨叶上的流动分离，提高风力机桨叶的升阻比，从而达到有效利用风能的目的。
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公开(公告)号：CN102408871A
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN201110298605.X
申请日：2011-09-28
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明涉及一种含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法。该复合磨粒为：a.由氧化硅与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化硅磨粒；b.由氧化铝与与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化铝磨粒。该复合磨粒为纳米级孔道结构，可降低磨料硬度，减小无机致密磨粒对基片的过度碰撞，以降低抛光损伤；该磨粒的化学组成上含有铁或铜、铈、镍、钛、银等抛光活性元素，可提高磨粒的化学作用，同时磨粒的多孔结构可吸附储存抛光液成分，提高磨粒的化学活性。化学作用的提高可提高磨粒的抛光速度，这样设计的磨粒可同时达到“高速率、高精度”抛光的目的。采用本发明提供的抛光液对电子器件如硬盘基片进行抛光，可以有效降低存储器硬盘基片表面的粗糙度，并具有高的抛光速度。
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公开(公告)号：CN101672245A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200910197133.1
申请日：2009-10-14
Applicant: 上海大学
CPC classification number: Y02E10/721
Abstract: 本发明涉及一种桨叶前缘带旋转圆柱的水平轴风力机。它包括竖直安装的塔架、安装在塔架顶端的水平轴机箱、位于机箱前端的桨叶和轮毂或导流罩。每个桨叶前缘装有一根可控的绕自身轴线正向或反向旋转的圆柱体，而且该旋转圆柱与桨叶一起随机箱中的转子公转。通过调节旋转圆柱体的旋转转速和方向，控制气流在桨叶上的流动分离，提高风力机桨叶的升阻比，从而达到有效利用风能的目的。
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公开(公告)号：CN101735895B
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN201010023075.3
申请日：2010-01-21
Applicant: 上海大学
IPC: C11D1/74 , C11D1/72 , C11D1/29 , C11D1/06 , C11D3/60 , C11D3/33 , C11D3/34 , C11D3/28 , C11D3/04
Abstract: 本发明涉及一种用于抛光后计算机硬盘基片的酸洗液组合物，特别是一种可用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光后表面的酸性清洗液组合物。本发明酸洗液组合物的组成及其重量百分如下：酸1～8％，缓蚀剂0.1～2.0％，表面活性剂0.05～1.0％，去离子水余量。采用本发明提供的酸洗液组合物对抛光后的计算机硬盘基片进行清洗，可有效降低表面纳米级微粗糙峰个数，减轻表面抛光微缺陷状况，减少表面残留颗粒，因而可提高表面光洁度和清洁度。
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公开(公告)号：CN101735895A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN201010023075.3
申请日：2010-01-21
Applicant: 上海大学
IPC: C11D1/74 , C11D1/72 , C11D1/29 , C11D1/06 , C11D3/60 , C11D3/33 , C11D3/34 , C11D3/28 , C11D3/04
Abstract: 本发明涉及一种用于抛光后计算机硬盘基片的酸洗液组合物，特别是一种可用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光后表面的酸性清洗液组合物。本发明酸洗液组合物的组成及其重量百分如下：酸1～8％，缓蚀剂0.1～2.0％，表面活性剂0.05～1.0％，去离子水余量。采用本发明提供的酸洗液组合物对抛光后的计算机硬盘基片进行清洗，可有效降低表面纳米级微粗糙峰个数，减轻表面抛光微缺陷状况，减少表面残留颗粒，因而可提高表面光洁度和清洁度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102408871B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201110298605.X
申请日：2011-09-28
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明涉及一种含抛光活性元素的多孔纳米复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法。该复合磨粒为：a.由氧化硅与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化硅磨粒；b.由氧化铝与与含有抛光活性元素的氧化物形成的复合氧化铝磨粒。该复合磨粒为纳米级孔道结构，可降低磨料硬度，减小无机致密磨粒对基片的过度碰撞，以降低抛光损伤；该磨粒的化学组成上含有铁或铜、铈、镍、钛、银等抛光活性元素，可提高磨粒的化学作用，同时磨粒的多孔结构可吸附储存抛光液成分，提高磨粒的化学活性。化学作用的提高可提高磨粒的抛光速度，这样设计的磨粒可同时达到“高速率、高精度”抛光的目的。采用本发明提供的抛光液对电子器件如硬盘基片进行抛光，可以有效降低存储器硬盘基片表面的粗糙度，并具有高的抛光速度。
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公开(公告)号：CN102220087A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN201110114788.5
申请日：2011-05-05
Applicant: 上海大学
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明涉及一种用于计算机硬盘基片的抛光液，特别是一种可用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光，属于计算机存储器硬盘制造及表面抛光技术领域。本发明的抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料、氧化剂、分散剂、表面活性剂和水，其特点在于该抛光液含有多孔纳米氧化铝磨料。本发明的多孔纳米氧化铝抛光液组成及其重量百分比如下：多孔纳米氧化铝磨料1~10%；氧化剂1~6%；分散剂0.2~1.0%；表面活性剂0.1~1%；余重为水。采用本发明提供的抛光液对硬盘基片进行抛光，可降低基片表面的粗糙度。多孔纳米氧化铝的粒径为50~500nm，孔径为1~20nm；氧化剂为双氧水，分散剂为六偏磷酸钠，表面活性剂为十二烷基聚氧乙烯醚，水采用去离子水。
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公开(公告)号：CN101560956A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：CN200910052030.6
申请日：2009-05-26
Applicant: 上海大学
CPC classification number: Y02E10/74
Abstract: 本发明涉及一种可调叶片形状升力型立轴风力发电装置。它包括叶片、尾翼和风轮驱动的电机主轴。叶片为弯曲可变形状的叶片，其形状的改变是通过一个改变叶片形状装置来实现的，该改变叶片形状装置的结构是：尾翼带动一个凸轮，凸轮驱动一个连杆机构，连杆机构驱动叶片随转动相位的改变而弯曲改变形状，实现叶片在转动到圆周各个位置时改变形状以有效的提高风能利用率。
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公开(公告)号：CN101660502B
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN200910196578.8
申请日：2009-09-27
Applicant: 上海大学
CPC classification number: Y02E10/74
Abstract: 本发明涉及一种可控叶片表面运动速度及方向升力型立轴风力发电装置。它包括叶片、尾翼和风轮驱动的电机主轴。叶片为可调整攻角和控制表面运动速度及方向的叶片，叶片攻角的调整和表面运动速度及方向的控制是通过一个调控装置来实现的，该调控装置的结构是：尾翼带动一个凸轮槽，凸轮槽驱动一个连杆机构，连杆机构驱动叶片随转动相位的改变而改变叶片与来流的攻角，在改变攻角的同时控制叶片上可运动的表面转速以及转向的改变，实现叶片在转动过程中大攻角下抑制气流分离提高升力以有效的提高风能利用率。本发明能提高风力机的风能利用率，适用于任意来流风向，结构简单、易于实现。
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公开(公告)号：CN101660502A
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：CN200910196578.8
申请日：2009-09-27
Applicant: 上海大学
CPC classification number: Y02E10/74
Abstract: 本发明涉及一种可控叶片表面运动速度及方向升力型立轴风力发电装置。它包括叶片、尾翼和风轮驱动的电机主轴。叶片为可调整攻角和控制表面运动速度及方向的叶片，叶片攻角的调整和表面运动速度及方向的控制是通过一个调控装置来实现的，该调控装置的结构是：尾翼带动一个凸轮槽，凸轮槽驱动一个连杆机构，连杆机构驱动叶片随转动相位的改变而改变叶片与来流的攻角，在改变攻角的同时控制叶片上可运动的表面转速以及转向的改变，实现叶片在转动过程中大攻角下抑制气流分离提高升力以有效的提高风能利用率。本发明能提高风力机的风能利用率，适用于任意来流风向，结构简单、易于实现。
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