公开(公告)号：CN1119975A

公开(公告)日：1996-04-10

申请号：CN95106168.2

申请日：1995-06-02

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 中谷元 ,  杉立厚志 ,  出云正雄 ,  皆川忠郎 ,  八木俊憲 ,  头本信行 ,  南谷靖史 ,  松下嘉文

IPC: B23K26/00

CPC classification number: B23K26/046 ,  B23K26/04 ,  B23K26/043 ,  B23K26/048 ,  B23K26/066 ,  H05K3/0026 ,  H05K2203/056

Abstract: 一种用光束对工件进行光学处理的光学处理装置。该装置不管是否更换掩模和工件，均能自动将成像放大倍数调整至一预定值，并同时使成像放大倍数保持为常数，并能延长掩模的使用寿命。该装置包括一光源、一成像透镜、一掩模移动机构、一工件移动机构、一成像放大倍数改变机构以及一中央控制单元。该中央控制单元含有一实际成像放大倍数运算模块、一放大倍数判定模块、一光轴位移控制模块以及一位移控制模块。

公开(公告)号：CN1126644A

公开(公告)日：1996-07-17

申请号：CN95115694.2

申请日：1995-11-03

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 南谷靖史 ,  中谷元

IPC: B23H1/02

CPC classification number: H01S3/09713 ,  H01S3/0384 ,  H01S3/225

Abstract: 一种放电激发型脉冲激光装置，包括主放电电极和辅助放电电极。一电抗器串联连接到第一充电电容器，它由第一可饱和电抗器19构成，第二可饱和电抗器附加串接到第二充电电容器。在开关的杂散电感和电阻分量变成最小后，可饱和电抗器的电感首先降低，然后继之以第一可饱和电抗器的电感量降低。用于电晕放电和主放电的电压上升的陡峭度可以设置在一个较高的值，由此加速预电离，允许主放电均匀地产生。并使注入到主放电的能量增加，提高了激光输出功率和振荡效率。