配线结构的形成方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1527376A

    公开(公告)日:2004-09-08

    申请号:CN200410006520.X

    申请日:2004-03-04

    Abstract: 本发明提供一种配线结构的形成方法,它能够抑制由用于形成开口部的光致抗蚀剂膜产生的氮系化合物气体引起的图形不良的问题。该配线结构形成方法包括:在第一配线层上,形成第一绝缘膜以及用于抑制含氮气体透过的气体透过抑制膜的工序;在第一绝缘膜和气体透过抑制膜上形成第一开口部的工序;进行在第一开口部形成后实施热处理或者在真空下保持的至少任何一种的工序;其后,至少在第一绝缘膜上形成第二开口部的工序。

    静电动作装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101529712A

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200780040492.5

    申请日:2007-10-26

    CPC classification number: H02N1/006

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制电荷从驻极体膜流出的静电动作装置。该静电动作装置具备:包括可动电极(22)的可动电极部(20);和固定电极部(10),其设置为与可动电极部(20)间隔规定的距离而对置,并且包括能够蓄积电荷的驻极体膜(12)、以及形成在驻极体膜(12)的上表面的规定区域上的导电体层(13),驻极体膜(12)的形成有导电体层(13)的区域的表面形成为凸状。

    静电动作装置
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101529712B

    公开(公告)日:2012-06-27

    申请号:CN200780040492.5

    申请日:2007-10-26

    CPC classification number: H02N1/006

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制电荷从驻极体膜流出的静电动作装置。该静电动作装置具备:包括可动电极(22)的可动电极部(20);和固定电极部(10),其设置为与可动电极部(20)间隔规定的距离而对置,并且包括能够蓄积电荷的驻极体膜(12)、以及形成在驻极体膜(12)的上表面的规定区域上的导电体层(13),驻极体膜(12)的形成有导电体层(13)的区域的表面形成为凸状。

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