晶圆级测试卡的探针构造及其制造方法

    公开(公告)号:CN1210777C

    公开(公告)日:2005-07-13

    申请号:CN02100982.1

    申请日:2002-01-10

    Abstract: 一种晶圆级测试卡的探针构造及其制造方法,探针构造至少第一绝缘膜层涂布于基板之上,在第一绝缘膜层形成凹穴结构,且向内凹入,缓冲物填充于凹穴内,以吸收测量时接触待测物所造成的应力。第二绝缘膜层涂布于第一绝缘膜层及缓冲物之上,用以保护缓冲物,穿孔形成于第二绝缘膜层与第一绝缘膜层之中。电路图案形成于第二绝缘膜之上及填充于穿孔之中,第三绝缘膜层涂布于第二绝缘膜层及电路图案之上,用以防止电路图案氧化。垂直探针形成于电路图案上,并对应于缓冲物的区域。强化材质包覆垂直探针。以加强其硬度及增强其抗形变力。

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