微区共焦拉曼光谱探测系统

    公开(公告)号:CN110967330A

    公开(公告)日:2020-04-07

    申请号:CN201811162987.1

    申请日:2018-09-30

    Abstract: 本申请提供一种微区共焦拉曼光谱探测系统,通过第一分光单元以及第二分光单元实现了透射式的光路结构,使得拉曼散射光经过透射,传输至第一光谱探测单元与第二光谱探测单元进行拉曼光谱探测。经第一分光单元与第二分光单元可以分离出的第一路散射光与第二路散射光沿原路返回,沿光路传输至第一棱镜。并且,通过扫描探针可以增强拉曼散射,用以激发出样品的散射光,使得样品表面或近表面的电磁场的增强导致吸附分子的拉曼散射信号比普通拉曼散射信号大大增强,实现了在微区拉曼光谱中精确共焦、高空间分辨率以及高拉曼光谱分辨率的探测。

    纳米颗粒粒径测量系统
    72.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110455690A

    公开(公告)日:2019-11-15

    申请号:CN201910773638.1

    申请日:2019-08-21

    Abstract: 本申请提供一种纳米颗粒粒径测量系统。在匹配液中放置有第一光阻断结构和第二光阻断结构。第一光阻断结构设置于入射光束正向延长线上,用以吸收和反射光束,使其无法到达匹配池壁面与空气交界处发生反射。第二光阻断结构设置于多个散射光通孔接收的散射光束的反向延长线上,用于吸收和反射测量接收角互补角上的散射光束,使其无法到达匹配池壁面与空气交界处发生反射。通过匹配液、第一光阻断结构以及第二光阻断结构可以极大程度上减少传统纳米颗粒粒径测量系统中样品池壁面反射光的影响,并避免多个散射光通孔接收自身角度的散射光信号中混入反射光信息,从而大幅提高了测量结果的准确性。

    248nm深紫外高数值孔径科勒照明聚束镜

    公开(公告)号:CN104865689B

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201510159373.8

    申请日:2015-04-07

    Abstract: 一种248nm深紫外高数值孔径科勒照明聚束镜,包括设在同一光轴的前部中继镜组及后部成像镜组,该前部中继镜组由前后依次设置的第一至第三透镜组成;该后部成像镜组由前后依次设置的第四至第十二透镜组成,其中第十二透镜为平行平板镜片,在透射深紫外光线的同时用于支撑被测样品;该两个镜组安装在恒温密封套筒内,每一透镜安装在对应的透镜框内。本发明采用高数值孔径的科勒式照明设计,具有亮度均匀、不引入光源伪像、优化像差、抑制杂散光的优点,高数值孔径保证了很高的分辨力。实验证明紫外显微镜下本装置能对100nm线宽产生清晰轮廓像,适用于集成电路光刻掩模版、纳米几何结构栅格和MEMS/NEMS器件关键尺寸的检测照明。

    线条三维形貌测量方法及线宽测量方法

    公开(公告)号:CN105157557A

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:CN201510584024.0

    申请日:2015-09-14

    Abstract: 公开了一种基于前凸针尖原子力显微镜针尖对顶的线条三维形貌测量方法和线宽测量方法,所述线条包括顶部以及相对的第一侧壁和第二侧壁,所述三维形貌测量方法包括:采用第一探针扫描所述线条,以得到第一形貌曲线,所述第一形貌曲线至少包括第一侧壁的形貌;采用第二探针扫描所述线条,以得到第二形貌曲线,所述第二形貌曲线至少包括第二侧壁的形貌;将所述第一形貌曲线和第二形貌曲线合成第三形貌曲线,其中,所述采用第一探针扫描的路径和采用第二探针扫描的路径重叠;在所述线条的不同位置重复上述步骤以获得线条的三维形貌。

    一种计量型微纳台阶高度测量装置

    公开(公告)号:CN104567693A

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201510012759.6

    申请日:2015-01-09

    Abstract: 本发明公开了一种计量型微纳台阶高度测量装置,包括支撑系统以及安装在支撑系统上的白光显微测头、位移扫描系统和计量系统。本发明的有益效果为:该计量型微纳台阶高度测量装置主要用来测量微纳台阶的高度或沟槽的深度。系统采用粗细两级位移扫描系统,压电陶瓷驱动的纳米位移台可在微米级扫描范围内实现亚纳米级步进;压电陶瓷驱动的升降台可在毫米级扫描范围内实现亚微米级步进;Z向测量范围最大可达200微米。显微干涉测头采用白光光源(即采用白光显微测头),基于白光干涉原理,可实现0.1nm的Z向分辨率,同时可直接获得被测表面的三维形貌。采用激光干涉仪组成计量系统,将位移直接溯源到国际单位制中米定义的波长基准。

    用于共聚焦显微镜探测针孔的纳米级微位移调节装置

    公开(公告)号:CN209962001U

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201920818267.X

    申请日:2019-05-31

    Abstract: 本实用新型公开一种用于共聚焦显微镜探测针孔的纳米级微位移调节装置,由设置在下基座上的驱动器支撑上基座并对其进行快速、大行程的一级调节,由安装在上基座上的三维精密微位移平台对针孔盘进行三维方向的精密二级调节,通过上述双级调节可有效消除传统手动调节方式所带来的不确定性和不稳定性,以及现有光路调整机构可调行程小和应用范围受限的缺陷,并且上述一级大行程快速调节部分和二级精密微调部分可单独使用,以应用于相应需求场合。本实用新型通过控制器控制其进行纳米微位移调节,可使装置在工作过程中运行稳定、重复性好,从而使调节精度得到保障,实用性强。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种表面微观形貌测量传感器

    公开(公告)号:CN211696278U

    公开(公告)日:2020-10-16

    申请号:CN202020562698.7

    申请日:2020-04-16

    Abstract: 本实用新型公开一种表面微观形貌测量传感器,用于测量待测工件表面的形貌,包括:触针,用于测量微观形貌;触针轴,一端与所述触针连接,用于在所述触针测量微观形貌时跟随所述触针进行上下移动;磁恒力模块,与所述触针轴的另一端连接,用于调节所述触针与待测工件之间的测量力;触针轴气浮模块,环绕在所述触针轴外围,用于使所述触针轴悬浮;位移测量模块,设置在所述触针轴的正上方,用于测量所述触针轴在垂直方向上的位移。本实用新型通过触针轴气浮模块在触针轴外表面形成气隙,保证触针轴悬浮且摩擦最小,提高了触针测量的精度。通过磁恒力模块可调整触针与待测工件之间的测量力,以使触针将工件表面形貌更真实的传递给传感器。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    纳米颗粒粒径测量系统
    78.
    实用新型

    公开(公告)号:CN210571846U

    公开(公告)日:2020-05-19

    申请号:CN201921368547.1

    申请日:2019-08-21

    Abstract: 本申请提供一种纳米颗粒粒径测量系统。在匹配液中放置有第一光阻断结构和第二光阻断结构。第一光阻断结构设置于入射光束正向延长线上,用以吸收和反射光束,使其无法到达匹配池壁面与空气交界处发生反射。第二光阻断结构设置于多个散射光通孔接收的散射光束的反向延长线上,用于吸收和反射测量接收角互补角上的散射光束,使其无法到达匹配池壁面与空气交界处发生反射。通过匹配液、第一光阻断结构以及第二光阻断结构可以极大程度上减少传统纳米颗粒粒径测量系统中样品池壁面反射光的影响,并避免多个散射光通孔接收自身角度的散射光信号中混入反射光信息,从而大幅提高了测量结果的准确性。

    248nm深紫外高数值孔径科勒照明聚束镜

    公开(公告)号:CN204650060U

    公开(公告)日:2015-09-16

    申请号:CN201520202914.6

    申请日:2015-04-07

    Abstract: 一种248nm深紫外高数值孔径科勒照明聚束镜,包括设在同一光轴的前部中继镜组及后部成像镜组,该前部中继镜组由前后依次设置的第一至第三透镜组成;该后部成像镜组由前后依次设置的第四至第十二透镜组成,其中第十二透镜为平行平板镜片,在透射深紫外光线的同时用于支撑被测样品;该两个镜组安装在恒温密封套筒内,每一透镜安装在对应的透镜框内。本实用新型采用高数值孔径的科勒式照明设计,具有亮度均匀、不引入光源伪像、优化像差、抑制杂散光的优点,高数值孔径保证了很高的分辨力。实验证明紫外显微镜下本装置能对100nm线宽产生清晰轮廓像,适用于集成电路光刻掩模版、纳米几何结构栅格和MEMS/NEMS器件关键尺寸的检测照明。

    一种多维纳米位移装置
    80.
    实用新型

    公开(公告)号:CN212209444U

    公开(公告)日:2020-12-22

    申请号:CN202021474545.3

    申请日:2020-07-23

    Abstract: 本实用新型公开了一种多维纳米位移装置,包括固定框架、移动框架、移动台、第一驱动装置和第二驱动装置,移动框架套在移动台外周并与移动台形成柔性连接,且移动框架内壁与移动台外壁之间有间隙,固定框架套在移动框架外周并与移动框架形成柔性连接,固定框架内壁与移动框架外壁之间有间隙,移动台中部用于放置待测样品,固定框架的一侧框上固定设有至少两个第一驱动装置,第一驱动装置驱动移动框架和移动台往复移动,移动框架的一侧框上固定设有至少一个第二驱动装置,第二驱动装置驱动移动台往复移动,第一驱动装置的驱动方向与第二驱动装置的驱动方向垂直,该多维纳米位移装置能够提高重载大行程的纳米位移精度,以及修正运动过程中的偏摆。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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