用于线路的蚀刻液、制造线路的方法和包括此方法的制造薄膜晶体管阵列板的方法

    公开(公告)号:CN100371809C

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN02816648.5

    申请日:2002-07-03

    Inventor: 朴弘植 姜圣哲

    CPC classification number: H01L27/124 G02F1/136286

    Abstract: 在制造TFT阵列基板的方法中,在绝缘基板上形成栅线路。栅线路含有栅线、栅电极和与栅线相连的栅垫。依次形成栅绝缘层和半导体层。形成包括多个与栅线交叉的数据线、多个与数据线相连并位于栅电极附近的源电极、多个依照栅电极与源电极正对的漏电极以及与数据线相连的数据垫的数据线路。沉积形成保护层,在保护层上形成图案以形成至少使漏电极暴露的接触孔。在保护层上沉积银或银合金导电层。用包括磷酸、硝酸、乙酸、过氧一硫酸钾和超纯水的蚀刻液或包括硝酸、乙酸、乙二醇和超纯水的蚀刻液在保护层上形成图案,因此形成反射层。反射层是通过接触孔与漏电极连接的。

    电场读/写头及其制造方法、数据读/写装置

    公开(公告)号:CN101118750A

    公开(公告)日:2008-02-06

    申请号:CN200710008044.9

    申请日:2007-02-09

    CPC classification number: G11B9/02 Y10T29/49032

    Abstract: 本发明提供一种电场读/写头及其制造方法、以及包括该电场读/写头的数据读/写装置。该数据读/写装置包括用于写数据在记录介质上且从其读数据的电场读/写头。该电场读/写头包括半导体基板、电阻区域、源极和漏极区域、以及写电极。该半导体基板包括具有邻接边缘的第一表面和第二表面。该电阻区域形成为从位于该第一表面一端的中心部分向该第二表面延伸。该源极区域和该漏极区域形成在该电阻区域两侧并与该第一表面分隔开。该写电极形成在该电阻区域上,绝缘层置于该写电极与该电阻区域之间。该数据读/写装置通过硬盘驱动器(HDD)驱动系统进行驱动。

    薄膜晶体管面板的制造及清洁

    公开(公告)号:CN1979346A

    公开(公告)日:2007-06-13

    申请号:CN200610161859.6

    申请日:2006-12-05

    Inventor: 朴弘植

    CPC classification number: C11D11/0047 C11D7/263 C11D7/3281

    Abstract: 薄膜晶体管阵列面板的制造方法包括:在基板上沉积包含铝的第一薄膜、通过光刻法和蚀刻法对第一薄膜进行图案化、清洁包括第一薄膜的基板、以及在已清洁的基板上沉积第二薄膜。清洁是通过使用包含超纯水、环胺、焦酚、苯并三唑、以及乙二醇一甲醚的清洁材料进行的。该清洁材料包含大约85wt%至大约99wt%的超纯水、大约0.01wt%至大约1.0wt%的环胺、大约0.01wt%至1.0wt%的焦酚、大约0.01wt%至1.0wt%的苯并三唑、以及大约0.01wt%至1.0wt%的乙二醇一甲醚。

    电子装置及非暂时性存储介质
    77.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119946173A

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202411916973.X

    申请日:2019-06-14

    Abstract: 本公开提供了一种电子装置及非暂时性存储介质。根据各种实施例的电子装置,包括:第一结构,其能够相对于第二结构在关闭状态和打开状态之间移动;第二结构;柔性触摸屏显示层,其包括平面部分和可弯曲部分;处理器,其可操作地连接到柔性触摸屏显示层;以及存储器,其可操作地连接到处理器。该存储器存储有指令,该指令在被执行时,使得处理器:在关闭状态下,在平面部分的第一区域中显示至少一个第一对象并在平面部分的第二区域中显示至少一个第二对象,以及在打开状态下,在第一区域中显示至少一个第一对象并在可弯曲部分的第三区域中显示至少一个第二对象。

    薄膜晶体管面板的制造及清洁

    公开(公告)号:CN1979346B

    公开(公告)日:2012-08-15

    申请号:CN200610161859.6

    申请日:2006-12-05

    Inventor: 朴弘植

    CPC classification number: C11D11/0047 C11D7/263 C11D7/3281

    Abstract: 薄膜晶体管阵列面板的制造方法包括:在基板上沉积包含铝的第一薄膜、通过光刻法和蚀刻法对第一薄膜进行图案化、清洁包括第一薄膜的基板、以及在已清洁的基板上沉积第二薄膜。清洁是通过使用包含超纯水、环胺、焦酚、苯并三唑、以及乙二醇一甲醚的清洁材料进行的。该清洁材料包含大约85wt%至大约99wt%的超纯水、大约0.01wt%至大约1.0wt%的环胺、大约0.01wt%至1.0wt%的焦酚、大约0.01wt%至1.0wt%的苯并三唑、以及大约0.01wt%至1.0wt%的乙二醇一甲醚。

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