一种栅氧化层反熔丝PROM存储单元版图结构

    公开(公告)号:CN106783858B

    公开(公告)日:2019-11-19

    申请号:CN201611241186.5

    申请日:2016-12-29

    Abstract: 本发明公开了一种栅氧化层反熔丝PROM存储单元版图结构,包括:选择NMOS晶体管,第一存储NMOS晶体管、第二存储NMOS晶体管,衬底接触区域;选择NMOS晶体管包括:第一N注入源区、第一栅、第一N注入漏区、第一接触孔和第二接触孔;第一存储NMOS晶体管包括:第二N注入源区、第二栅、第二N注入漏区和第三接触孔;第二存储NMOS晶体管包括:第三N注入源区、第三栅、第三N注入漏区、第四接触孔;衬底接触区域包括:P注入有源区、第五接触孔和第六接触孔。本发明通过增加并联的存储晶体管,提高了存储单元的编程后等效电阻的一致性,保证了存储单元的可靠性,并通过P型衬底接触,增强了存储单元的抗单粒子闩锁能力。

    一种基于脉冲激光的集成电路FIB快速定位方法

    公开(公告)号:CN103699710B

    公开(公告)日:2016-05-18

    申请号:CN201310577122.2

    申请日:2013-11-18

    Abstract: 本发明涉及一种基于脉冲激光的集成电路FIB快速定位方法,根据集成电路版图所提供的布局布线信息,调整显微镜分辨率,找到需要做FIB的区域,然后利用脉冲激光轰击所述需要做FIB的区域,做出烧蚀光斑标记,需要做FIB的区域为集成电路版图中的金属线表面或者空白区域表面,采用本发明方法能够大大提高定位精度和定位效率,可用将传统定位方法大约2个小时左右缩短到20分钟以内,特别是对重复单元较大区域或顶层金属布局无特征参时,可以使其定位效率提高2~4倍。

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