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公开(公告)号：CN105891925B
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201610239620.X
申请日：2016-04-18
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种中心波长1064纳米偏振无关宽带高衍射效率双层反射型全介质光栅，包括由顶层光栅层、次层光栅层和次层光栅剩余层构成光栅顶部结构，以及由高折射率对比度全介质周期薄膜层和基底构成光栅底部结构，所述的顶层光栅层和次层光栅层为高折射率对比度材料，所述光栅的周期为833～1052纳米，占宽比为0.47～0.65。本发明的反射型全介质光栅在入射角度为‑1级利特罗角时，在入射光1020～1100纳米范围内可同时使TE、TM偏振方向的‑1级衍射效率高于95％，波段内最高衍射效率超过99％，且在较宽角谱(5°左右)和宽方位角谱(正负15°～正负20°)内具有高于95％的‑1级衍射效率，实现对偏振无关入射光的高效率衍射。
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公开(公告)号：CN106840610B
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201710011135.1
申请日：2017-01-06
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 一种真空环境下光学元件损伤阈值的测量装置和测量方法。采用等效光路法实现在真空环境中对光斑面积的准确测量和对测量过程中的光斑质量进行实时监测，确保对光学元件损伤阈值的准确测量。该装置可以在一次真空环境中实现对4片透、反射元件和衍射元件样品采用1‑on‑1、S‑on‑1、R‑on‑1和光栅扫描的方式进行损伤阈值测量，并能够对测试环境中的残余气体进行分析。且该设备能对测量过程进行自动控制并实现数据的自主采集，极大地提高了真空环境下光学元件的损伤测试效率。
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公开(公告)号：CN106840610A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710011135.1
申请日：2017-01-06
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01M11/02
CPC classification number: G01M11/02
Abstract: 一种真空环境下光学元件损伤阈值的测量装置和测量方法。采用等效光路法实现在真空环境中对光斑面积的准确测量和对测量过程中的光斑质量进行实时监测，确保对光学元件损伤阈值的准确测量。该装置可以在一次真空环境中实现对4片透、反射元件和衍射元件样品采用1‑on‑1、S‑on‑1、R‑on‑1和光栅扫描的方式进行损伤阈值测量，并能够对测试环境中的残余气体进行分析。且该设备能对测量过程进行自动控制并实现数据的自主采集，极大地提高了真空环境下光学元件的损伤测试效率。
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公开(公告)号：CN106772734A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201710000720.1
申请日：2017-01-03
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
CPC classification number: G02B5/1809 , G02B5/1861
Abstract: 一种宽带高衍射效率非对称形貌反射型光栅，其特点在于由顶部光栅脊结构、中间高反射率薄膜层和底部基底构成光栅结构，其中顶部光栅脊结构为非对称形貌，所述的非对称形貌为四边形的底角α和β不相等。本发明的非对称形貌反射型光栅在入射角度为‑1级利特罗角时，在80纳米带宽范围内可获得‑1级衍射效率高于95％，波段内最高衍射效率超过99％，且在较宽角谱内具有高于95％的‑1级衍射效率，实现在较宽的带宽和较宽的入射角范围内工作。本发明性能优越，结构简单，可大批量生产，在高功率激光领域具有重要的实用前景。
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公开(公告)号：CN102491649B
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201110363911.7
申请日：2011-11-16
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种减反射玻璃的制备方法，包括对硅酸盐玻璃基片清洗、激光预处理、浸入刻蚀水溶液刻蚀、清洗和烘干等步骤，获得减反射玻璃。本发明的优点：工艺简单、增透效果可控、经过激光预处理后的玻璃表面不仅腐蚀速度快速且均匀，并且能有效提高刻蚀后玻璃的激光损伤阈值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117406328A
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202311626430.X
申请日：2023-11-30
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 中长波红外波段的火山状衍射光栅及其制造方法，包括光栅衬底上的火山状光栅结构和外部反射层，所述火山状光栅结构由特定的结构函数描述，是一种新的全息式衍射光栅结构。该结构能够提供宽光谱和高效率的衍射光栅，在中长波红外波段具有通用性，在中长波红外脉冲压缩、光谱合束和光谱仪等领域具有重要的研究和应用价值。
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公开(公告)号：CN117269169A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311193323.2
申请日：2023-09-15
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种大口径光学元件表面纳米级缺陷并行扫描检测装置，包括：单频紫外激光器，用于产生检测激光束；达曼分束光栅，用于将单频紫外激光器发出的激光束分束，产生强度分布均匀的检测子光束；多焦点空间滤波系统，将各检测子光束聚焦后进行空间滤波，滤除高频杂散光，形成“干净”的检测子光束；扫描检测系统，用于对被检测光学元件进行扫描并记录表面缺陷及其空间分布。通过控制扫描反射镜、CCD相机转台的扫描速度实现大口径光学元件表面缺陷的快速检测。本发明采用紫外相干激光光源并结合并行光束扫描技术，解决了大口径光学元件表面纳米级缺陷高分辨快速检测难题，为超光滑大口径光学元件的加工检测提供了技术支撑。
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公开(公告)号：CN117233878A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202311151009.8
申请日：2023-09-07
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明属于光学技术领域，公开了一种弯曲叉形光栅结构，所述的弯曲叉形光栅中，所有处于各自周期相同相对位置的点所构成的曲线呈弯曲叉形分布，以使照射在弯曲叉形光栅的入射光转变为贝塞尔高斯光。本发明提供的弯曲叉形光栅相比于现有技术中获得贝塞尔高斯光的方法，光路更为简单，适用于宽波段。这种弯曲叉形可通过各种光栅实现，如金属光栅、介质光栅、或金属介质混合光栅，同时不影响它们的本征特性，如衍射效率、使用波段、衍射角度、偏振特性等，仅使衍射光场携带高阶贝塞尔相位。
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公开(公告)号：CN117192914A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311186275.4
申请日：2023-09-14
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种反射式双光束干涉曝光系统的像差调控方法，包括：构建反射式双光束干涉曝光系统，将激光器输出的光束分为两束强度相同的双光束，并形成干涉曝光场；构建像差调控系统，利用球面干涉仪分别对双光束光路的像差进行测试和记录，并利用可变形反射镜对双光束中任一路光束的波前进行调控，使其与另一路光束的像差相匹配，完成干涉曝光场像差的调控。本发明解决了基于大口径离轴抛物面反射镜的反射式双光束干涉曝光系统精密装调、波前像差控制等难题，为米量级大口径、低像差衍射光栅的制备提供了新的解决方案。
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公开(公告)号：CN116449472A
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202310262902.1
申请日：2023-03-17
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种用于脉冲压缩金光栅衍射效率带宽拓展的方法，其特征在于利用光栅镀膜的自遮挡效应和超短脉冲激光辐照的局部熔化，对光栅脊迎光面结构进行调控。包括以下步骤：光栅掩模制备、磁控溅射金膜镀制生成槽底凸起结构、构建光栅槽形和衍射效率与镀膜参数数据集、超短脉冲激光辐照、构建光栅槽形和衍射效率与辐照参数数据集、激光二维平面扫描光栅。本发明的可以精密调控光栅槽底的凸起结构、斜面结构，使原光栅的高衍射效率区向短波处拓展。本发明的方法兼容全息干涉光刻金光栅的全套工艺，产品口径可拓展至米级，在高能激光领域具有重要的经济和实用价值。
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