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公开(公告)号：CN112394436B
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202011336817.8
申请日：2020-11-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于1064纳米波段的非对称结构全介质反射式合束光栅，其特征在于该光栅由下而上依次分别是光栅基底、周期膜系、位相匹配层和倾斜矩形槽型剖面的顶部光栅。本发明适用于中心波长1064纳米波段，具有偏振不敏感、超宽带、高效率的特点，能满足小型化光谱合束系统对高线密度、宽带不敏感合束光栅的需求。特别适合于结构紧凑、对光源线宽要求较低的双光栅高能激光光谱合束系统。
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公开(公告)号：CN113805414B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202111181959.6
申请日：2021-10-11
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G03B21/14
Abstract: 本发明涉及一种曲面投影的方法，所需投影图像、所需投影曲面和初始源平面光场关联结构存在的对应关系式，通过所需投影图像灰度信息、所需投影曲面位置信息可推导初始源平面光场的关联结构信息，携带该关联结构初始源平面光场经过自由空间衍射可在所需投影曲面上投影所需投影图像。
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公开(公告)号：CN113337894A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202110557849.9
申请日：2021-05-21
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种在掺铈钇铝石榴石闪烁晶体表面使用反应离子束刻蚀的具有二维周期阵列的蛾眼式微结构，微结构参数包括周期、深度以及占空比，由闪烁体的中心发射波长决定。本发明的表面蛾眼式微结构能够有效提升掺铈钇铝石榴石晶体的光提取效率，增强闪烁体的光输出，本发明涉及工艺成熟，在辐射探测领域中具有重要应用价值。
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公开(公告)号：CN111595555B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN202010488462.8
申请日：2020-06-02
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种利用宽光谱比值实现光栅掩膜实时显影监测的装置和方法，装置包括超连续谱激光光源、声光滤波器、光阑、滤光片、偏振片、待显影光栅、显影液容器、准直透镜组、偏振分束镜、聚焦透镜、积分球、高速探测器和电子元件控制系统。超连续谱激光光源和声光滤波器用于产生不同波长的单色光束。准直透镜组用于缩束并收集不同出射角的光栅显影衍射光束。偏振分束镜用于将显影衍射光束分束为S偏振光和P偏振光。两组积分球和高速探测器分别用于测量S偏振光束和P偏振光束的衍射光束光强。电子元件控制系统用于数据采集和数据处理。本发明提供了一种通过S偏振光和P偏振光的宽光谱的比值来精确控制显影过程中的光栅掩膜形貌变化的装置和方法。
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公开(公告)号：CN110736561B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201911012197.X
申请日：2019-10-23
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种高功率激光系统中反射光学元件的制备及其测温方法，反射光学元件的制备包括步骤：在基底材料上利用磁控溅射镀制一层VO2相变薄膜；在VO2相变薄膜上镀制高反膜。由于VO2的相变特性，反射光学元件的透过率会随温度发生变化，高功率激光系统中测温方法包括利用接触式测温的方法测试反射光学元件在某一波长处透过率随温度变化的曲线；高功率激光系统中，增加该波长的探测激光入射至反射光学元件表面的辐照区域，并利用功率计测试探测激光的透过率；结合上述透过率随温度变化曲线利用透射率计算光学元件的表面温度。本发明相比红外热像仪测温的方法不仅成本较低，而且可以高精度的测试光学元件表面微米深度的温度变化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111595555A
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN202010488462.8
申请日：2020-06-02
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种利用宽光谱比值实现光栅掩膜实时显影监测的装置和方法，装置包括超连续谱激光光源、声光滤波器、光阑、滤光片、偏振片、待显影光栅、显影液容器、准直透镜组、偏振分束镜、聚焦透镜、积分球、高速探测器和电子元件控制系统。超连续谱激光光源和声光滤波器用于产生不同波长的单色光束。准直透镜组用于缩束并收集不同出射角的光栅显影衍射光束。偏振分束镜用于将显影衍射光束分束为S偏振光和P偏振光。两组积分球和高速探测器分别用于测量S偏振光束和P偏振光束的衍射光束光强。电子元件控制系统用于数据采集和数据处理。本发明提供了一种通过S偏振光和P偏振光的宽光谱的比值来精确控制显影过程中的光栅掩膜形貌变化的装置和方法。
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公开(公告)号：CN108732670A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201810742641.2
申请日：2018-07-09
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种800纳米中心波长的金属介质膜宽带脉宽压缩光栅，其特点是在石英基底上自底层向外层依次的金属层、剩余层和光栅层一体构成，所述的光栅层为梯形光栅，该梯形光栅的材料为SiO2；周期为500-680纳米；底部占空比为0.48-0.58；底角83°-86°；槽深860-930纳米。本发明在入射角度65°，在750-850纳米波段TE偏振的-1级反射衍射效率大于90％。入射波长800纳米激光以65°或17°入射至光栅表面，光栅对TE偏振光的-1级反射衍射效率大于90％。本发明的单脉冲面损伤阈值为0.4J/cm2@35fs，800±35nm。本发明可用作高功率超短脉冲激光系统的脉宽压缩光栅。
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公开(公告)号：CN112764327B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110184852.0
申请日：2021-02-10
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种双光束干涉曝光系统中光栅基板表面光刻胶涂层在线扫描曝光预处理装置，包括：连续紫外激光光源，用于对光栅基板表面光刻胶涂层进行曝光；双光束干涉曝光系统；干涉场扫描测量系统，用于对干涉曝光场的强度分布进行二维扫描测量；扫描曝光预处理系统，将来自连续紫外激光光源的激光光束调制为具有一定空间强度分布和一定宽度的线激光束，并辐照在待处理光栅基板涂覆光刻胶的光刻胶面上。通过控制空间光调制器输出强度分布和一维位移台扫描速度实现光刻胶纳米涂层不同位置、不同曝光剂量的预处理。本发明解决了双光束干涉曝光技术制备衍射光栅中因干涉光束强度分布不均匀导致的光栅掩膜不均匀性的技术难关。
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公开(公告)号：CN111580205B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN202010488461.3
申请日：2020-06-02
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种适用于54度～62度入射使用的宽谱脉宽压缩光栅，包括衬底以及所述衬底上的弦形光栅结构。所述弦形光栅结构的外形轮廓可由特定公式进行定义。所述的弦形光栅结构包括光敏材料光栅层和覆盖在光敏材料光栅层上的金属层。所述光栅的周期Λ为600～750纳米，占空比f1为0.4～1。所述弦形光栅层结构的槽深h为170～260纳米。所述金属层材料为金或者银(Au/Ag)，其厚度为100～220纳米。本发明的光栅中心波长为910纳米，在入射角θ为大角度54度～62度入射时，光栅的TM偏振光的‑1级衍射效率在200纳米(810～1010纳米)以上带宽范围内大于90％。本发明中的脉宽压缩光栅在拍瓦级啁啾脉冲压缩技术中具有重要的实用价值。
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公开(公告)号：CN110879433B
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201911167157.2
申请日：2019-11-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种基于光热折变玻璃的反射式体光栅制备方法，包括步骤：(1)曝光面进行精抛光；采用双束紫外平行光形成的干涉条纹对PTR玻璃进行曝光；采用450‑550℃的温度进行热显影；沿垂直于曝光入射面方向切割；对切割面精抛光处理后镀上对使用波长λ使透过率大于99.5％的全介质减反膜，完成反射式体光栅的制备。本发明通过调节曝光角度θ可实现对使用波长的调控，通过对曝光时长、热处理温度和时长实现对反射式体光栅的衍射效率(10％～99％)进行调控，通过切割厚度(0.3mm～30mm)调控实现对光谱半高宽(0.02nm～1nm)进行调控。通过工艺参数调节实现自由调控，且有利于实现规模化量产。
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