公开(公告)号：CN112384859A

公开(公告)日：2021-02-19

申请号：CN201880095046.2

申请日：2018-08-08

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 阿部邦彦 ,  峰岸裕司 ,  若林理

IPC: G03F7/20

Abstract: 本公开的一个观点的光刻系统的维护管理方法包含：按照每个构成光刻系统的1组单位的装置组即光刻单元整理工作信息并进行保存；整理每个光刻单元的与消耗品有关的维护信息并进行保存；根据每个光刻单元的工作信息和与消耗品有关的维护信息计算每个光刻单元的消耗品的标准维护时期；根据标准维护时期、停工时间的信息、每个光刻单元的或每个生产线的停工时间导致的损失成本信息，生成每个光刻单元的或每个生产线的维护调度计划；以及输出维护调度计划的生成结果。

公开(公告)号：CN112366500A

公开(公告)日：2021-02-12

申请号：CN202011244036.6

申请日：2016-09-08

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 浅山武志 ,  增田浩幸

IPC: H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/097

Abstract: 激光装置具有：腔室，其在内部配置有一对放电电极；气体供给排放装置，其向所述腔室的内部供给激光气体，并排放所述腔室的内部的激光气体；以及控制部，其构成为进行第1控制和第2控制，在该第1控制中，对所述气体供给排放装置进行控制，以一边进行激光振荡，一边向所述腔室内供给第1量的激光气体或从所述腔室内排放第1量的激光气体，在该第2控制中，对所述气体供给排放装置进行控制，以在所述第1控制之前，一边进行所述激光振荡，一边向所述腔室内供给比所述第1量多的第2量的激光气体或从所述腔室内排放所述第2量的激光气体。

公开(公告)号：CN109073463B

公开(公告)日：2021-01-12

申请号：CN201680084506.2

申请日：2016-05-19

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 守屋正人

IPC: G01J3/26 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139

Abstract: 一种波长检测装置，其使用至少一个标准具而检测从激光谐振器输出的紫外线激光的波长，波长检测装置包括：第1壳体，其对容纳标准具的内部空间进行封闭；输入窗口，其安装在形成于第1壳体的第1开口，将紫外线激光导入第1壳体内；第1密封部件，其对输入窗口的端缘部与第1开口的内周部之间的间隙进行密封；遮光膜，其配置在输入窗口的端缘部与密封部件之间，对从输入窗口朝向第1密封部件的紫外线激光进行遮挡；和扩散元件，其配置在第1壳体的外侧，在输入窗口的前级使紫外线激光扩散。

公开(公告)号：CN111670520A

公开(公告)日：2020-09-15

申请号：CN201880088479.5

申请日：2018-03-26

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 对马弘朗 ,  铃木夏志 ,  若林理

IPC: H01S3/036 ,  G03F7/20 ,  H01S3/00 ,  H01S3/225 ,  H01S3/23

Abstract: 激光气体管理系统包含：气体再生装置，其与多个准分子激光装置连接，将从多个准分子激光装置排出的激光气体再生为再生气体，向多个准分子激光装置供给再生气体；以及控制部，其判定多个准分子激光装置各自的至少一个参数是否超过预先决定的范围，在至少一个参数超过预先决定的范围的准分子激光装置的台数为2以上的情况下，控制部判定为气体再生装置异常。

公开(公告)号：CN108352673B

公开(公告)日：2020-07-24

申请号：CN201580084190.2

申请日：2015-12-10

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 熊崎贵仁 ,  石田启介 ,  古里博志

IPC: H01S3/13 ,  H01S3/00 ,  G01J3/28

Abstract: 窄带化激光装置可以具有：激光谐振器，其包含使谱线宽度窄带化的光学元件；分光器，其对从激光谐振器输出的脉冲激光所包含的多个脉冲检测分光强度分布；光谱波形生成部，其生成对多个脉冲的分光强度分布进行相加而得的光谱波形；装置函数存储部，其存储分光器的装置函数；波长频度函数生成部，其生成表示多个脉冲的中心波长的频度分布的波长频度函数；以及去卷积处理部，其使用装置函数和波长频度函数来对光谱波形进行去卷积处理。

公开(公告)号：CN111247626A

公开(公告)日：2020-06-05

申请号：CN201780096139.2

申请日：2017-12-21

Applicant: 极光先进雷射株式会社 ,  国立大学法人九州大学

Inventor： 池上浩 ,  若林理 ,  老泉博昭 ,  诹访辉

IPC: H01L21/22

Abstract: 一种激光照射方法，对在半导体基板上形成杂质源膜而构成的被照射物照射脉冲激光，其中，该激光照射方法包含以下步骤：A.读入照射到被照射物上所设定的矩形的照射区域的脉冲激光的每一个脉冲的注量和照射到照射区域的照射脉冲数，其中，在对被照射物照射照射脉冲数的脉冲激光的情况下，注量为杂质源膜产生烧蚀的阈值以上并且小于半导体基板的表面产生损伤的阈值；B.在设照射区域沿扫描方向的宽度为Bx、照射脉冲数为Nd、脉冲激光的反复频率为f的情况下，根据用Vdx＝f·Bx/Nd表示的关系式计算扫描速度Vdx；以及C.以反复频率f对照射区域照射脉冲激光，并使被照射物相对于照射区域相对地以扫描速度Vdx移动。

公开(公告)号：CN111226359A

公开(公告)日：2020-06-02

申请号：CN201780096036.6

申请日：2017-12-07

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 铃木章义 ,  若林理

IPC: H01S3/086

Abstract: 本公开的一个观点的激光照射系统具有：第1光学系统，其将第1激光变换为第2激光；多镜器件，其包含多个反射镜，能够控制多个反射镜的各个姿势角度，且该多镜器件通过对第2激光进行分割而向多个方向反射，生成分割后的多个激光；傅立叶变换光学系统，其使分割后的多个激光会聚；以及控制部，其以利用傅立叶变换光学系统使通过所述反射镜进行分割后的多个激光重叠的方式控制所述多个反射镜的姿势角度，其中所述反射镜彼此隔开所述第2激光的空间相干长度以上的距离。

公开(公告)号：CN108352674B

公开(公告)日：2020-05-19

申请号：CN201680063144.9

申请日：2016-11-08

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 藤卷洋介 ,  对马弘朗 ,  池田宏幸 ,  若林理

IPC: H01S3/225 ,  H01S3/036 ,  H01S3/134

Abstract: 准分子激光装置可以具有：光谐振器；腔室，其包含一对放电电极，配置在光谐振器之间，收容激光气体；电源，其接收触发信号，根据触发信号对一对放电电极施加脉冲状的电压；能量监视器，其计测从光谐振器输出的脉冲激光的脉冲能量；卤素气体分压调节部，其构成为能够执行腔室内收容的激光气体的一部分的排气和向腔室内的激光气体的供给；以及控制部，其取得能量监视器对脉冲能量的计测结果，根据脉冲能量的计测结果检测能量降低，根据能量降低的检测结果对卤素气体分压调节部进行控制，由此，对腔室内的卤素气体分压进行调节。

公开(公告)号：CN110800175A

公开(公告)日：2020-02-14

申请号：CN201780092681.0

申请日：2017-08-22

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 渊向笃 ,  若林理 ,  佐佐木阳一

IPC: H01S3/10

Abstract: 波长转换装置具有：A.晶体保持器，其对非线性晶体进行保持，该非线性晶体对所入射的激光进行波长转换而出射；B.第一容器，其收纳晶体保持器，包含入射窗口和出射窗口，其中，该入射窗口设置在向非线性晶体入射的激光的光路上，该出射窗口设置在从非线性晶体出射的激光的光路上；C.第二容器，其收纳第一容器；D.位置调整机构，其进行至少所述第一容器的位置调整；以及E.隔离机构，其将入射窗口和出射窗口在空间上与位置调整机构进行隔离。

公开(公告)号：CN110799902A

公开(公告)日：2020-02-14

申请号：CN201780092708.6

申请日：2017-08-29

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 五十岚豊 ,  峰岸裕司 ,  若林理

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本公开的数据分析装置具有：数据收集部，其从包含光源装置、曝光装置和晶片检查装置在内的多个装置分别取得各装置的分析对象的每个参数的数据，该曝光装置通过从光源装置输出的脉冲光对晶片进行曝光，该晶片检查装置进行由曝光装置曝光后的晶片的检查；图像生成部，其针对晶片，以晶片内的规定的区域为单位进行可视化，由此，对通过数据收集部从多个装置收集的多个参数的每个参数的数据分别进行图像化，生成多个装置的每个参数的多个映射图像；以及相关运算部，其针对晶片，对多个映射图像中的任意映射图像彼此进行图案匹配，求出多个装置的多个参数中的任意参数彼此的相关值。