公开(公告)号：CN111670520A

公开(公告)日：2020-09-15

申请号：CN201880088479.5

申请日：2018-03-26

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 对马弘朗 ,  铃木夏志 ,  若林理

IPC: H01S3/036 ,  G03F7/20 ,  H01S3/00 ,  H01S3/225 ,  H01S3/23

Abstract: 激光气体管理系统包含：气体再生装置，其与多个准分子激光装置连接，将从多个准分子激光装置排出的激光气体再生为再生气体，向多个准分子激光装置供给再生气体；以及控制部，其判定多个准分子激光装置各自的至少一个参数是否超过预先决定的范围，在至少一个参数超过预先决定的范围的准分子激光装置的台数为2以上的情况下，控制部判定为气体再生装置异常。

公开(公告)号：CN108141000A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201580083635.5

申请日：2015-11-13

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 铃木夏志 ,  八代将德 ,  若林理

IPC: H01S3/036

Abstract: 激光气体精制系统对从ArF准分子激光装置排出的排出气体进行精制而提供给ArF准分子激光装置，该ArF准分子激光装置使用包含氙气在内的激光气体，该激光气体精制系统可以具有：氙捕集器，其降低排出气体的氙气浓度；以及氙添加装置，其对通过氙捕集器后的排出气体添加氙气。

公开(公告)号：CN107925211A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201580082797.7

申请日：2015-10-27

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 铃木夏志 ,  八代将德 ,  若林理

IPC: H01S3/036 ,  B01D53/04 ,  B01D53/46 ,  B01D53/68

CPC classification number: H01S3/036 ,  B01D53/04 ,  B01D53/685 ,  B01D2251/404 ,  B01D2251/602 ,  B01D2251/604 ,  B01D2253/102 ,  B01D2253/108 ,  B01D2255/20753 ,  B01D2255/20761 ,  B01D2255/50 ,  B01D2256/18 ,  B01D2257/102 ,  B01D2257/104 ,  B01D2257/11 ,  B01D2257/2027 ,  B01D2257/204 ,  B01D2257/502 ,  B01D2257/504 ,  B01D2257/80 ,  B01D2258/0216 ,  H01S3/1024 ,  H01S3/104 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/2232 ,  H01S3/225

Abstract: 激光气体精炼系统作为将从使用包括氙气的激光气体的ArF准分子激光装置排出的排出气体精炼而供给到ArF准分子激光装置的激光气体精炼系统，具备：氙捕捉器，其降低排出气体的氙气浓度；及氙添加装置，其向通过了氙捕捉器的排出气体添加氙气。

公开(公告)号：CN108141000B

公开(公告)日：2021-01-12

申请号：CN201580083635.5

申请日：2015-11-13

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 铃木夏志 ,  八代将德 ,  若林理

IPC: H01S3/036

Abstract: 提供了激光气体精制系统和激光系统。激光气体精制系统是对从激光装置排出的激光气体进行精制，并使精制后的激光气体返回到激光装置的激光气体精制系统，该激光气体精制系统可以具有：第一配管，其导入从激光装置排出的激光气体；精制装置，其与第一配管连接，对从激光装置排出的激光气体进行精制；第二配管，其与精制装置连接，使被精制装置精制后的激光气体返回到激光装置；以及排气装置，其设置在第一配管、精制装置以及第二配管中的至少一个上。

公开(公告)号：CN119301734A

公开(公告)日：2025-01-10

申请号：CN202280096687.6

申请日：2022-07-27

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 铃木夏志

IPC: H01L21/268

Abstract: 激光装置具有：激光腔，其与气体循环系统连接，气体循环系统包含汇合配管，从包含激光装置在内的多个激光装置排出的排出气体在汇合配管汇合，气体循环系统选择包含氙的新气体和在汇合配管中流动的循环气体中的一方并将其供给到多个激光装置；排出配管，其被连接在激光腔与汇合配管之间，供从激光腔排出的排出气体朝向汇合配管流动；氟捕集器，其与排出配管的中途连接，在从激光腔排出的排出气体中至少去除氟；以及氙添加装置，其与排出配管的中途连接，在从激光腔排出的排出气体中添加氙浓度比新气体高的添加气体。

公开(公告)号：CN111670520B

公开(公告)日：2023-05-12

申请号：CN201880088479.5

申请日：2018-03-26

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 对马弘朗 ,  铃木夏志 ,  若林理

IPC: H01S3/036 ,  G03F7/20 ,  H01S3/00 ,  H01S3/225 ,  H01S3/23

Abstract: 激光气体管理系统包含：气体再生装置，其与多个准分子激光装置连接，将从多个准分子激光装置排出的激光气体再生为再生气体，向多个准分子激光装置供给再生气体；以及控制部，其判定多个准分子激光装置各自的至少一个参数是否超过预先决定的范围，在至少一个参数超过预先决定的范围的准分子激光装置的台数为2以上的情况下，控制部判定为气体再生装置异常。