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公开(公告)号:CN1776929A
公开(公告)日:2006-05-24
申请号:CN200510122238.2
申请日:2005-12-08
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及一种微型的霍尔元件,以通式为FexGe1-x的纳米晶铁锗颗粒薄膜磁敏材料作为活性层,其中x为铁金属颗粒所占的体积百分比,0.45<x<0.60,薄膜厚度为4~8纳米,采用“十”字形设计,活性层的线度在0.3~1微米。本发明的微型的霍尔元件的工作温度在-250℃到+200℃范围内,并具有125VA/T以上的霍尔电阻灵敏度,其线性度优于千分之三,热漂移小于140ppm/K,零磁场偏移量在千分之五以内。在航空、航天、军事等领域具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号:CN113571632B
公开(公告)日:2021-12-10
申请号:CN202111109797.5
申请日:2021-09-23
Applicant: 南开大学
IPC: H01L43/06 , H01L43/10 , H01L43/04 , H01L43/14 , C30B23/04 , C30B29/52 , C23C14/04 , C23C14/16 , C23C14/35
Abstract: 本发明提供了一种反常霍尔元件及其制备方法,以在单晶MgO(100)上外延生长的Fe、Cr共掺杂的单晶Ni薄膜作为活性层材料,活性层形状为“十”字形,薄膜厚度为2nm~30 nm,采用离子束沉积法生长。本发明的微型反常霍尔元件具有较小的体积,较大的反常霍尔电阻率,较小的电阻率和功耗,较宽的工作温度范围,在磁电信号转换等领域有广泛的应用。
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公开(公告)号:CN110129736A
公开(公告)日:2019-08-16
申请号:CN201910369713.8
申请日:2019-04-30
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及一种Fe/C60颗粒薄膜霍尔器件材料及其制备方法。该新型霍尔器件材料为纳米金属Fe颗粒随机分布于有机半导体C60母体中构成的Fe/C60复合薄膜,薄膜采用共蒸发的方法制备,制备过程中通过调控Fe和C60蒸发源的输入电流来改变Fe和C60的体积比,通过改变沉积时间来调控颗粒薄膜的厚度。该方法制备出的Fe/C60颗粒薄膜具有很高的反常霍尔电阻率和反常霍尔系数,反常霍尔电阻率的温度稳定性好。
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公开(公告)号:CN110038572A
公开(公告)日:2019-07-23
申请号:CN201910369715.7
申请日:2019-04-30
Applicant: 南开大学
IPC: B01J23/745 , B01J35/10 , C02F1/30 , C02F1/72 , C02F101/34 , C02F101/36 , C02F101/38
Abstract: 本发明提供了一种用于降解有机污染物的α-Fe2O3/Fe光催化剂及其制备方法,本发明所制备的催化剂α-Fe2O3/Fe为纳米片结构,大大增加了反应时与有机污染物的接触面积和活性位点数量,提高了有机物的降解速率;降解有机物的驱动力为光照,不需要其他外部能源消耗,是一种高效、节能、环保的有机物降解过程;本发明所涉及的光催化剂通用性强,对较大pH范围内的有机废水中有机物的都有很好的降解效果。
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公开(公告)号:CN103990795A
公开(公告)日:2014-08-20
申请号:CN201410242512.9
申请日:2014-05-30
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及一种Ni-Ni2O3纳米复合材料,特别是一种铁磁性的Ni-Ni2O3纳米复合材料及水热一步合成该材料的方法。其中Ni为纳米线形态,而Ni2O3为颗粒,通过二者的共同作用,使得材料在光学、光催化、磁性等方面的性能大幅提升。
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公开(公告)号:CN101789488B
公开(公告)日:2012-02-22
申请号:CN201010123102.4
申请日:2010-03-12
Applicant: 南开大学
Abstract: 一种薄膜材料及其制备方法,特别是一种可以应用于霍尔元件磁敏感活性层的Fe2.95Pt0.05O4薄膜材料及其制备方法。所涉及的纳米晶Fe2.95Pt0.05O4磁敏感薄膜厚度在4~400纳米;所涉及的纳米晶Fe2.95Pt0.05O4薄膜与传统的半导体薄膜相比,具有电阻率低、工作温度范围宽、线性度好、体积小等优点,而且制备简单、成本低,因而在航空、航天、军事等领域具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号:CN101789488A
公开(公告)日:2010-07-28
申请号:CN201010123102.4
申请日:2010-03-12
Applicant: 南开大学
Abstract: 一种薄膜材料及其制备方法,特别是一种可以应用于霍尔元件磁敏感活性层的Fe2.95Pt0.05O4薄膜材料及其制备方法。所涉及的纳米晶Fe2.95Pt0.05O4磁敏感薄膜厚度在4~400纳米;所涉及的纳米晶Fe2.95Pt0.05O4薄膜与传统的半导体薄膜相比,具有电阻率低、工作温度范围宽、线性度好、体积小等优点,而且制备简单、成本低,因而在航空、航天、军事等领域具有广阔的应用前景。
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