具有纳米晶铁锗颗粒薄膜磁敏材料活性层的霍尔元件

    公开(公告)号:CN1776929A

    公开(公告)日:2006-05-24

    申请号:CN200510122238.2

    申请日:2005-12-08

    Applicant: 南开大学

    Inventor: 刘晖 李志青

    Abstract: 本发明涉及一种微型的霍尔元件,以通式为FexGe1-x的纳米晶铁锗颗粒薄膜磁敏材料作为活性层,其中x为铁金属颗粒所占的体积百分比,0.45<x<0.60,薄膜厚度为4~8纳米,采用“十”字形设计,活性层的线度在0.3~1微米。本发明的微型的霍尔元件的工作温度在-250℃到+200℃范围内,并具有125VA/T以上的霍尔电阻灵敏度,其线性度优于千分之三,热漂移小于140ppm/K,零磁场偏移量在千分之五以内。在航空、航天、军事等领域具有广阔的应用前景。

    一种Fe/C60颗粒薄膜霍尔效应材料及制备方法

    公开(公告)号:CN110129736A

    公开(公告)日:2019-08-16

    申请号:CN201910369713.8

    申请日:2019-04-30

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明涉及一种Fe/C60颗粒薄膜霍尔器件材料及其制备方法。该新型霍尔器件材料为纳米金属Fe颗粒随机分布于有机半导体C60母体中构成的Fe/C60复合薄膜,薄膜采用共蒸发的方法制备,制备过程中通过调控Fe和C60蒸发源的输入电流来改变Fe和C60的体积比,通过改变沉积时间来调控颗粒薄膜的厚度。该方法制备出的Fe/C60颗粒薄膜具有很高的反常霍尔电阻率和反常霍尔系数,反常霍尔电阻率的温度稳定性好。

    新型颗粒薄膜磁电阻器件及制备

    公开(公告)号:CN104009153A

    公开(公告)日:2014-08-27

    申请号:CN201410242631.4

    申请日:2014-05-30

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明涉及一种Ni/P3HT颗粒薄膜磁电阻器件及其制备方法。该新型磁电阻器件在制备过程中采用旋涂与离子束沉积相结合的方法,该方法灵活简便,成本低,与现有薄膜工艺兼容性好,获得的薄膜质量较高,制得的磁电阻器件具有较高的室温磁电阻。

    用于霍尔元件的新型薄膜材料

    公开(公告)号:CN101789488B

    公开(公告)日:2012-02-22

    申请号:CN201010123102.4

    申请日:2010-03-12

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 一种薄膜材料及其制备方法,特别是一种可以应用于霍尔元件磁敏感活性层的Fe2.95Pt0.05O4薄膜材料及其制备方法。所涉及的纳米晶Fe2.95Pt0.05O4磁敏感薄膜厚度在4~400纳米;所涉及的纳米晶Fe2.95Pt0.05O4薄膜与传统的半导体薄膜相比,具有电阻率低、工作温度范围宽、线性度好、体积小等优点,而且制备简单、成本低,因而在航空、航天、军事等领域具有广阔的应用前景。

    用于霍尔元件的新型薄膜材料

    公开(公告)号:CN101789488A

    公开(公告)日:2010-07-28

    申请号:CN201010123102.4

    申请日:2010-03-12

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 一种薄膜材料及其制备方法,特别是一种可以应用于霍尔元件磁敏感活性层的Fe2.95Pt0.05O4薄膜材料及其制备方法。所涉及的纳米晶Fe2.95Pt0.05O4磁敏感薄膜厚度在4~400纳米;所涉及的纳米晶Fe2.95Pt0.05O4薄膜与传统的半导体薄膜相比,具有电阻率低、工作温度范围宽、线性度好、体积小等优点,而且制备简单、成本低,因而在航空、航天、军事等领域具有广阔的应用前景。

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